UNIVERSIDADNACIONALDEINGENIERA

FACULTADDEINGENIERAQUMICAYTEXTIL

INFLUENCIADELASVARIABLESDEOPERACINDELPROCESODE
ANODIZADODELALUMINIOSOBREELCOMPORTAMIENTO
ANTICORROSIVODELA PELCULADEXIDODEALUMINIO

TESIS
PARAOPTAREL GRADOACADMICODEMAESTROEN
INGENIERA DEPROCESOS

PRESENTADOPOR

ABELFERNANDOVERGARASOTOMAYOR

LIMAPER
2010

INFLUENCIADELASVARIABLESDEOPERACINDELPROCESODE
ANODIZADODELALUMINIOSOBREELCOMPORTAMIENTO
ANTICORROSIVODELA PELCULADEXIDODEALUMINIO
INDICE
INTRODUCCIN
CAPITULOI
PROCESODEANODIZADO
Pgina
1.1. ProcesodeAnodizado....3
1.2. Tratamientodesuperficie3
1.2.1. Tratamientomecnico..5
1.2.2.Desengrasado...5
1.2.3.Decapado.6
1.2.4. Soda.7
1.2.5.Neutralizado.8
CAPITULOII
MORFOLOGAYESTRUCTURADELXIDODEALUMINIO
2.1. MorfologadelapelculadeAl2O3 ...9
2.2. Mecanismodeformacindelapelculadel Al2O3 ..10
2.3. Inclusindelelectrlitoycontenidodeaguaenlapelculadexido..12
2.4, Espesordelacapadexido..14
CAPITULOIII
FACTORESQUEAFECTANLANATURALEZAYPROPIEDADESDEL
RECUBRIMIENTODEXIDODE ALUMINIO
3.1. Influenciadelmetalbase...17
3.2. Influenciadel electrlito....21
3.3. Influenciadelascondicionesdeoperacindelanodizado
3.3.1.Concentracindelelectrlito..23
3.3.2. Temperaturadelelectrlito.26
3.3.3.Agitacin .29
3.3.4.Densidaddecorriente.29
3.3.5.Duracindelprocesodeanodizado....32
IV

3.3.6.Concentracindealuminiodisuelto....32
3.3.7.Aumentodelatemperaturaduranteel procesodeanodizado....34
3.4. Selladodelrecubrimiento..35
CAPITULOIV
SELLADODELRECUBRIMIENTO
4.1. Determinacindelosparmetrosdelselladohidrotrmico.Elefectodeltiempo,
temperaturaypH..38
CAPITULOV
CONTROL DELRECUBRIMIENTOANDICODELXIDODEALUMINIO
5.1. Controldelapelculadelxidodealuminio........41
5.2. Aspectodelasuperficie41
5.2.1. Evaluacindelasuperficiedelxido42
5.3. Espesordelrecubrimiento43
5.3.1.Medicindelespesordelrecubrimiento
5.3.1.1. Mtodomicrogrfico..44
5.3.1.2. Mtodogravimtrico..44
5.3.1.3. Mtododecorrientesinducidas.45
5.4. Calidaddelsellado..45
5.4.1. Evaluacindelacalidaddelsellado.46
5.4.1.1. Ensayodelagotadelcolorante.46
5.4.1.2. Ensayosdeinerciaalaaccincida..46
5.4.1.3. Medidasdeimpedanciaodeadmitanciadelrecubrimiento..48

CAPITULOVI
IMPEDANCIAELECTROQUIMICA
6.1. Impedanciaelectroqumica.. 49
6.2. Procesodecorrosinsimple53
6.3, Controlpordifusin ........56
6.4. Controlporinductancia.......58
6.5. Caracterizacindelacapaporosadelaluminio......59

CAPITULOVII
PROCEDIMIENTOEXPERIMENTAL
7.1. Preparacin delaprobeta..63
7.2. Procesodeanodizado63
7.2.1. Pretratamientodelasuperficiedealuminio..63
7.2.2.Anodizado..65
7.2.3. Sellado....70
7.2.4.Resultadosexperimentalesdelprocesodeanodizado...70
7.2.5.Discusindelosresultadosexperimentales
delprocesodeanodizado.. 75

7.3. PruebadeImpedanciaElectroqumica
7.3.1.MedicindelaResistenciadePolarizacinRp..86
7.3.2.DiscusindelosresultadosexperimentalesdeImpedancia
Electroqumica......94

CONCLUSIONES.. 101
BIBLIOGRAFIA
ANEXOS
ANEXOI
Principalespropiedadesdelasaleacionesdealuminio
ANEXOII
Condicionesdeoperacin
ANEXOIII
Medicindeespesor
ANEXOIV
PreparacindelasolucindeH2SO4
ANEXOV
EnsayodeImpedanciaElectroqumica
VI

ANEXOVI
DiagramadeBodedel xidodealuminiosellado
ANEXOVII
DiagramadeBodedelxidodealuminiosinsellado
ANEXOVIII
CircuitoElctricodeunacapadexidodealuminiosellado

VII

INFLUENCIADELASVARIABLESDEOPERACINDELPROCESODE
ANODIZADODELALUMINIOSOBREELCOMPORTAMIENTO
ANTICORROSIVODELA PELCULADEXIDODEALUMINIO

RESUMEN
Estetrabajodetesistratadeundetalladoestudiodelprocesodeanodizadodelaluminio,
siguiendo el mismo procedimiento que se realiza a nivel industrial. Se determin como
variablesdeoperacindemayorinfluencialossiguientesparmetros:concentracindela
solucincida,temperatura ydensidaddecorriente,manteniendo constanteeltiempode
operacin,elcualfuede45minutos.Elobjetivodeltrabajoesestablecerelrangoptimo
de estas variables, que permita obtener una pelcula de xido de aluminio, donde se
mantenga su apariencia esttica pero tambin posea una alta resistencia a la corrosin
despusdelprocesodesellado.

ElprocesodeanodizadoserealizusandounasolucinacuosadeH2SO4. Lasuperficiede
lasplacasdealuminiousadasparaelanodizadofuerontratadas qumicamenteconel fin
deeliminarlasmarcasdelaextrusininherentealprocesodeproduccindelasmismas,
yeliminarelxidodealuminioqueseprodujoaltenercontactoelaluminioconelmedio
ambiente.

Como material de partida, para el experimento, se utiliz una aleacin de aluminio

denominada Al 6063, que es el mismo material utilizado en la industria peruana para
producirperfilesyasean enformaplanaoangular,ysobrelacualserealizaunprocesode
anodizado.

Los cambios de variables del proceso de anodizado que se consideraron en este estudio
fueron: densidad de corriente (1 1,5 2 A/dm2), temperatura (15 20 25C) y
concentracin (10 15 20%) de la solucin H2SO4. Se estableci la influencia de estas
variables y las condiciones ms adecuadas para la formacin de la pelcula de xido de
aluminioporosoquepresentla mayorresistenciaalacorrosin,luegoquelaspelculas
dexidodealuminiofueronselladasdurante30minutos.Paradeterminarelefectosobre
estaresistenciaseutilizelensayodeImpedanciaElectroqumica.

VIII

INFLUENCEOFOPERATINGVARIABLESOFALUMINUMANODIZING
PROCESSONTHECORROSIONBEHAVIOROFALUMINUMOXIDEFILM

ABSTRACT

Thisthesis isadetailed studyofthealuminumanodizingprocess, followingthesame

procedure done on an industrial scale. The variables were identified as the most
influential in the operation with the following parameters: concentration of the acid
solution, temperature and current density at constant time operation, which was of45
minutes.Thestudyaimstoestablishtheoptimumrangetoobtaina filmofaluminum
oxide,whichretains itsaestheticappeal butalsopossessesa high corrosionresistance
aftersealingprocess.

TheanodizingprocesswasperformedusinganaqueoussolutionofH2SO4.Thesurface
of the aluminum plates were used for anodizing the chemically treatedto remove the
marks of the extrusion process inherent in producing them. The removal of the
aluminumoxideisproducedbycontactwiththemediumaluminum environment.

As starting material for the experiment, we used an aluminum alloy called Al 6063,
which is the same material used in the Peruvian industry to produce profiles in either
flatorangular,andwhichperformsaprocessofanodizing.

Thechangesintheanodizingprocessvariablesthatwereconsideredinthisstudywere:
currentdensity(1 1,5 2A/dm2),temperature(15 20 25C)andconcentration(10 15
20%) of the H2SO4 solution. Having established the influence of these variables and
which were the most suitable for film formation of porous aluminum oxide with the
greatest resistance to corrosion, then the aluminum oxide films were sealed for 30
minutes.TodeterminetheeffectonthisresistancetheElectrochemicalImpedanceTest
wasused.

INTRODUCCIN
El aluminio como metal, cuando es expuesto al ambiente se empieza a oxidar,
produciendounadisminucinensuresistenciamecnicaascomoeneldeteriorodesu
apariencia esttica. Para evitar y controlar esta situacin se realiza el denominado
procesodeanodizado,quesedenominaasdebidoaqueelaluminioseconvierteenel
nodo electroltico, y esto lo diferencia de la galvanoplastia, en que el material de
trabajopuedeonoestarconformandoelelectrodo.

Elprocesodeanodizadoconsisteenlaconversinandicadelasuperficiedealuminio
formando una pelcula de xido de aluminio porosa a esta pelcula de xido de
aluminio,deacuerdoalprocesamientoaplicadoparasuobtencin,selecaracterizayse
determinasuresistenciaalacorrosin.Elaluminioanodizadopuedeobtenerseapartir
deunaampliavariedaddeelectrolitos,empleandodiferentescondicionesdeoperacin,
como:concentracindeloselectrolitos,presenciadelosaditivos,temperatura,voltaje,
densidaddecorrienteytiempodeoperacin[9].

Deacuerdoalascondicionesempleadasenelproceso,puedenvariarselaspropiedades
finalesdelmaterialresultante(aluminioanodizado).

Actualmente en el Per hay un sin nmero de construcciones como supermercados,

grandes complejos habitacionales, que son construidos en tiempo cortos, donde los
acabados son en base a aluminio anodizado, no solo porque destaca como material,
desdeelpuntodevistaesttico,sinotambinporsuspropiedadesmassingularescomo
son:suresistenciaalacorrosinysubajadensidad,lascualeshanpermitidotenerun
materialconmenorescargasmecnicasymayordurabilidad,quesondeseablesentoda
construccincivil.

Esta tesistienecomoobjetivos:
1.Estudiaranivellaboratorioelprocesodeanodizado,siguiendoel procedimientoque
serealizaa nivel industrial.
2. Determinar los parmetros del proceso y el rango de variacin ptimo de los
mismos,quepermitan formar lapelculadexidodealuminio yquepresentenla
mayorresistenciaalacorrosinmedianteelmtododeImpedanciaElectroqumica.

Aunquenoeselobjetivodeesteproyectodetesiselestudiodelmtododeimpedancia
electroqumicaqueseutilizaparamedirResistenciadePolarizacin :
1.Resultaserunatcnicaparaobtenervaloresdelaresistenciaalacorrosindelxido
de aluminio ms representativos que cualquier otra tcnica de medicin por
mtodoselectroqumicos.
2. Este mtodo puede ser usado para cualquier tipo de material, por lo que sus
limitaciones son mucho menores que cualquier otro mtodo electroqumico de
medicin.
3.Eltiempoquenecesitapararealizar las medicionesderesistenciaa lacorrosines
bastantecortoconrespectoaotrosmtodoselectroqumicosuotrosmtodos. Porlo
quepuedeservircomocontroldecalidaddecualquiermaterialencualquiertipode
industria.

