ELECTRO-OBTENCION (EO) DE COBRE ELECTROWINNING (EW)

Diagrama de Flujos del Proceso LIX-SX-EW

El Tesoro

Manto Verde

Lingada

Ctodos

EO de Cobre

ELECTRO OBTENCIN DE Cu

Nave de Electroltica

Celda Electroltica

Celda
Electrlito Anodo (+) Ctodo (-)

Solucin
H2O H2SO4 CuSO4 aditivos Impurezas

Electrlito

Celda

Anodo

Ctodo

Reacciones Principales
Anodo, oxidacin: ER: Cu ----> Cu2++2e EO: H2O ----> 2H+ + 0.5O2 + 2e E0 = -0.34V E0 = -1.23V

Ctodo, Reduccin del in cprico: ER y EO: Cu2++2e ----> Cu E0 = 0.34V Reaccin Neta en EO: CuSO4(ac) + H2O ---> Cu + H2SO4(ac) + 0.5O2(g)

Diagrama Tensin - pH para EW de Cu

Eh (Volt) 1

Cu2+ O2 H2O CuO Cu2O

0

CuO22-

H2O H2

-1

Cu

14

pH

ELECTRO-OBTENCIN (EO) DE COBRE

Ctodo

+
nodo

Electrlito: CuSO4 - H2SO4 40 g/L Cu, 180 g/L cido Impurezas: Fe (1 g/L), Mn, Cl Aditivos: CoSO4, guar

Cu

+2

O2 H 2O

Neblina cida (O2 + H2SO4)

icell = 250 350 A / m 2 Vcell = 2 V

Layout en Electro-Obtencin

10

11

Datos Operacionales Tpicos de EW de Cu

Electrolito Rico (*) Cu, g/L H2SO4, g/L Electrolito Pobre (*) Cu, g/L H2SO4, g/L Densidad de corriente, A/m2 Eficiencia de corriente, % (*) Voltaje de celda, Volt Consumo de energa, KWh/kg Cu (*) Incluye valores de EW directa 20 - 60 100 - 160 13 - 30 100 - 200 150 - 300 75 - 95 2.1 - 2.2 2 - 2.4

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Calidad Catdica

13

Calidad Catdica

Pureza
Composicin del electrolito

Aspecto
Distribucin de corriente, flujo de electrolito, aditivos, temperatura

COMPOSICION DEL ELECTRLITO

Especie H2O H2SO4 Cu Fe Mn Co Cl Pb Ag, Au Concentracin ms abundante 160-200 g/L 40-50 g/L 0.1-2 g/L 0.1-4 g/L 0.05-0.2 g/L 0.001-0.03 g/L trazas trazas

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Composicin del Ctodo

El Ctodo proviene de la EO de soluciones ricas procedentes de SX o de la ER del cobre blister

Cu (%) Ni (g/t) Pb (g/t) S (g/t) Te (g/t) Se (g/t) As (g/t) Sb (g/t) Bi (g/t) Ag (g/t) Au (g/t) O2 (g/t)

99.970-99.998 0.1-4.0 0.1-10 3-6 0.06-10 0.1-10 0.1-10 0.05-15 0.02-5 0.4-25 0.1-0.8 50-200

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ESPECIFICACION QUIMICA CATODOS DE COBRE

Calidad Grado "A"

Calidad Rechazados Concentracion Maxima

Calidad Standard Concentracion Maxima

Elem. Se Te Bi As Sb Pb S Fe Sn Ag

Unidad ppm ppm ppm ppm ppm ppm ppm ppm ppm ppm

Concentracion Maxima

1.0 1.0 1.0 2 1 3 9 5 12

2.0 2.0 2.0 5 4 5 15 10 25

10 2 3 15 15 25 30 25 10 25

Se usan valores en ppm. Sin embargo, es ms correcto usar valores en g/ton.

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EFECTOS QUIMICOS
IONIZACION SOLUBILIDAD <----> CONDUCTIVIDAD IONICA <----> DISOLUCION / CRISTALIZACION

REACCIONES EN SOLUCION: Oxidacin Reduccin Hidrlisis Precipitacin Complejacin

Solubilidad del sulfato de cobre en soluciones acuosas de cido sulfrico

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1.8 1.7 1.6 1.5 1.4 1.3 1.2 1.1 1.0 0 50

800 700 600 500 400 300 200 100 0 100 150 200 250 300 [H2SO4], (g/L)

Viscosidad y Conductividad Inica del Acido Sulfrico en Agua a 25C.

