Ablao de slidos por LASERs de femtosegundos: Mecanismo de ablao e limiares de ablao para metais e dieltricos.

Gamaly, E. G.. Rode, A. V.. Luther-Davies, B. Ablation of solids by femtosecond lasers: Ablation mechanism and ablation thresolds for metals and dielectrics. Physics of Placas. March, 2002.

ABSTRACT
Mecanismo de ablao de slidos por intensos pulsos laser de femtosegundos descrito em uma forma analtica explicita. mostrado que em altas intensidades quando a ionizao do material alvo completamente antes do final do pulso, o mecanismo de ablao o mesmo para metais e dieltricos. A fsica deste novo regime de ablao envolve acelerao de ons em um campo eletrosttico causado pela separao de cargas criada pelos eltrons energizados escapando do alvo. As formulas para limiares de ablao e taxas de ablao para metais e dieltricos, combinando com os parmetros do laser e do alvo, so derivadas e comparadas aos dados experimentais. O calculo da dependncia dos limiares de ablao na durao do pulso est de acordo com os dados experimentais no alcance dos femtosegundos, e esta ligada dependncia em pulsos de nanosegundos.

I INTRODUO: MODO DE INTERAO PULSOS DE LASER ULTRACURTOS - MATRIA.

O ligeiro desenvolvimento do laser de femtosegundos na ultima dcada deu incio a uma ampla gama de novas aplicaes industriais, cincia dos materiais e medicina. Um importante efeito fsico a remoo de matria, ou ablao a laser, por pulsos de femtosegundos, o qual pode ser usado para deposio de pelculas finas, criao de novos materiais, micro usinagem; e at em artes, na restaurao e limpeza de quadros. Ablao por laser de femtosegundos tem uma importante vantagem nestas aplicaes em comparao com ablao usando pulsos de nanosegundos, pois h um pequeno, ou at nenhum, dano colateral devido s ondas de choque e a conduo de calor produzidas no material que a ser processado. A fim de escolher o laser e parmetro do alvo ideais proveitoso ter relaes escalares simples, as quais prediro as condies de ablao para um material arbitrrio. Neste artigo ns apresentamos uma descrio analtica do mecanismo de ablao e obtemos formulas analticas apropriadas.

No intuito de remover um tomo de um slido por meio de um pulso de laser devese fornecer nveis de energia superiores em relao a energia de ligao deste tomo. Assim, para fazer ablao da mesma quantidade de matria com um pulso mais curto devem-se aplicar intensidades mais altas de laser, aproximadamente inversamente proporcional a durao do pulso. Por exemplo, ablao a laser com pulsos de 100fs exige intensidades na ordem de 1013 ~ 1014 Wcm2, enquanto pulsos de cerca de 30 100ns realiza a ablao do mesmo material em intensidades na ordem de 10 8 ~ 109 Wcm2. Em intensidades em torno de 1013 ~ 1014 Wcm2 a ionizao de praticamente qualquer material alvo ocorre no incio do tempo do pulso. Por exemplo, se um intenso, 10 13 ~ 1014 Wcm2, pulso de femtosegundos interage com um dieltrico, quase toda ionizao simples[1] do alvo ocorre no incio do pulso de laser. Aps a ionizao, a energia do laser absorvida pelos eltrons livres devido aos mecanismos inverso de Brehmsstrahlung[2] e absoro ressoante, e no depende do estado inicial do alvo. Consequentemente, a interao tanto nos metais quanto nos dieltricos procede de maneira semelhante, o que contrasta com a situao com um pulso longo onde ablao de metais ocorre em intensidades relativamente baixas quando comparado a um dieltrico transparente cuja absoro insignificantemente pequena. Outra caracterstica distinta do modo de interao de curto o tempo de transferncia de energia dos eltrons para os ons pelas colises coulombianas[3] significantemente maior (picosegundos) do que pulsos de laser de durao ( tp ~ 100fs). Portanto, o movimento hidrodinmico convencional[4] no ocorre durante o tempo de interao femtosegundos. H duas foras que so responsveis pela transferncia de momentum do campo do laser e os eltrons energizados para os ons na zona de absoro: uma devido ao campo eltrico da separao das cargas, e a outra a ponderomotive force[5]. A separao das cargas ocorre se a energia absorvida pelos eltrons superior energia de Fermi[6], a qual aproximadamente a soma da energia de ligao e a funo trabalho, ento os eltrons podem sair do alvo. O campo eltrico da separao das cargas puxa os ons para fora do alvo. Simultaneamente, a ponderomotive force do campo do laser na camada superficial empurra os eltrons para o interior do alvo. Abaixo, ns demonstramos que o antigo mecanismo domina o processo de ablao para pulsos de lasers abaixo de picosegundos

com intensidades cerca de 1013 ~ 1014 Wcm2. Este mecanismo de ablao de matrias por pulsos lasers de femtosegundos bem diferente da ablao trmica por pulsos longos. Ablao a femtosegundos tambm sensitivo a dependncia temporal e espacial da intensidade do pulso de laser. A tcnica de amplificao de pulso chirpado (CPA), normalmente usada para gerao de pulsos curtos, pode produzir um pulso (curto) principal acompanhado por um pr-pulso de nanosegundos ou base que seja intensa o suficiente para fazer ablao do alvo. Por isso, uma importante condio, para realizao prtica de um puro modo de interao de femtosegundos, deve ser que a intensidade em qualquer pr-pulso seja menor que o limiar para ablao ou ionizao no regime de nanosegundos. Existem, felizmente, vrios mtodos para conseguir pulsos de alto contraste (absorvedores no-lineares, converso para a segunda harmnica, e etc). Um modelo analtico muito simples e direto pode descrever o modo de interao laser-matria com pulsos ultracurtos. As caractersticas principais deste modelo foram desenvolvidas mais de 10 anos atrs em ligao com a interao laser-matria ultracurta de super intensidade. E depois, este modelo modificado e aplicado a problemas de ablao a laser em intensidades relativamente moderadas, prximas ao limiar de ablao para slidos. O coeficiente de absoro, ionizao, taxa de ablao e limiares de ablao para metais e dieltricos so expressos em termos de parmetros do laser e do alvo por formulas explicitas. A comparao com modo de interao de pulso longo e os dados experimentais so apresentados e discutidos.

II PENETRAO DO CAMPO DO LASER DENTRO DO ALVO: EFEITO SUPERFICIAL TRANSITRIO

A durao da interao de pulso de laser de sub-picosegundos com um alvo slido parece ser menor que qualquer tempo de relaxao caracterstico: tempo de transferncia de energia eletron-on, tempo de conduo de calor do eltron, e , portanto, a hidrodinamica, ou o tempo de expanso. Deste modo, um pulso laser de femtosegundos interage com um alvo slido com densidade permanecendo quase constante durante o pulso de laser. O principal processo durante a interao laser-alvo o aquecimento do eletron pelo campo de laser. O campo eletromagntico do laser no alvo pode ser encontrado como uma soluo da equao de Maxwell juntamente com as equaes do material. A soluo simples quando os parametros do material so constantes no tempo e

espao, e independentes da intensidade incidente. Neste caso, a interao cai no bem conhecido efeito pelicular. Entretanto, na interao laser-matria de femtrosegundos o nmero de densidade de eltrons ne (e ento a frequencia do plasma (pe), a frequencia de coliso eficiente de eltrons (eff), o coeficiente de absoro A, e a profundidade pelicular ls, sendo todas funes da intensidade do laser e do tempo. Uma soluo autosustentada de acoplamento das equaes de campo e do material se tornam mais complicadas.