CAPTULOI
PROCESODEANODIZADO
El proceso de anodizado, consiste en producir una pelcula de xido de aluminio sobre la
superficiemetlicadealuminioenformaderecubrimiento,enunmedioelectrolticoycon
la intervencin de una fuente externa de corriente elctrica. Si la fuente es de corriente
continua,seconectaelpolopositivodelafuentealaluminioenlaqueseformalapelcula.

Figura1.1. Celdaelectrolticadelanodizado

Lafigura1.1,muestraelsistemacondoselectrodosdealuminioconectadosala fuentede
corriente continua. El voltmetro y el ampermetro son colocados en paralelo y en serie
respectivamente, con respecto a los electrodos, completando as el circuito elctrico. El
electrolitoenlaceldapuedenserloscidos:sulfricodiluido,crmico,oxlicoofosfrico
ounacombinacindeellos, siendoel cidosulfricoelquemayormenteseemplea.

Figura1.2.Formacindelacapabarreraendistintoselectrlitos.La
corriente es mayor o menor segn la actividad del
electrlitosea : a. grandeb. moderadac. pequea [1]

LaFigura1.2,muestraquecuandounvoltajeseestableceentreloselectrodosparaproceder
al anodizado, la intensidad de corriente inicial disminuye paulatinamente, hasta una
intensidad de corriente que permanece prcticamente constante durante todo el proceso
electroltico estacorrientevarasuvalordependiendodelaactividaddelelectrlito.

Tabla1.1. Condicionesdeoperacin usualesparaproducir

pelculasdexidodealuminio[1]
Densidadde Espesorde
corriente
pelcula
(A/dm2)
(m)

Electrlito

Temperatura
(C)

Potencial
(V)

AcidoSulfrico
1015%peso

1524

1022

13

350

Transparenteo
blanco

AcidoCrmico
310%peso

3040

3050

0,30,4

28

Grisopaco

AcidoOxlico
38%peso

2040

3060

13

1060

Amarillo
transparente

Apariencia

Latabla1.1,nosproveelosrangosdecondicionesdeoperacinpararealizarelprocesode
anodizadodelaluminioendiferenteselectrlitos.

Lasreaccionesqueseproducen sobrelasuperficiedeloselectrodosson :

Ctodo:

2H+ +2 e

nodo:

2Al3+ +3H2O

H2
Al2O3 + 6 H+ + 6 e

Como se observa en la reaccin anterior,en elnodo se formaun xido de aluminio

(Al2O3), donde el espesor est entre 5 a 25 m (micrones), y cuyo valor depende de las
condicionesdeoperacin,comolatemperatura,concentracindelelectrolitoydensidadde
corriente.

En general, la importancia de esta pelcula de Al2O3 sobre el aluminio es que es utilizado

como un recubrimiento de proteccin frente a la corrosindel medio ambiente, yadems
permite mejorar el aspecto superficial del material, dndole mejor apariencia esttica,
necesariaparalaarquitecturayladecoracin.

1.1. ProcesodeAnodizado

Elaluminiotieneunpotencialnormalde1,66voltios,porloquealcontactoconel
aire, lasuperficiedel aluminio ysusaleaciones formanespontneamenteunacapa finade
xido de aluminio (104 m), esta capa le confiere cierto grado de proteccinal aluminio.
Sinembargolaestabilidaddeestacapaenambientescorrosivosseveafectada.Esporeso
queparaconferirleunaproteccinestablealaluminioserealizaunprocesodeanodizado.

Como se aprecia en el diagrama de flujo del proceso de anodizado (Figura 1.3), antes de
realizar el anodizado propiamente, se aplican sobre la superficie del aluminio ciertos
tratamientosdesuperficie,comoelmecnicoodesengrasadoy el decapado.

1.2. Tratamientodesuperficie

Elcarcter metlicoy laapariencia naturalde lasuperficiedel aluminio,noser la

mismaporlapelculadexidodealuminio,esporesoqueserealizauntratamientoprevio
de la superficie del aluminio para obtener el acabado superficial deseado. Por ejemplo,
puliendoseeliminanirregularidadesenlasuperficiecomorayadurasymanchas.

El acabado de la superficie del aluminio se puede obtener por un tratamiento mecnico o

qumico.Estospuedenser:pulidomecnico,pulidoqumico,abrillantadoqumico,etc.

TRATAMIENTO
MECNICO

DESENGRASE
Enjuague

DECAPADO

Enjuague

LAVADOCONSODA

Enjuague

NEUTRALIZADO

Enjuague

ANODIZADO

Enjuague

SELLADO

Enjuague

Figura1.3. Diagramadeflujodelprocesode
anodizado[2]

1.2.1. Tratamientomecnico
Las planchas o perfiles de aluminio cuando salen de la extrusora ( en su
procesode fabricacin)quedan marcadas,por lapresinqueseejercesobreestos
materialesensusuperficie,deahlanecesidadderealizarunprocesomecnico,que
elimineestasmarcas.Estaspuedenser:
a.Pulidoconcepillodealgodn
b.Lijadoconbandasdelija
c.Gratadoconcepillometlico
d.Otrostiposdepulido
Por el lijado se obtiene una superficie relativamente uniforme y algo opaca, y se
puedeneliminareventualesfallasenlasuperficie.

Figura1.4. Maquinapulidoraindustrial

1.2.2.Desengrasado
Esteprocesoconsisteenretirarlosresiduosorgnicoscomolagrasayaceite,
quepudieranhaberrecibidolaplanchaoperfildealuminio,desdelaextrusinhasta
la planta de anodizado as como en los diferentes procesos mecnicos tales como
estirado,corte,envejecido,huelladelosoperariosaltransportaretc.

En el proceso de desengrasado generalmente se utiliza una solucin ligeramente

alcalinadeunpHentre911,yentre5080Cdetemperatura,dondeesintroducido
elaluminioparalimpiarlototalmente.

Existen diversas soluciones tpicas para el desengrase del aluminio, tal como se
muestraen laTabla1.2.
Tabla 1.2. Soluciones tpicas para el
desengrasedelaluminio[3]

Mtodo

Composicin
(%)

Temperatura
(C)

Tiempo
(min)

Solventeorgnico

Tricloroetileno
Percloroetileno

Temperaturaambiente
Vapor
Lquidoenebullicin

Agentesactivosde
superficie

Jabn
Detergentesinttico

2080

cidosulfrico

H2SO4
(525)

6080

13

Electrolitico

Hidrxidodesodio
(12)

20

0.5

Fosfato

Carbonatodesodio
Fosfato
Agenteactivodesuperficie

2070

0.53

Alcalino

Hidrxidodesodio
(520)

4080

1.2.3.Decapado
Despus del desengrase se obtiene an todava una superficie satinada o
mate,yqueconpequeasraspadurasyrayadurasqueseproducenenlafabricacin,
nopuedensereliminadascompletamente.

Despusde haber enjuagado las piezas generalmente se hace el decapadocon

soluciones (eliminacindeunacapafinadexidodealuminio),quevandesdelos
decapados cidos hasta los decapados alcalinos. Inclusive los decapados
denominadoslargotiempo.
LaTabla1.3, muestraque los baos incluyenprincipalmenteclorurosy fluoruros.
Losionescloruroy fluorurofuncionana vecescomoiones libres, ynocomoiones
hidratados sobre superficies metlicas. Estos iones tambin pueden romper la

pelcula delgada de xido natural sobre la superficie metlica. Estas propiedades

especiales de los iones cloruro y fluoruro, puedendar un acabado mate o producir
picadurasdecorrosindelasuperficiemetlica.
Tabla1.3. Decapadoqumicodelaluminio[3]

Sustancias

Concentracin Temperatura Tiempo

(%)
(C)
(min)

Hidrxidodesodio

525

5070

110

Fluorurodeamonio
Sulfatodeamonio

515
10

1820

23

Hidrxidodesodio
Fluorurodesodio

510
4

80100

13

Clorurodeamonio
Clorurodecalcio
Acidoclorhdrico

35
4
25

2050

0.51

Acidofosfrico
Clorurodehierro

5070
3050

80100

12

35

2040

15

Fluorurodeamonio

Losdecapantesengeneral,sonmezclasdehidrxidodesodio,carbonatosyaditivos.

Los aditivos sirven para que las superficies del metal sean humedecidas
uniformemente y obtener asuna superficie uniforme. La soda custica disuelve el
aluminio liberando hidrgeno y formando aluminato de sodio. Si el aluminato de
sodionopuedesermantenidoenlasolucinentoncesseformanlasllamadaspiedras
(hidratosdexidodealuminio).
1.2.4. Soda

Esta solucin es de alta concentracin, que tiene como funcin principal:

atacarprofundamentealosperfilesconelobjetivodedesprenderloselementosque
noreaccionaroneneldecapado.Esteataqueserealizaenunos3segundos.

1.2.5.Neutralizado
Despusdelosprocesosdedecapadoenlcaliysoda,losperfilessecubren
deunacapadegrisanegra,yestaseretirayseneutralizaconunasolucindiluida
de cido ntrico por una simple inmersina temperatura ambiente. Posterior a este
procesoesnecesarioenjuagarparaquenoquedenadadecidosobrelasuperficiede
aluminio.

La capa gris a negra, se forma debido a impurezas o aleacin de Si, Mg, Fe, o Cu
que estn incluidas en el aluminio, y que se handepositado sobre la superficie. La
superficiedealuminioeslimpiadaconlafinalidaddeeliminarestasimpurezas,por
inmersinenunasolucinacuosadecidontrico30%enuncortotiempo.

Unasolucinacuosadecidosulfricoalaqueseaadeelperxidodehidrgeno,
tambin puedeserutilizadaparasacarestacapagrisanegra(desmutting).

El cido ntrico ha sido utilizado en el pasado como agente neutralizante por las
razonesmencionadas,actualmentesuusohasidorestringido.Cuandoseneutraliza
con elcidontrico,elinnitrato(NO3)puedepasaralasolucindecidosulfrico
del aluminioanodizado,obstaculizandolaformacindel xidodealuminio.Aligual
que los iones cloruro, el in NO3 causa picaduras de corrosin en la pelcula de
xidodealuminiodurantelaelectrlisis.

CAPTULOII
MORFOLOGAYESTRUCTURADEL XIDODEALUMINIO

2.1.MorfologadelapelculadeAl2O3

El aluminio tiene una alta afinidad qumica con el oxgeno, por lo tanto, el Al2O3
puede formarse fcilmente. Si el aluminio puro estuviera expuesto al aire, una pelcula
delgada de xido de unos pocos angstroms (1 angstrom es 108 cm) se formara en la
superficiedelaluminio.Estapelculadexidosellama"pelculadexidoformadoalaire"
o"pelculadexidonatural".Elespesordelapelculadexidoformadaalaatmsferaes
muy delgada,porlotanto,nosepuedeutilizarcomounapelculaprotectoraparaprevenirla
corrosin.

Conelprocesodeanodizado,amedidadequeseformalapelculadeAl2O3,seproduceuna
disminucin rpida de la intensidad de corriente (ver Figura 1.2), que alcanzara un valor
nulo si la pelcula inicial formada fuese totalmente aislante. A esta pelcula se denomina
pelculabarrera.

Dependiendodeltipodeelectrolito ymanteniendoconstanteladensidaddecorrienteylas
otrascondicionesdetrabajocomolatemperaturayelvoltaje,seformaunapelculabarrera
quealcanzaunespesorlmiteysobreellaseformalapelculadexidodealuminio,porosa
y continua (ver Figura 2.1). Este carcter poroso de la pelcula permite que el espesor
aumente en el tiempo hasta valores elevados y variables, mientras que la pelcula barrera
permanececonunespesorprcticamenteconstantedurantetodoelprocesodeanodizado.La
oxidacin y ladisolucindel aluminio seproducenatravsde losporos naturalmente, la
existencia de la pelcula indica que la velocidad de oxidacin es superior a la de la
disolucin.