Diagrama Tensin - pH para EW de Cu

Eh (Volt) 1

Cu2+ O2 H2O CuO Cu2O

0

CuO22-

H2O H2

-1

Cu

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pH

Conductividad a 25C, (mS/cm)

Viscosidad a 25C, (mPa s)

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Potencial Redox
El potencial redox (Eh) corresponde a una medida del estado de oxidacin o reduccin de la mezcla de electrlitos disueltos en la solucin (equivale a un potencial mixto solucin-electrodo). Se mide con un electrodo de platino que incorpora una solucin de referencia (Ag/AgCl).

AgCl(S) + 1e < === > Ag(S) + Cl-,

E = 0.2 V

Electrodo de pH
H+ Li+
Buffered Internal Solution

H+ Li+

Ag/AgCI Internal Wire Buffered KCI Solution Stem Glass

Li+
External Aqueous Solution .03 to .1 mm .001 mm

pH Sensitive Glass

pH = pHref + [(F/ (2.303*R*T)] * (E Eref)

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Equilibrios en EW de Cu

E Cu2+/Cu = 0.34 + 0.06 log [Cu2+] E Fe3+/Fe2+ = 0.76 + 0.06 log {[Fe3+] / [Fe2+]} E H+/H2 = 0.00 + 0.06 log [H+] = - 0.06 pH

E O2/H2O = 1.23 + 0.06 log [H+] = 1.23 - 0.06 pH

Tensin de celda en EO de Cu Vcell, EO = Ee + a + |c| + IR R = (1/) (dac/A)

Ee = diferencia entre potenciales de equilibrio and. y catd., V = sobrepotencial, V I = intensidad de corriente, A R = resistencia elctrica, = conductividad, -1 m-1 dac = distancia nodo-ctodo, m A = rea superficial del ctodo, m2

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Conductividad del Electrlito

= F2

zi2 i Ci

(S/cm) (1/cm/)

Movilidad Inica

i =

Di RT

(S cm2/equivalente)

Difusividad Inica

Di

= RT i

(cm2/s)

Cada de Potencial en la Solucin

La resistencia del electrlito (Re) entre pares de electrodos depende de: - La distancia interelectrdica, (d). - El rea de los electrodos, (A). - La conductividad del electrolito, ().

Re

d * A

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Efecto del H2SO4

Aumenta la conductividad de la solucin y por lo tanto disminuye la resistencia ohmica del electrlito.
1.53 M H2SO4 y 0.1M CuSO4 ==> 1/ = 0.012 0 H2SO4 y 0.1M CuSO4 ==> 1/ = 0.740 .

Disminuye la contribucin de la migracin al movimiento de los iones Cu2+.

Propiedades Fsico-Qumicas
Conductividad Elctrica Densidad Viscosidad Conductancias Equivalentes y Coeficientes de Difusin a 25C y Dilucin Infinita
i (Scm2/equiv.) 349.8 54.0 197.6 80.0 Di (cm2/s) 9.312 0.720 5.260 1.065

H+ Cu2+ OHSO42-

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Cmo se Determinan , y ?
Mediciones Estimaciones (Price & Davenport 1980; 1981):

(S/cm) = 0.134 0.00356(Cu, gpl) + 0.00249(H2SO4, gpl) + 0.00426(T, C)

1/ (S/cm) = 3.2 + 10-3 * [1.3(As, gpl) + 7.3(Cu, gpl) + 4.5 (Fe, gpl) 5.6(H2SO4, gpl) + 9.6(Ni, gpl) 14.6(T, C)]

CH +

CCu 2+

( g / cm3 ) = 1.0186 + 0.0024(Cu, gpl )

+ 0.00054( H 2 SO4 , gpl ) 0.00059T ( C )

(cp )
10
6

2 = 1592 + 0.0108( H 2 SO4 ) + 2.373( H 2 SO4 ) + ...

1890 ... + 29.93(Cu ) + 76.48 (Cu ) exp T + 273.15

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Consumo de Energa Elctrica

Eficiencia de corriente: = i ij: densidad de corriente utilizada en la deposicin del cobre. i: densidad de corriente total aplicada. Energa Elctrica total, E:
E
c e ld a

ij

nV

c e ld a

i 0 .0 3 6 j i

kW h m ol

Resistencia Elctrica de las Soluciones

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