Lapelculabarreraesrelativamenteaislanteyposeeunespesormuypequeoquedepende
de la tensin aplicada enel proceso deoxidacin, de aproximadamente 1,4 x103 m por
voltio,quepermanecemsomenosconstantealolargodetodoelprocesodeoxidacin.

Poro

Capa
porosa

Capa
barrera

Aluminio

Figura2.1.Representacinclsicadelaestructuracelularyhexagonal
de la pelcula de Al2O3 y las vistas microgrficas de
microscopa electrnica de transmisin, para distintos
tiemposdeexposicinalhazdeelectrones[ 4 ].

Loshechosexperimentalesobservadosenelelectrododealuminio,duranteelanodizadou
oxidacin andica, se explican, pero el verdadero mecanismo que los gobierna, como el
origen y desarrollo de los poros y en general la formacin del recubrimiento de xido,
todavaanesobjetodeestudio.

2.2. Mecanismodeformacindelapelculadel Al2O3

Dado el tipo de electrolito, la "pelcula de xidotipo barrera" o "pelcula de xido

porosa"sepuedenformarduranteelanodizadodealuminio.Sielaluminioesanodizadoen
solucionesneutras,como laobtenidapormezcladecidobricoydeboratodesodio(pH
de5a7)osolucionesdetartratodeamonio,cidoctrico,cidomaleico,cidogliclico,se
formaunapelculadexidotipobarrera.Lacapacidaddeestassolucionesparadisolverel

10

xido de aluminio es dbil, de este modo, una pelcula fina de xido se forma sobre la
superficiedealuminio.El espesorde lapelcula dexidotipobarreradependedel voltaje
duranteelanodizadodelaluminio.Unadelascaractersticasde laspelculasdexidotipo
barreraesqueelespesordedichapelculanoseveafectadaporeltiempodelaelectrlisiso
latemperaturadelelectrolito,adiferenciadelaspelculasdexidoporoso.

Si el aluminio es anodizado en soluciones cidas, como cido sulfrico, cido crmico,

cidofosfrico,cidooxlicoetc., seformatantolacapabarreracomolapelculadexido
porosa.

El espesor de la capa porosa depende de factores tales como el tiempo del anodizado, la
densidad de corriente y temperatura del electrolito. Si el tiempo del anodizado es
prolongado,yladensidaddecorrienteesmsalta,mayorserelespesordelacapaporosa.
En otras palabras, cuanto mayor sea la carga elctrica (densidad de corriente x tiempo de
anodizado),mayoreselespesordelacapaporosa.Cabedestacarqueesteespesoresmenor
que el espesor terico calculado por la Ley de Faraday (el peso obtenido por deposicin
durantelaelectrlisisesdirectamenteproporcionalalacargaelctrica).

Si la temperatura del bao electroltico es baja, el crecimiento de la pelcula de xido es

buena y dura. Una pelcula de xido formada en un bao de cido sulfrico a 0C por
anodizado de aluminio se llama "anodizado de pelcula dura". A temperaturas de 60C a
75Cdelbaoelectroltico,lapelculadexidoformadaesdelgadaysuave,ylasuperficie
puedetenerlaaparienciadeserelectrolticamentepulido.

Si el aluminio es electrolizado a voltaje constante en un bao de cido sulfrico, la curva

corrientetiemporesultacomosemuestraenlaFigura2.2.

LosaspectosfsicoqumicosdelacurvadelaFigura2.2,puedenserexplicadosdividiendo
la curva en cuatro zonas : a, b, c, d. En la zona a se forma, una capa barrera fina y
homognea sobre la superficie de aluminio. En la zona b, la superficie de la pelcula de
xidosevuelveirregulardebidoalaexpansinenelvolumendelacapadebarrera.Cuando
lasuperficiesevuelveirregular,ladensidaddecorrienteseconvierteennouniforme.Porlo
tanto,ladensidaddecorrienteaumentaenlosagujerosydisminuyeenloslugaresaltos.

11

Figura2.2.Cambiodeltipodepelculabarrera
de compactaa porosa, en elinicio
delanodizadodelaluminio [3]

Los microporos son generados en los agujeros con gran densidad de corriente debido a la
accin del campo elctrico y la accin electroltica del bao. El crecimiento del poro se
detieneenalgunosdelosmicroporos,mientrascontinaenotrosporos.Estareaccinesla
etapa en la zona c de la curva corrientetiempo. En la zona d, el nmero de poros es
constante,perolaprofundidaddelosporosaumentarpidamente.Losmicroporosseforman
enlapelculadexidodurantelasetapasdereaccin.

2.3. Inclusindelelectrlitoycontenidodeaguaenlapelculadexido[3]

Una pelcula de xido de aluminio formado en un bao de cido sulfrico contiene

aniones sulfato enunexceso del 17% yel componente SO3 en un13%. El contenido del
anin vara tambin en funcin de las condiciones de la electrlisis. Sila temperatura del
baoesbajayladensidaddecorrienteesalta,elcontenidodeanionessulfatoaumenta.La
siguientereaccinexplicalasrazonesdelaltocontenidodelaninsulfatoenlapelculade
xidoformadaporanodizadoabajatemperatura:
SO42

SO3

O2

(pelculasuperficial)(ensolucin)(enlapelcula)

Enun baodetemperaturaalta,elcontenidodeanionessulfato en lapelculadexido se

reducedeacuerdoalareaccinmostrada.

12

Una pelcula de xido de aluminio que contiene el 13% de SO3, cuando es lavada por un
largoperodo,sereduceaun8%deSO3.Estadiferenciadel 5%deSO3,indicaqueesteest
dbilmenteadsorbidoenlasuperficiedelapelculadexido,conelsulfatopermaneciendo
enlosporosdelacapaporosa.

Si el espesor de la pelcula de xido es mayor de 6 micras, el SO3 contenido permanece

constante en el 13%, pero para una pelcula de espesor superior a 60 micras, el SO3
contenidoesdel8%.

Elcontenidodelaninfosfatoodelosanionesoxalatoenunapelculaporosaanodizadaen
cidofosfricoounbaodecidooxlico,esdelordende5%a15%,similaralapelcula
formada en el bao de cido sulfrico. Los resultados experimentales que muestran un
contenidodeanin similarenestetipodepelculasporosassugieren que:(1)lafacilidadde
movilidadescasilamismaparaanionessulfato,oxalatoyfosfatoenlapelculadexidoy,
(2)latransicindelacapabarreraacapaporosadebidoaestosbaoselectrolticossedebe
aunmecanismocasisimilares.

Sehademostradoqueel contenidodeaninenlapelculadexidonoesuniformesinoque
tiene una distribucin concentrada, como se muestra en la Figura 2.3. En otras palabras,
aniones electrolticos son densamente distribuidos en el centro de la capa de barrera y la
pareddelporo.

Aluminio

Aniones
Capa
barrera

Figura 2.3. Cambiodedistribucindelaninenlapelculadexidoandico

duranteelanodizadodelaluminio

Hayunaconsiderablediferenciaenelcontenidodeaguaenlapelculadexidodealuminio
yel contenidodeaguaenlapelculatipobarreraylapelculaporosa.Enlapelculadeltipo

13

barrerageneralmentesedicenquesonxidosanhidros,perosereportaqueelcontenidode
aguaen 2,5%estincluidoenformadebohemita(AlO(OH)).

Hayun 15%envolumendeaguaincluidoenlapelculaporosaformadaenunbaodecido
sulfrico, yel 1%a6%en volumendeagua incluido en lapelculadexidodealuminio
formada en un bao de cido sulfrico, que son el contenido de agua necesarios para la
formacin de 2 Al2O3.H2O. Recientes investigaciones han demostrado tambin que el
contenidodeaguaenlaspelculasanodizadaformadasenbaosde cidosulfrico porAC
(corrientealterna)esmayorqueelcontenidodeaguaenlaspelculasformadasenbaosde
cidosulfricopor DC(corrientedirecta).

Losvaloresdelcontenidodeaguasoncontradictorios,peroentodosloscasos,elaguaenla
pelcula de xido no es agua adsorbida, sino que est incluida en forma de hidrxidos de
xidos hidratados. Desde que la inclusin de electrolitos y el contenido de agua descrito
anteriormentevaranenfuncindelascondicionesdeoperacindelanodizadodealuminio,
laspropiedadesdelapelculadexidotambinvaran.

2.4. Espesordelacapadexido
El espesordeaproximadamente20micrasdepelculadexidodealuminiosepuede
obtenerdespusde1horadeunprocesodeanodizadoenunbaodecidosulfrico.Perosi
la electrlisis se lleva a cabo durante 20 horas no es posible obtener un espesor de 400
micrones(20micras/hx20horas=400micrones),debidoaqueelH2SO4 durantetodoel
procesodeanodizadotambinestaatacandolapelculadexidodealuminio.

Hayunlmiteenelespesormximodeunapelculadexidodealuminio.Elvalordeesta
limitacindelespesorvaradependiendodelascondicionesdeoperacindelanodizado.La
razn de la existencia de lmites en el espesor se explica en la Figura 2.4. Cuando la
electricidadpasaatravsdealuminio,unacapabarreraseformaprimeroenlasuperficiede
aluminio(verFigura2.4a).Seguidodelaformacindelacapaporosa(verFigura2.4b).El
espesordelacapaporosaaumentacasilinealmenteconelpasodeltiempodel anodizado.Si
eltiempodelaelectrlisisesprolongado,desdequelacapasuperiordelapelculadexido
sehaformadoaliniciodelaelectrlisisyestsumergidoenelbaoelectrolticoduranteun
perodoprolongado,estasedisuelveylaparedporosasehacedelgada.Desdequelaparte

14

central de la pelcula de xido se encuentra sumergido en el bao electroltico para un

perodomscorto,comparativamente,ladisolucindelaparedporosaescomparativamente
menor. En consecuencia, la forma geomtrica de la seccin transversal de la pelcula de
xidonoesun porocilndrico,sinounconoinvertidoenformadeporos.(VerFig.2.4c).

Figura2.4.Elcambiodeseccintransversaldelaestructuradeuna
pelculadexidoatravsdeltiempodeanodizado [3]

Adems, si el tiempo de la electrolisis es prolongado, la capa superior de la Figura 2.4d

desapareceacausadedisolucin.Lacapaprximaalacapasuperiorseconviertedenuevo
en forma de punta (vase la Figura. 2.4e). Aun cuando una nueva pelcula de la capa de
xido se forma en la base de la pelcula, con el paso del tiempo del anodizado la capa
superiorsedisuelve,yelespesordelapelculadexidosemantieneenelvalordelespesor
lmite.

Otroaspectoimportantedelfenmeno de ladisolucinde lapelculadexidoesque hay

dostiposdereaccionesdedisolucin:"ladisolucinqumica"y"ladisolucinporcampo
asistido".Ladisolucindelacapaporosaduranteelanodizadoesuna"disolucinqumica".
Dado que prcticamente no hay accin del campo elctrico en la capa porosa durante el
anodizado,lapelculadexidoestenlamismacondicin queunapelculadexidoquese
haelectrolizado.Larazndeladisolucinqumicadeunapelculadexidoenunbaode
cidosulfricosedicequeestenelordende1angstrom/min.

Por otra parte, un campo elctrico acta en la capa de barrera durante el anodizado del
aluminio. En este caso, la disolucin de la capa barrera se debe a la vez, a la disolucin
qumica en el bao electroltico y a la disolucin por campoasistido debido al campo
elctrico. Este tipo de disolucin de la capa barrera se llama "disolucin por campo
asistido".Elpuntoadestacaraquesque"disolucinporcampoasistido"delapelculade

15

xido no siempre significa "disolucin asistida por electrones" como, en general, son las
reaccionesporcampoasistido.La"disolucinporcampoasistido"delapelculadexido
significa "disolucin bajo la influencia del campo elctrico" en el sentido estricto. Esta
disolucinnoesllamada"disolucin electroqumica",sino"disolucinporcampoasistido".

Ladisolucinporcampoasistidodelapelculadexidoesunfenmenoqueseproduceen
lacapade barrera.Una fuertedisolucinporcampoasistido de lacapa barreraestambin
una condicin necesaria para la formacin de una capa barrera porosa. La razn de
disolucin por campoasistido se dice que es de 10 a 100 veces la razn de disolucin
qumica.

La pelcula de Al2O3 presentan las siguientes caractersticas generales, que amplan las
aplicacionesdelaluminio[5] :

1.UnapelculadelgadadeAl2 O3 densaycapabarrera,seformaadyacentesobrela
superficiedelaluminio
2. La capa barrera es cubierta por una capa micro porosa que es sellada luego del
anodizadoformandounacapaduraeimpermeable
3.Laresistividadelctricayconstantedielctricadelapelculason4x 1015 x cm
y5a8Faradio/mrespectivamenteen20C,siendoambosvaloresaltos

16

CAPTULOIII
FACTORESQUEAFECTANLANATURALEZAYPROPIEDADESDEL
RECUBRIMIENTODEXIDODEALUMINIO

3.1. Influenciadelmetalbase[1]
Una consecuencia derivada del hecho de producir unrecubrimiento por conversin
delmetalenxido,esquelanaturalezadelmetal determinacaractersticasfundamentalesen
elrecubrimientoelaboradoapartirdel,esdecir,la naturalezadelrecubrimientodepende
del metal base. Esto tambin diferencia a los recubrimientos andicos de los catdicos y
conviene tenerlo en cuenta en las aplicaciones de proteccin contra la corrosin y uso
decorativo.

Cuandoelmetalbaseesaluminioal99,99%yalgunasdesusaleacionesobtenidasapartir
del,puedenanodizarse,talquenosedeformalasuperficiemetlicadandocomoresultado
que la pelcula de xido de aluminio obtenido ser homogneo y transparente (ver Figura
3.1).Mientrasquesielcontenidodealuminioesdel99,7al99,8%,loselementosaleantes
afectarnlahomogeneidadytransparenciadelxidodealuminio.

Bordesdegrano

Antesdelaoxidacin

Pelculaandica

Despusdelaoxidacin

Figura3.1. Aluminioal99.99%[6]

Enelcasodelosrecubrimientos(pelculadexidodealuminio)obtenidosenunasolucin
de cido sulfrico, y que en el metal base est presente el silicio, este precipita en la
solucin, y aparece en el recubrimiento en forma de partculas dispersas, afectando a la
transparencia y produciendo una coloracin gris, ms o menos intensa segn su
concentracin y segn el espesor del recubrimiento. Tambin la tensin de ruptura ( o

17

resistencia a la tensin ) de estos recubrimientosse encuentra modificada por la presencia

delsilicio.

La capa de xido obtenida con las aleaciones de cobre retiene en cierto grado a este
elemento cuando se encuentra como aleante, sin embargo no es retenido cuando se
encuentra separado en forma de CuAl2 , apareciendo en su lugar cavidades que afectan la
transparenciadelrecubrimiento.Cuando stafaseseencuentraen los bordesdegrano,las
cavidades producidas en el recubrimiento originan una porosidad superior a la que se
obtiene en los recubrimientos de aluminio puro la adherencia entre el metal y el
recubrimientoresultadisminuida,yasimismolaresistenciaalacorrosin (verFigura3.2).

Bordesdegrano
conteniendoAl2Cu

Bordesdegrano de
cobredisuelto

Antesdelaoxidacin

Despusdelaoxidacin

Figura3.2. AleacinAluminioCobre[6]

En el caso de las aleaciones de magnesio, con contenidos de este elemento superior es al

3%,losestadosmetalrgicosquepuedenaparecersonparecidosalosdelasaleacionesde
cobre,conlasnaturalesdiferenciasdequetantoelmagnesiocomoelAl5 Mg8 sonandicos
frentea la matriz. Sinembargo,enelprocesodeanodizacin,el magnesioprecipitadoen
losbordesdegrano seoxidamsfcilmente queel aluminio,producindoseunacapacuya

Bordesdegrano
conteniendoAl5Mg8

Bordesdegranode
uncompuestoricoen
magnesio

Antesdelaoxidacin

Despusdelaoxidacin

Figura3.3. AleacinAluminioMagnesio[6]

18

porosidadesinferioralaqueseobtieneenlaanodizacindelaluminiopuro.Lapresencia
demagnesio,porotrolado,puededarorigenaotrosdefectos.

Lapresenciadeunelementodeterminadoenelrecubrimientodependedesuconcentracin,
pero, adems, de que se encuentre en la solucin slida o formando una fase separada de
ella, por consiguiente, el tratamientotrmico aplicado a una aleacin determinada influir
tambin en la naturaleza del recubrimiento elaborado a partir de ella. Guminski, Seasby y
Lamb [ 7 ] han estudiado la manera de cmo reaccionan los constituyentes de varias
aleacionesduranteeldecapado,abrillantadoyoxidacinandicaenmediodecidooxlico
comosemuestraenlasiguienteFigura3.4.

CONSTITUYENTES

LIMITESDEGRANO

GRIETA

Figura 3.4. Representacin esquemtica de la distribucin de

constituyentes en el metal base. Al formarse el
recubrimiento,unossedisuelvenyotrospermanecen
en l afectando la transparencia y homogeneidad de
lacapaandica [1].

El espesor uniforme de la pelcula anodizada puede obtenerse o no, en funcin de las

diferentes aleaciones del aluminio. Las diferencias en el material de aluminio, no hacen
referenciasloalacomposicindelaaleacinsinoalanaturalezadelaaleacinmisma,las
propiedades del material tambin pueden variar debido a las condiciones de tratamiento
trmico. Los resultados del proceso de anodizado pueden variar dependiendo si se tiene
desde laminados de metal a piezas fundidas. En las Tablas 3.1 y 3.2 se muestran las
propiedadesdelapelculaanodizadaparalosdiferentestiposdealuminio.EnlaTabla3.1,
se muestran las aleaciones del grupo 1000 que representan el grupo de aluminio puro, las
aleaciones 2000 representan el grupo de aleaciones de AlCu, las aleaciones 3000
representan el grupo de aleaciones AlMn, las aleaciones 4000 representan el grupo de

19

aleaciones de AlSi, las aleaciones 5000representan el grupo de aleaciones de AlMg, las

aleaciones6000representanelgrupode aleacionesAlMgSi.
Tabla3.1. Resultadosdeanodizadoparavariasaleacionesdealuminio[3]
Resultados

Resultados

Resistencia
Aleacin

ala

Resistencia
Coloreado

Brillantez

Aleacin

corrosin

Aleaciones
demetales
laminados
yextruidos

ala

Coloreado

Brillantez

corrosin

1099

ASTMS72A

1080

AC8B

1050

MB

MB

L5

1100

MB

MB

AC2B

M*

3003

AC7A

MB

AC3A

MB

M*

5052

MB

MB

5154

MB

MB

5056 5%Mg

5056 7%Mg

6063

MB

6361

MB

6066

M*

2014

M*

2016

M*

2017

2024

2N01

6061

MB

6011

4043

M*

(BSRR50)
(AC4C)

Aleaciones
fundidas

AC4A

AC7B

M**

AC1A

(AA222)

M*

AC6A

AC5A

M*

(AAB850)

AC4D

M*

ASTMN122A

ASTMS5A

M*

AC2B

M*

AC9A

(AC2C)

M*

S:Superior,MB:Muybueno,B:Bueno,M:Medio,X:Malo
*:sloparapelculasgruesas,**:dependedelascondicionesdefundicin

Tabla3.2Relacionesentrelacalidaddelapelculaandicay
loselementosaleantes[3]
Calidaddepelcula

Elementosaleantes

Claridaddelapelcula

Purezadelmetalaluminio

Opacidaddelapelcula

Impurezasdeelementos(Fe,Si, Mn, Mg)

Coloreadointegraldelapelcula

Elementosadicionados(Si,Mn, Cr,Mg)

Brillodelapelcula

Purezadelaluminioyelementosadicionados(Mg,Mg2Si)

Espesornouniforme delapelcula

ElementosAdicionados(Cr3Si)

20

Para ciertos tipos de aleaciones de aluminio, las pelculas anodizadas no pueden ser
formadas en lugares que contienenpartculas de metalincrustadas de la aleacin como se
muestraenlaFigura3.5,y esapartesepuededisolverdemaneraqueunapelculauniforme
entodalasuperficienosepuedenobtener.

Pelculadexido
andico

Aleacindealuminio

Figura3.5. Pelculadexidoandicoformado
sobrealeacindealuminio[3]

Otrofenmenoduranteelanodizadodel aluminioesel quemadoporpulido(buffpolishing).

En las porciones que han sido excesivamente pulido, la pelcula se forma o algunas veces
noseforma.Estefenmenosedebetambinalasdiferenciasenlaspropiedadeslocalesen
la superficie de metal de aluminio. Debido al pulido, se obtiene una capa deteriorada
superficialoriginadaporladeformacinplstica,defusin,ocambiosqumicosenelmetal
dealuminio.Eldeteriorodeestacapaevitalaformacindepelculaanodizada,ydadoque
laestructuradelamicropelculaanodizadadifieredelapelculaanodizada,unapartedela
capapodrasernobrillanteodescolorida.

3.2. Influenciadelelectrlito[1]

Lanaturalezadelapelculadeanodizadoestinfluidaporelelectrlitoenelcualse
haformado,dadoqueenelnodo,ademsdelareaccinprincipalquesedaconel oxgeno,
seproducenreaccionessecundariasenlasqueelelectrlitoreaccionaconlosconstituyentes
y con las impurezas que forman parte del aluminio. Es decir, que distintos electrlitos
reaccionandemaneradiferenteconelmismonodoproduciendorecubrimientosdedistinta
naturaleza, principalmente en cuanto se refiere a la homogeneidad, transparencia y
coloracin.

21

Loselectrlitosmsempleadosenlaactualidadsonsolucionesdecidosulfrico,oxlicoy
crmico.

Las soluciones de cido sulfrico son sin duda las ms empleadas en la anodizacin del
aluminio, sobre todo en las aplicaciones arquitectnicas. Con este electrlito se obtienen
recubrimientosduros,incolorosytransparentescuandoseelaboransobrealuminiopuro,y
ademsson fcilmentecoloreados.Susprincipalesaplicacionesson laproteccincontrala
corrosinyenladecoracin.

Las soluciones de cido oxlico se utilizan con ms frecuencia en concentraciones

comprendidasentre30y50g/L,noobstantehanservidocomobaseenlosprocedimientos
conocidosconelnombredeEloxal,cuyosrecubrimientosseempleanprincipalmenteparala
arquitectura.Estosrecubrimientosson transparentesyduros,conunacoloracinamarilla,
msomenosresistentesalaabrasin.Aligualquelosrecubrimientoselaboradosencido
sulfrico,encuentransuaplicacinenladecoracinyenlaproteccincontralacorrosin.

El procedimiento con el cido crmico, conocido como procedimiento de Bengough, fue

desarrolladoprimeramenteenInglaterra,utilizandosolucionescomprendidasentre25y30
g/Ldecidocrmico,yposteriormentesehanempleadosolucionesmsconcentradas.Los
recubrimientos obtenidos en este electrlito son ms delgados y menos porosos que los
obtenidosencidosulfricouoxlico,sonflexiblesyopacos,decolorgrisclarocuandoel
metal base es aluminio puro, y ms oscuros en el caso de las aleaciones de aluminio. Sus
aplicaciones ms importantesestndestinadasa laaeronatica,aunqueen laactualidadse
empleanendecoracinconunaspectoesmaltadomuycaracterstico.

3.3. Influenciadelascondicionesdeoperacindelanodizado[1]

Esevidenteque,utilizandoelmismoelectrlito,cualquiercambioenlosparmetros
quegobiernanlaoxidacin,modificanelprocesooafectanlaactividaddelelectrlitosobre
elmaterialqueconstituyeelnodo,tambinmodificarlascaractersticasdelrecubrimiento.
Deahque,alemplearlosdistintosbaoselectrolticos,seaprecisoconocerladependencia
queexisteentrelosparmetrosylaspropiedadesdelosrecubrimientosparadeterminarlos

22

valores de estos, de tal manera que se obtengan recubrimientos con las propiedades ms
idneasparalaaplicacinprevista.

Losparmetrosquedeterminan lascaractersticasdelapelculadexidodealuminio,son
las siguientes : concentracin del bao electroltico,temperatura, agitacin del electrlito,
densidaddecorrienteytiempodeltratamientoelectroltico.

3.3.1.Concentracindelelectrlito
Desdeelpuntodevistaenergtico,laconcentracinconvenienteparallevara
cabolaelectrlisisesaquellaenlaqueelelectrlitoofrecemenosresistenciaalpaso
delacorrienteelctrica.VerFigura3.3.

Figura 3.3. Variacindelaconductividadrespectoa

laconcentracindelelectrlito H2SO4

Enelcasodelcidosulfrico,lacurvadeconductividadpresentaunmximocuando
laconcentracinesdeunos350g/L (30%),portanto,utilizandoestaconcentracin,
el voltaje necesario para obtener una densidad de corriente adecuada ser mnimo.
Sin embargo, es sabido que el electrlito reacciona qumicamente con el electrodo
mientras se desarrolla el proceso electroltico, produciendo una disolucin que
aumentacon laconcentracindelelectrlito.Experimentalmente,sedemuestraque
el tiempodetratamientonecesarioparaalcanzarespesoresmedios,essuficientepara
quelavelocidaddedisolucinproducidaenelelectrlito,alatemperaturaambiente
seademasiadoelevada,contrarrestandonotablementelavelocidaddecrecimientodel

23

recubrimiento, por tanto en la prctica es necesario emplear concentraciones

inferioresalacitada.

La concentracin de cido sulfrico debe ser mantenida entre 10% a 20% para
anodizarelaluminio.Abajasconcentracionesdeaproximadamenteel1%,elvoltaje
delbaosehaceexcesivamentealto,y lapelculadexido andico nose forma, y
aparecen puntos negros como manchas en la superficie del aluminio. Estos puntos
negros se llaman picaduras, y se producen cuando los iones SO42 rompen la capa
barrera.Enunaconcentracindel15%,ladisociacindelcidosulfricoseproduce
de acuerdo a la ecuacin qumica siguiente ( los iones HSO4 entran en la capa
barrera,y seformaunapelculaporosa[3]):
H2SO4 =H+ +HSO4
En una concentracin del 1% de cido sulfrico, sin embargo, la reaccin de
disociacinestalcomofiguraenlaecuacinqumicasiguiente:
H2SO4 =2H+ +SO42
Casi noexisten ionesHSO4 enun bao del1% decidosulfrico,porlotanto,la
pelculadelxidoandiconoes formada.Siseanodizacon corrientealterna(AC)
en un bao del 1% de cido sulfrico, no se producen manchas negras en la
superficie,yunafinacapadexidoandicoseformaenlasuperficie.

Pelculas de xido andico tambin se formanen los baos de cido sulfrico con
una concentracin alta, superior al 20%. Desde que el bao electroltico tiene un
fuerte poder de disolucin, la razn de crecimiento de la pelcula es pobre, y una
pelcula gruesa no puede ser formada fcilmente. La pelcula formada es tambin
suave.Elvoltajebajodurantelaelectrlisisesunadelascausasdelaformacinde
una pelcula suave. Un voltaje bajo tambin se traduce en una capa barrera de
espesor delgado. Si el espesor de la capa barrera es pequeo, el espesor de las
paredesdelosporos(dosveceselespesordelacapabarrera)estambinpequea,y
el nmero de poros formado es grande. Esto resulta en la formacin de una suave

24

pelcula.Si laconcentracindecidosulfricoes mayorde30%, laconductividad

del bao se deteriora y la viscosidad de esta aumenta. Otra desventaja es que una
gran cantidad de agua se requiere para la limpieza. Debido a estas razones, la
concentracin ideal de cido sulfrico en un bao de cido sulfrico es de 10% a
20%.

Comparando las concentraciones de cido sulfrico como se observa en la Figura

3.4,el voltajedelbaoaumentaamedidaquelaconcentracindeH2SO4 disminuye,
ydisminuyelaporosidaddelapelculaamedidaquelaconcentracinaumenta.En
la Figura 3.4 y la Tabla 3.3 se muestran los datos relacionados con las
concentraciones de cido sulfrico con algunas condiciones de operacin y su
implicanciaenlacalidaddelapelculadexidodealuminio.

1070

3003

1100

3004

4043

5%

25

10%

20

15%

V
O
L
T
A
J
E

15

20%
25%
30%

10

25

5052

5005

6061

6063

7072

(V)
5%
20
10%
15
15%
20%
25%
30%

10

010203040

010203040

010203040

010203040

01020 3040

TIEMPODEANODIZADO(min)

Figura3.4. Concentracindecidosulfrico(5%,10%,15%,20%,25%y30%),yvoltajede
anodizado1A/dm2 ,20C1C,Aluminiodisuelto:1g/L[3]

25

Tabla3.3. Efectosdelaconcentracindecidosulfricosobrelaresistenciaala
corrosin,resistenciaalaabrasinyespesordelapelculadexido[3]

Pruebas

Espesor()

Resistenciaalacorrosin(sec)

Resistenciaalaabrasin(sec)

%peso
5%

10%

15%

20%

25%

30%

5%

10%

15%

20%

25%

30%

5%

10%

15%

20%

25%

30%

1070

12..9

12.3

12.3

12.3

12.4

13.1

300

300

240

240

195

165

1193

960

1175

603

610

440

1100

12.8

12.0

12.0

12.5

12.3

12.2

330

210

255

180

225

150

1093

990

1108

617

562

485

3003

12.0

11.7

10.6

12.0

12.4

11.5

200

180

180

210

210

135

940

683

962

591

510

573

3004

12.5

12.1

13.0

12.2

12.7

12.2

330

330

285

240

210

165

984

617

782

470

436

456

4043

11.3

12.9

13.4

12.9

12.8

12.6

165

180

165

180

105

90

607

566

604

360

361

543

5052

12.8

12.4

12.5

12.3

12.3

11.9

540

360

300

300

255

195

1050

968

982

595

494

534

5005

11.9

12.4

11.8

11.6

11.7

11.2

330

300

210

150

225

180

1216

1074

951

918

626

661

6061

12.1

12.5

12.7

11.3

11.8

11.8

390

360

210

180

180

120

670

927

650

563

615

555

6063

12.5

12.2

12.3

12.5

12.2

12.5

420

270

270

240

195

165

902

909

1059

690

535

537

7072

12.4

12.6

12.2

12.3

11.8

12.4

330

300

270

270

180

150

878

669

741

358

437

437

Aleacin

3.3.2. Temperaturadelelectrlito[1]
Cuando aumenta la temperatura del electrlito tambin aumenta su
conductividad, disminuyendo el voltaje, necesario para mantener una densidad de
corriente determinada, es decir, que el proceso electroltico resulta favorecido en
cierto grado al elevar la temperatura. Por otro lado, el aumento de la temperatura
conduce a un aumento de la velocidad de disolucin del recubrimiento en el bao,
producindose en el una porosidad muy pronunciada y, esto se ha demostrado
experimentalmente [ 8 ], el recubrimiento carece de resistencia a la abrasin, sin
embargo,laelevacindelatemperaturamejoraelbrillodelasuperficieanodizada.

A temperaturas bajas, inferiores a 25C, al disminuir la actividad del electrlito,

disminuye tambin la velocidad de disolucin producida por una concentracin
elevada,aumentandoporconsiguiente,lavelocidaddeformacindelrecubrimiento.

26

Sin embargo, en la prctica industrial, resulta costosotrabajar a bajas temperaturas

en donde la conductividad del electrlito es baja, lo cual produce una pelcula con
menosporosidad.

Se observa, pues, que existe una relacin estrecha entre la concentracin del bao
electroltico y sutemperatura,debiendoelegirestosparmetrosdetal formaqueel
recubrimientoobtenidorenalascaractersticasprecisasparalaaplicacindeseada,
en este caso para la arquitectura, prescindiendo de que los valores de dichos
parmetros se ajusten a los de mayor rendimiento terico. Por ejemplo, en las
aplicacionesarquitectnicas,laprcticaexperimentalrecomiendaunaconcentracin
de180a200g/L(10%a15%) decidosulfrico,quepuedeaumentarenalgunos
casos,yunatemperaturaconstantequenodebepasarde20Co21C,segneltipo
deespesorsea15,20,25moinferioresrespectivamente.

En las instalaciones de anodizacin se hace imprescindible disponer de equipos

provistosderegulacinautomtica,queasegurenelmantenimientodelatemperatura
constanteentodoelbaoatravsdeltiempodeduracindelprocesoelectroltico.

EnlasFiguras3.4y 3.5semuestranlainfluenciadelatemperaturadelasolucinde
H2SO4 sobrelaspropiedadesdelapelculaderesistenciaalaabrasinycorrosin.
Enunatemperaturade20C,laresistenciaalacorrosindelapelculaesexcelente.
Si latemperaturaseeleva msallde estepunto, laspropiedadesde lapelculase
deterioran.

Adems, lasresistenciaa laabrasinde lapelculatiendea mejoraratemperaturas

ms bajas, el brillo de la pelcula se deteriora y el color se torna gris a negro
grisceo.Porejemplo,sielaluminioesanodizadoenelrangodetemperaturade0C
a5Cusandoelmtododeanodizadoduro,laresistenciaalaabrasindelapelcula
mejora considerablemente, pero el color de la pelcula se torna de gris a negro
grisceo.

Silatemperaturadelasolucinelectrolticadecrece,lacapacidaddeabsorbertintes
decrece, resultando en colores no uniformes. La temperatura de la solucin es

27

generalmente mantenida entre 15C a 20C, pero para minimizar la variacin de

temperaturaenelbaoserealizanecesariamenteunaagitacinuniforme.

1A/dm2
30min.

1A/dm2
30min.

Temperatura(C)

Temperatura(C)

Figura3.5. Resistenciaala abrasinvs

temperaturadelbao [3]

Figura 3.6. Resistenciaalacorrosinvs

temperaturadelelectrlito[3]

Se evidencia en la Figura 3.5 que la resistencia a la abrasin y dureza mejora en

baosatemperaturabaja.Enbaosabajatemperatura,elvoltajeseincrementa.Por
estarazn,elespesordelacapabarreraseincrementa,elespesordelasparedesde
losporosseincrementa,yelnmerodeporosdecrececomosemuestraenlaFigura
3.7(b).Enconsecuencia,unapelcula formadadexidoandicoenun baoa baja
temperaturatieneunabuenaresistenciaalaabrasinyunabuenadureza.

La pobre afinidad del tinte del aluminio anodizado en baos a baja temperatura
puedeserentendidodelaFigura3.7(a).Desdequeelnmerodeporosesmenor,el
reasuperficialparalaabsorcindeltinteespequeo,deahquelaafinidaddeltinte
es pobre. Otra causa de la pobre afinidad del tinte es atribuido a la baja actividad
qumicadelapelculadexidoandicoenbaosdetemperaturabaja.

28

(b)

(a)
Aluminioanodizadoatemperatura
ambiente

Aluminioanodizadoa
temperaturabaja

Figura 3.7. Aluminioanodizadoatemperaturaambienteya

bajatemperatura [3]

3.3.3.Agitacin
SegnhademostradoSpooner[10],existeunaagitacinmnimaapartirde
lacualladensidaddecorrientepermanececonstantesinexperimentarfluctuaciones
arbitrarias,porconsiguienteesnecesarioalcanzarestelimitedeagitacinparaqueel
parmetro densidad de corriente pueda permanecer constante a lo largo de todo el
procesoelectroltico.

Paraevitarlasaltastemperaturaslocalizadas,esnecesarialaagitacinenelbao.Se
puede usar aire a baja presin, siempre y cuando sea limpio y libre de aceite,
agitacin mecnica y bombeo de los electrlitos a travs de intercambiadores de
calorexternos.Engeneral,noserecomiendanormalmenteairecomprimidodebidoa
lapresenciadeaceitesenlaslneas.
3.3.4.Densidaddecorriente[1]
Lavelocidaddeoxidacinaumentaconladensidaddecorriente,portanto,al
elevarstasepodrarealizarelprocesoelectrolticoenmenostiempo,peroelpaso
de la corriente elctrica a travs de los poros produce un desprendimiento
considerabledecalor y,alcabodepocotiempo,laszonas situadasen la inmediata
vecindad de la superficie andica adquieren temperaturas muy superiores a las del
resto del electrlito. Esto conduce a un aumento de la velocidad de disolucin, lo
que, como se indic sobre la influencia de la temperatura, pueda daar la parte

29

externa del recubrimiento, lo cual generara la disminucin de resistencia a la

abrasin.
Este desprendimiento de calor se produce siempre, y aumenta con el espesor del
recubrimiento, de ah la necesidad de los equipos de agitacin y refrigeracin que
compensen los gradientes trmicos y la elevacin de la temperatura, evitando el
ataquedelrecubrimiento.

Se ha determinado experimentalmente que las densidades de corriente

comprendidas entre 1,21,8 A/dm2 permiten obtener recubrimientos de xido
apropiados para las aplicaciones en las estructuras estticas en la prctica es muy
utilizadaladensidaddecorrientede1,5A/dm2.

Las propiedades de la pelcula se ven influenciadas por la densidad de corriente,

como se muestra en las Tablas 3.4 y 3.5 para el electrlito cido sulfrico. Si la
electrlisissellevaacaboa una baja densidad de corriente,de alrededorde
0,5A/dm2,duranteunperodoprolongado,laresistenciaalaabrasinylaresistencia
a la corrosin tienden a deteriorarseen general, es recomendable una densidad de
corrientede1a2A/dm2 [3].

Tabla3.4. Densidaddecorriente resistenciaalacorrosinyalaabrasin

obtenidadeacuerdoalaNormaJaponesaJISH8502[3]
Aleacin
A1100
Densidad
decorriente
(A/dm2)

A3003

A5052

A6063

Resistencia

Resistencia

Resistencia

Resistencia

Resistencia

Resistencia

Resistencia

Tiempo

ala

ala

ala

ala

ala

ala

ala

(min)

corrosin

abrasin

corrosin

abrasin

corrosin

abrasin

corrosin

(sec)

(sec/)

(sec)

(sec/)

(sec)

(sec/)

(sec)

Resistencia
alaabrasin
(sec/)

0.5

120

90

6.3

86

6.3

98

7.0

61

4.2

60

193

12.6

181

12.4

346

22.9

143

5.8

30

185

12.2

198

13.4

321

21.2

148

8.8

15

175

11.8

183

12.3

324

19.1

161

8.6

0.5

60

61

3.6

73

10.3

113

15.7

65

8.9

30

53

6.8

81

10.9

123

16.4

48

6.4

15

56

7.5

73

9.7

124

15.8

53

6.8

7.5

55

6.5

63

6.8

106

13.1

66

7.5

30

Tabla3.5. Densidaddecorrienteyresistenciaalaabrasinobtenida
deacuerdoalaNormaJaponesaJISH8503[3]
Aleacin

Densidad
decorriente
(A/dm2)

Tiempo
(min)

A1100

A3003

A5052

A6063

Resistenciaa

Resistenciaa

Resistenciaa

Resistenciaa

laabrasin

laabrasin

laabrasin

laabrasin

(sec/)

(sec/)

(sec/)

(sec/)

0.5

120

26.1

27.3

17.5

29.9

60

41.3

45.0

42.3

53.0

30

52.4

53.6

58.5

52.8

15

62.1

53.2

59.9

56.6

0.5

60

22.4

20.6

22.5

20.7

30

26.4

30.3

36.3

26.3

15

36.0

36.0

43.3

37.5

7.5

28.1

23.0

43.6

44.8

Lagranvariacinenelespesordelapelcula,aaltasdensidadesdecorrientetambinse
puede observar en el espesor de las pelculas de una electrlisis. Alta densidad de
corrientesignifica"unamuyaltavelocidaddereaccin".Silavelocidaddereaccines
excesivamentealta,hayladificultaddeobtenerreaccionesqueproduzcanunespesorde
la pelcula . El desempeo de la pelcula de xido de aluminio se deteriora a una
densidaddecorrientede 0,5A/dm2 debido a la disolucin qumica de la pelcula.
A 0,5A/dm2,latasadecrecimientodelapelculaesbaja.Porejemplo,si el aluminioes
anodizado por un perodo prolongado, a fin de formar una pelcula de 10 micras de
espesor, la pelcula se convierte en xido extremadamente delgada a causa de la
disolucinqumicadelasparedesdelporoenelbaoelectroltico(verFigura3.8b).La
resistenciaalaabrasinyresistenciaalacorrosindelapelculadexidodealuminio,
conparedesmuydelgadasdel poroson bajas,comosedesprendedelaFigura3.8.

(a)2A/dm2

(b)0.5A/dm2

Figura 3.8. Lasdiferenciasdelaseccintransversaldealuminio

anodizado endiferentesdensidadesdecorriente

31

3.3.5.Duracindel procesodeanodizado[1]
Comoseobservaenlostemsanteriores,hayinfluenciadelosparmetrosde
la oxidacin andica en la formacin del recubrimiento del xido, donde puede
deducirsequeparacadaelectrlitoyparacadaaleacinexisteunrangodevariacin
de estos parmetros. Dentro de este rango (que se da en tems anteriores),
determinadoexperimentalmente,elrecubrimientorenelascaractersticasdeseadas,
yfueradelobiennoseoriginalapelculaoessuficientementedefectuosaparaque
sucomportamientoenlaaplicacindestinadanoseaelesperado.

Realizandolaoxidacindentrodeesterango,elespesordelrecubrimientoaumenta
con laduracindeltratamiento.Enelcasodelaluminiopuro yteniendoen cuenta
los lmites de variacin de los distintos parmetros, puede utilizarse con bastante
aproximacinlafrmulasiguiente[1] :

Tiempo(min)= 3.2

espesor (m )
densidad decorriente (A/ dm2 )

Estaecuacin nospermite calculareltiempodetratamientoen funcindelespesor

especificadoparaelrecubrimientoydeladensidaddecorrienteutilizada.Enelcaso
de las aleaciones de aluminio anodizables, empleadas en las estructuras
arquitectnicas, la velocidad de crecimiento del recubrimiento andico es
ligeramenteinferior.

3.3.6.Concentracindealuminiodisuelto[3]
En un bao de cido sulfrico la concentracin de aluminio disuelto es de
alrededorde10g/L.

Los datos relativos a las concentraciones de aluminio disuelto se muestran en las

Figuras3.9,3.10y3.11.

32

Espesor
Resistenciaalaabrasin
Resistenciaalacorrosin

Espesor
Resistenciaalaabrasin
Resistenciaalacorrosin

Al+3 enelbaog/L

Al+3 enelbaog/L

Figura3.9. EfectosdelAl+3 enelbaosobrela

calidaddelapelculadexido(A1100)

Figura3.10. EfectosdelAl+3 enelbaosobrela

calidaddelapelculadexido(A5005)

Espesor
Resistenciaalaabrasin
Resistenciaalacorrosin

Al+3 enelbaog/L

Figura3.11. EfectosdelAl+3 enelbaosobrelacalidaddelapelculade

xido(A6063)

33

Siseutilizaunelectrolitoquenocontienealuminio,nopuedeformarseunapelcula
de xido andico, por lo tanto, se aade de 12 a 13 g/L de sulfato de aluminio al
prepararlasolucincida.Conelaumentodelacantidaddealuminio,latensindel
bao aumenta, la resistencia a la abrasin y la transparencia de la pelcula se
deterioran.Ellmitesuperiordelaconcentracindeladisolucindealuminioes20
g/L,enlosEE.UU., ode 12g/L, enAlemania[1].

Sielaluminiodisueltoenelbaoescero,noesposibleobtenerunabuenapelcula
de xido andico, y si la cantidad de aluminio disuelto en el bao es excesivo,
tampocoesposibleobtenerunabuenapelculadexidoandico.

Si la cantidad de aluminio disuelto en el bao es cero, el bao de cido sulfrico

tieneunfuertepoderdedisolucinydisuelvefcilmentelapelcula,porlotanto,no
puede formarse una buena pelcula de xido de aluminio. Por otra parte, si la
cantidad de aluminio disuelto es excesivo, el aluminio disuelto en la interfase
anodizado/baoseconvierteenpartculascoloidalesdehidrxidodealuminioyes
depositado en la superficie del aluminio anodizado. Desde que las partculas
coloidales de hidrxido de aluminio forman una pelcula electrodepositada, la
tensin del bao aumenta, y la resistencia a la abrasin disminuye as como la
transparenciadelapelculasedesmejora.

3.3.7.Aumentodelatemperaturaduranteel procesodeanodizado[3]

Lapelculadexidoandicotieneunagranresistenciaelctrica,porlotanto,
cuando los flujos de corriente atraviesan la pelcula, se genera calor (Q). El Q se
expresaenlaecuacinsiguiente:
V=Q=i2R

Enestecaso,Veselvoltaje,i eslacorrienteyRlaresistencia.Duranteelanodizado
del aluminio, se ha observado que para una misma corriente, el bao de ms alto
voltaje, genera mayor cantidad de calor. Si la resistencia de la pelcula de xido
andicoesconstante,y silacorrienteesde2A,y4A,lacantidaddecalorgenerado
seencuentranenlaproporcinde1:4paralosdoscasos.

34

Durante el anodizado del aluminio, la temperatura del bao electroltico aumenta

debido al calor generado, es por ello que el bao se enfra durante el proceso de
anodizadoparaquesemantengaaunatemperaturaconstante.Unpuntoadestacares
que la temperatura sobre la capa de barrera y la temperatura del bao durante el
anodizadodealuminiopuedennosernecesariamentelasmismas.Ladiferenciaenla
temperaturadependedesilatasadedifusindelcalorgeneradoenlacapabarreraes
altaono.Enconsecuencia,sielbaoseagita,sepromueveladifusindelcalor,yla
diferencia entre la temperatura de la capa de barrera y el bao disminuye. Los
resultadosdelasinvestigacionesmuestranqueestadiferenciadetemperaturapuede
serdemenosde1C osuperioralos100C.

3.4. Selladodelrecubrimiento[1]

Anteriormentesehamencionadoquelapelculaobtenidaporoxidacinandicadel
aluminiosonporosasytienenpropiedadesabsorbentes,esdecir,noconstituyeunabarrera
suficientementeaislanteentreelmetalbaseyelexterior,porconsiguiente,noresultaeficaz
desdeelpuntodevistadelaresistenciaalacorrosin.Sinembargo,sesabequeeltratarel
recubrimiento con vapor de agua cambia algunas propiedades, por ejemplo ocurre una
reduccin de la porosidad y, con ello, de las propiedades absorbentes, asimismo, una
estabilidadmayordeloscolorantesabsorbidosyunaumentodelaresistenciaalacorrosin.
Elmismoefectoseconsigueporinmersindelrecubrimientoenaguahirviendo.

La transformacin de la pelcula que permiten estos cambios se denomina sellado. Tales

cambiosseatribuyeron a laconversinde lapelcula anhidra yamorfaen monohidratada,
resultandounaumentodevolumen,quemotivaquecadacluladealminaseaprietecontra
susvecinasobturandoaslosporos (verfigura3.12).
SELLADO

HIDRATO

CAPA
ALUMINIO

Figura 3.12. Efectodelsellado

35

CAPTULOIV
SELLADODELRECUBRIMIENTO[9 ]
Comoseindicanteriormente,lapelculadexidodealuminioconsisteenunaseriede
porosdistribuidosuniformementedeformapoligonalhexagonal,separadadelmetalpor
una capa muy delgada llamada barrera, es por eso que previamente antes de ser
utilizadoelaluminioanodizadoserealizaunselladodelamisma.El procesodesellado
que se utiliza ya desde hace muchos aos es mediante inmersin en agua hirviendo.
Actualmente este mtodo se denomina sellado hidrotrmico o hidrotermal, para
distinguirlo del que se realiza en fro (o impregnacin), sellado desarrollado en la
dcadade1980.

Lareaccinbsicadelprocesodeselladoconsisteenqueelxidodealuminioamorfo
seconvierteenunacapaestable,enformahidratada,msconocidacomobohemita:

Al2O3 +H2O2AlOOH
(bohemita)

Laconversindelxidoalabohemitaimplicaunaumentoenelvolumen,acompaado
de una disminucin significativa en su capacidad elctrica y un gran aumento de la
resistencia elctrica y la constante dielctrica, como se muestra en el circuito
equivalente(Figura4.1)utilizadoporHoaryWood[11].

Figura4.1. Circuitoequivalentedeunxidode aluminio

selladouxidodealuminiohidratado

36

Losporosdeunacapadexidoformadoapartirdeunasolucindecidosulfricoson
deaproximadamente150a250dedimetro,queresultanmuypequeos.Elproceso
de sellado implica la difusin de iones hidroxilo en la pelcula del xido de aluminio
producindoseelselladoaunavelocidadnolineal.Otracaractersticaimportanteesque
laconversindexidoabohemitase producesloatemperaturasde80Coms.En
trminos prcticos, se debe mantener una temperatura en el rango de 95100 C para
una completa conversin. Un resumen de los mecanismos de sellado es sugerido por
Thompsony Wood [12] :

a.Bajolascondicionesdelselladoconaguacaliente,elaguaescapazdepenetraren
losporos,yconbastanterapidez,yaqueel pHlocal esrelativamentealto,dondeel
hidrato de almina tiende a precipitar, encontrndose con la difusin de una
solucindeionesdealuminioqueson producidosdelasreaccionesenlosporos.El
resultado de almina hidratada es probablemente poco desarrollada en forma
cristalina pseudobohemita. Como estas reacciones continan en las paredes del
poroylabasedelporo,estassehacenirregularesyseempiezaabloquearelporo
porelslidodepositadovaladisolucin/precipitacindelareaccin.VerFigura
4.2ayFigura4.2b.

b. Como se produce una disolucin en el sellado sobre la superficie de la pelcula

macroscpica acompaada por precipitaciones de pseudobohemita, o en algunos
casos ms claramente toma lugar la bohemita cristalogrfica, elimina la estructura
exteriordelporo,posesionndoseprecipitadosenformade lminaso deagujasde
unespesordehasta1 m.VerFigura4.2cyFigura4.2d.
H2O a100C

Al 2O3 +Anin

ALUMINIO

ALUMINIO

Figura4.2a. Pelculadexidode
aluminiosinsellar

Figura4.2b.Precipitacindegelsobre
las paredes del poro y
fueradelapelcula

37

H2O

Anin

Capaintermedia

ALUMINIO

ALUMINIO

Figura 4.2c. Recristalizacin para formar Figura 4.2d . Condensacin del gel para formar
una seudo boehmita, donde la
boehmita que comienza enla
reaccin continua controlado por la
superficie y capa intermedia
difusin del agua dentro de la
pordifusin
pelculayanionesdentrodellquido

DeacuerdoconO'Sullivan yWood[13], loscambios de laconversindelxidode

aluminioenbohemita sedanen30a60minutos.Elmaterialdereaccinquellenalos
porostienen dimensionesen elrangode100400,ladestruccindelasparedesdelos
poros y la conversin de la capa a bohemita llevan a la virtual desaparicin de la
estructura delporo (Figura 4.2d). Para procesos de sellado de hasta una hora, el ms
largo, se produce una conformacin lateralmente, producindose regiones fibrosas
dondelosporossehacen compactosyaumentael dimetrodel poro.Estoparecesugerir
que el desarrollo de esta estructura probablemente tiene el mayor efecto sobre la
resistenciaqumicayambientaldelapelculadelxidodealuminiohidratado.

4.1. Determinacin de los parmetros del sellado hidrotrmico. El efecto del tiempo,
temperaturaypH

El efecto del tiempo, la temperatura y el pH sobre el sellado en agua

desionizada, es medido mediante elaumento demasa en el sellado. Trabajo realizado
porBrace[9]queseresumeenlaFigura4.3,dondesemuestraelaumentodemasade
lapelculadexidodealuminioenelprocesodeselladoenunespesorde25micrones
elaumentodepesoenlosprimeros510minutos,sedaenformarpidayluegolamasa
seelevacadavezmslentamente,perosindetenerse,inclusodespusdelos60min.

38

Figura 4.3 . Efecto de la temperatura en el peso ganado

porelselladoenaguadesionizadayvaporen
80C,100Cy115C

Las investigacionesdeBradshaw[15]utilizando elcambiodepeso y medicionesde

admitanciaencontrelefectodelpHsobrelaadmitanciayestosvaloresseresumenen
la Figura4.4.Estosvaloressecorrelacionan biencon losresultadosobtenidosapartir
delapruebadesulfitoacidificado.EsencialmenteestosvaloresconfirmanquesielpH
cae por debajo de 5,5 la admitancia disminuye bruscamente. Esta se confirma en el
diagramadePourbaix,queprecisaquelabohemitanoseformaaunpHde4,5omenos.
Porlotanto,puedeobservarsequelosparmetroscrticosdelcierresonlossiguientes:

1 . El grado de sellado cae rpidamente con la temperatura, de manera que el mejor

selladodeberrealizarseaunatemperaturadealmenos95C
2. El mejorselladoseobtieneaunpHde5,5a6,5
3.Eltiempodeselladodependedelespesordelrevestimiento,deldimetrodeporoy
laspropiedadesqueseespecifiquendelapelculadexidodealuminio

Realmente, las propiedades que se originan en estos cambios son conocidas, pero la
naturalezadeellasolosmecanismosquelasgobiernannoestnclaros,apesardeque
hansidoobjetodeestudiopormuchosinvestigadores.

El conocimientoprecisode la naturaleza yde la estructuradelrecubrimientoandico,

antes y despus del sellado, debe aportar datos tiles para desentraar el complejo
39

mecanismo del proceso de sellado, con lo cual pueden surgir nuevos procedimientos
parallevarloacaboytambineldesarrollodenuevosmtodosparaevaluarsucalidad.

En cualquier caso, para producir la hidratacin del recubrimiento es necesario la

presencia del agua y de una cierta temperatura. El sellado en agua caliente es el ms
sencillo y tambin el ms extendido consiste en introducir las piezas oxidadas en un
baodeaguacalienteduranteuntiempodeterminado.
Lapurezadelagua(520s/cm2 )esunpuntoimportanteenelselladonormalmente
seutilizaaguadesionizadaobtenidaatravsderesinasintercambiadorasdeiones.Esde
resaltarelcarcternocivodelosionescloruroenlasaguasdeselladoytambindelos
fosfatosysilicatosdelosmetalespesados.

Figura4.4. EfectodelpHdelselladosobrelosvaloresde
admitanciayelpesoganadosobreelsellado
enaguaa100C

40

CAPTULOV
CONTROLDELRECUBRIMIENTOANDICO
DELXIDODEALUMINIO

5.1Controldelapelculadel xidodealuminio[16]
Comoyasemencion,laspropiedadesdelapelculadexidodependerdelmetal
base, del electrlito y de las condiciones de operacin. Por lo que finalmente, es lgico
pensar que si al cambiar el electrlito se modifican las caractersticas de la pelcula,
cualquier cambio en los parmetros que gobiernan la oxidacin dentro de un mismo
electrlito, afectan su actividad sobre el material aluminio. De ah que para obtener una
pelcula con unas propiedades para las aplicaciones en estructuras arquitectnicas y
anticorrosivas, es preciso evaluar la calidad de la pelcula de xido de aluminio para
determinarlosparmetrosentrelosquesevaharealizarelanodizado.
Para evaluar la calidad de una pelcula de xido de aluminio se realiza la verificacin de
ciertas"propiedadescaractersticas"queson :
Aspectodelasuperficie
Espesordelrecubrimiento
Calidaddelsellado
5.2. Aspectodelasuperficie
Cuando se anodiza un material determinado, el aspecto superficial de la pieza
acabada depende, casi en su totalidad, de los tratamientos previos a la oxidacin andica,
como la eliminacin de la grasa, la suciedad y la pelcula de xido natural que
espontneamente se origina sobre la superficie metlica. Estos tratamientos que no son
optativos sino obligados modifican la superficie metlica, aunque se lleven a cabo
cuidadosamenteas,intencionadamentepuedeaprovecharselaaccindeestostratamientos
para lograr una gran variedad de aspectos en la superficie acabada, que cada fabricante
puedeidentificarconunadesignacinpropia.
Por ejemplo en Europa, se siguen empleando designaciones particulares para determinar
aspectos superficiales, si bien la CIDA (Centro de Investigaciones de Astronoma) los

41

resumiacuatro[17]enEspaa,sinqueningnorganismosehayapronunciadoanen
cuanto a clasificacin de aspectos, son tres los que se emplean prcticamente, y son los
siguientes:
a.Elquepresentaelmaterialbrutodefabricacindespusdeelaborarlapelculadexido
sin ningn otro tratamiento previo a la oxidacin andica que los tradicionales de
desengrase y decapado aplicados normalmente entonces en el acabado superficial
puedeobservarseimperfecciones,comosonlosdefabricacindelmaterial,transportey
manejodescuidadodelaspiezas.
b. El satinado, que puede obtenerse mediante un tratamiento mecnico o qumico. El
primeroeliminamuchasheterogeneidadeseimperfeccionessuperficialesproducidasen
la fabricacin, transporte o manejo de las piezas antes de la anodizacin. El segundo,
ms econmico, no disimula tan eficazmente las heterogeneidades, pero conduce a un
aspectotambinuniformeycaractersticodecada tipodeformulacin.
c. El acabado pulido suele obtenerse por procedimientos mecnicos, qumicos o
electrolticos.Tantolareflectanciacomolanitidezdeimagendeesteacabadodependen
delmetalbase,delprocedimientoseguidoparaobtenerloydelespesordelapelculade
xido que se elabore sobre la superficie, de tal manera que para obtener los mejores
resultadosesnecesarioemplearmetalesdealtapureza,sobretodosisedeseanespesores
superioresalos8o10m.
5.2.1. Evaluacindelasuperficiedelxido
En la prctica, la evaluacinde la superficie del xido suele verificarse por
comparacin visual respecto a unos patrones previamente preparados. Los errores
quesecometenalevaluaraspectossatinadossonpequeos,ycuandoseagrupanlos
elementos para componer un conjunto, se aprecia bastante o suficiente
homogeneidad.Sinembargo,laevaluacinvisualdelosacabadospulidosconducen
a errores mayores y el conjunto resultante es ms heterogneo, por lo que se usa
equipos. La Figura 5.1 muestra estas mediciones objetivamente, al proporcionar el
valordeciertasmagnitudesfsicascomolareflectanciaylaclaridadonitidezdela
imagen.

42

Figura 5.1. Representacin esquemtica del sistema empleado para verificar

medidasdereflectanciaensuperficiesmetlicasplanas.

5.3. Espesordelrecubrimiento
Unrecubrimientosuperficial,destinadoalaproteccindeunmaterialdeterminado,
debe soportar las acciones de tipo qumico o electroqumico y mecnicas. Las primeras
producen un efecto destructivo, localizado o uniforme, de disolucin otransformacin del
recubrimiento,mientraslasmecnicasconducen,porlogeneral,aldesgaste.Porello,unade
las caractersticas que decide la proteccin de un material y, por consiguiente, su
comportamientoenunmediodeterminado,eselespesordelrecubrimiento.
Entreciertoslmites,puededecirsequeelcomportamientodelmaterialmejoraamedidaque
aumenta el espesor del recubrimiento de xido. Sin embargo, al elegir un espesor debe
tenerse en cuenta, principalmente, la aplicacin y el medio en que va estar expuesto el
material.
Encuantoalasaplicacionesenarquitectura,laexperienciaadquiridaporlosdistintospases
en los lentos ensayos de corrosin a la atmsfera, han servido de base para recomendar
distintas clases de espesores segn los casos. As, segn la especificacin del CENIM
(CentroNacionaldeInvestigacionesMetalrgicas.Madrid)ylasNormasUNE(Unificacin
de Normativas Espaolas), al recomendar distintas clases de espesores segn los tipos de
atmsfera ydeuso,seobservancuatrotiposdeacciones:suave, moderada,severa ymuy
severa.

43

Serecomiendan,paracadaunadeestasaccionesagresivas,un espesorquevaraentre5a10
m,paralaaccinsuavehasta25mparalamuyagresiva,loquejustifica,yadentrode
lasaplicacionesenarquitecturay superficiesanticorrosivas,laimportanciadelaverificacin
delespesordelrecubrimiento.
5.3.1. Medicin delespesordelrecubrimiento
5.3.1.1. Mtodomicrogrfico[18]
Est basado en la observacin microscpica de una seccin transversal
producida por un corte perpendicular a la superficie del objeto anodizado. La
medidadelespesorsellevaacaboconayudadeunocularmicromtrico.
Este mtodo es muy preciso, pero al mismo tiempo es laborioso, y de carcter
destructivo estos inconvenientes limitan su empleo en el control de fabricacin ,
sin embargo, dada su precisin es considerado como mtodo de arbitraje en los
casosdeduda.Teniendoencuentalaresolucindelosmicroscopiosutilizadosen
metalografa, en la prctica, aparece tambin la limitacin de la medida de
espesoresinferioresa34 mconciertaprecisin.
5.3.1.2. Mtodogravimtrico[19]
Se basa en la determinacin de la masa del recubrimiento de xido en una
superficie dada. Esta determinacin se realiza disolviendo el recubrimiento en la
conocida mezcla de los cidos crmico y fosfrico, que tiene la propiedad de no
disolver el metal base. Pesando la muestra antes y despus de la disolucin y
conociendo la densidad del recubrimiento, se puede calcular el espesor del
recubrimientomediantelafrmulasiguiente:

e =

10 x D m
S x d

:espesordelrecubrimientoen m

m :masadelrecubrimientoenmg
S

:superficieocupadaporelrecubrimientoen cm2

:densidaddelrecubrimiento

44

Teniendoencuentaqueladensidaddelrecubrimientodependedelmetalbaseyde
lascondicionesdeanodizacinyqueenlaactualidad,existenotrosprocedimientos
precisos para determinar el espesor, no debe extraar que se recomiende este
mtodo de ensayo para calcular la densidad del recubrimiento cuando se conoce
previamente el espesor. No obstante, se ha comprobado repetidas veces que el
recubrimientoandico,elaboradoenmediosulfricoyenlascondicionesnormales
de anodizacin, tiene una densidad de 2,6 g/cm3 cuando est sellado y 2,5 g/cm3
cuando est sin sellar. Por tanto, considerando estas cifras puede emplearse el
mtodoparadeterminarelespesor,porlomenosenaquelloscasosenlosquepor
supequeeznopuedenseraplicadosconprecisinotrosmtodosdeensayo.
5.3.1.3. Mtododecorrientesinducidas[20]
Elprincipiodeestemtododeensayoeslaformacindecorrientesinducidas
enlasuperficiedelosmetalescuandovaraelflujomagnticoquelasatraviesa.
Esquemticamente, el sistema de medida est formado por un oscilador de alta
frecuencia que enva una seal a la sonda de medida, en donde se encuentra una
bobina en sintona con el oscilador. Para una frecuencia determinada, la reaccin
que se produce en la sonda al apoyarla en el metal desnudo se aprecia en un
instrumentodemedida,yseaprovechaparacalibrarelcerodelaparato,elsegundo
valordelacalibracincorrespondealareaccinqueseproduceenlasondacuando
seapoyasobreunrecubrimientocuyoespesoresconocido.
Una vezcalibradoelaparatoquedadispuestoparaverificar la medidadelespesor
quesedeseaconocer,sinmsqueapoyarlasondasobrelasuperficiesignificativa
delapiezayobtenerelvalormediodevariasmedidas.Estemtododeensayoes
muyutilizadoporsusimplicidadyporsucarcternodestructivo.
5.4. Calidaddelsellado
Sabemos que el sellado de la pelcula andica lleva consigo un proceso de
hidratacin que disminuye la porosidad del recubrimiento y, con ello, sus propiedades
absorbentes en el mismo proceso ocurren cambios en el seno de la pelcula y en la
superficie que la transforman en resistente a la accin cida, modificando tambin sus
propiedadeselctricas.Comoconsecuencia, laporosidad, la inerciaa laaccincida y las
45

medidasdeimpedanciaoadmitancia,sonlastrescaractersticasdelrecubrimientoquehan
servidodebaseparaevaluarlacalidaddelsellado.
5.4.1. Evaluacindelacalidaddelsellado
5.4.1.1. Ensayodelagotadelcolorante[21]
Encuantoalaporosidad,losensayosdelagotadecoloranteinformandela
capacidad de absorcin del recubrimiento y se basan en el hecho de que las
pelculas sin sellar, o defectuosamente selladas, absorben las disoluciones de
colorantes, mientras que si el recubrimiento est bien sellado no se produce
absorcin apreciable. Por consiguiente, la apreciacin de la huella residual
producida por una gota de una solucin de un colorante, depositada sobre la
superficie del recubrimiento durante unos minutos, puede servir para evaluar la
calidaddelsellado.
Lasolucinalcohlicadevioletademetiloylassolucionesacuosasdeverdede
aluminioGLW, azuldealuminioLLWyvioletadeantraquinonahansido
lasmsempleadasparaverificaresteensayo,quesellevaacabodepositandouna
gota de cualquiera de estas soluciones en la superficie del recubrimiento
debidamentedesengrasada,durante5minutos.Transcurridoestetiempo,selimpia
lasuperficie y nodebeapreciarse mancharesidualsielrecubrimientoestababien
sellado.
Estosensayossonnodestructivos,rpidosyfcilesderealizar,porestasrazonesse
emplean preferentemente en el control de fbrica. Sin embargo presentan los
inconvenientesdelasubjetividadenlainterpretacinderesultadosydenopoderse
aplicar en los recubrimientos coloreados, debido a que coloracin dificulta la
apreciacindelahuellaresidualproducidaenelensayo.
5.4.1.2.Ensayosdeinerciaalaaccincida
Losensayosdeinerciaaladisolucinenmediocidoevalanlacantidaddel
selladoatravsdelaprdidademasaqueexperimentaelrecubrimientosometidoa
una disolucin cida a una temperatura y durante un tiempo determinado. Para
realizar el ensayo, se somete una probeta de 0.5 a 1 dm2 de rea a la solucin,

46

previamentepesadadespusdeserdesengrasadaysecatranscurridoeltiempodel
ensayoseextraelaprobetadelasolucin,selavaconaguadestiladaydespusse
seca y se vuelve a pesar. La prdida de masa por unidad de superficie debe ser
inferioraunvaloracordado,odeterminadoencadacaso,sielselladoescorrecto.
Desde hace algunos aos hasta la fecha han sido propuestas diversas soluciones
paraverificarestetipodeensayos:cidontrico10N,solucindesulfitosdico,
solucin de cido actico, solucin de cido fosfrico y crmico, etc. De todas
ellas,lastresltimashansidolasmsempleadas.
Lasolucindesulfitosdico,osolucindeKape,fuemodificadaposteriormente,y
est formada por una solucin acuosa de sulfito sdico al 1%, llevada
sucesivamenteapH3,5y2,5concidoglacialysulfrico5N,respectivamente.Se
utiliza recin preparada, a 90C, y el tiempo de inmersin de la probeta en dicha
solucin es de 20 minutos la prdida de masa del recubrimiento, durante los 20
minutosdeinmersin,debeserinferiora20mg/dm2 cuandoelselladoescorrecto.
Esteensayodebeirprecedidodeunainmersindelaprobetaencidontrico(50%
en volumen) durante 10 minutos, con el objeto de activar la superficie del
recubrimiento.
Lasolucinactica,formadaporunasolucinacuosade100cm3 deacticoglacial
y0,5gdeacetatosdico,seempleaaebullicindurante15minutos.Laprdidade
masa que experimente el recubrimiento de la pieza, sumergida en estas
condiciones,nodebesersuperiora20mg/dm2 sielselladoescorrecto.
Esteensayotambindebeirprecedidodelainmersincidapreviaencidontrico
(50%envolumen)durante10minutos,paraactivarlasuperficiedelrecubrimiento.
LasolucindelfosfricoycrmicofueestudiadaporManhartyCochran[31],y
estconstituidaporunasolucinacuosade35mLdecidofosfricoy20g/Lde
cidocrmicolatemperaturadelasolucindebemantenersea38Cdurantelos15
minutos de duracin del ensayo. Cuando el recubrimiento est bien sellado, la
prdidademasaexperimentadaporelrecubrimientodebeserinferiora30mg/dm2.
Los ensayos de la reactividad a la accin cida que se acaban de citar tienen la
ventajadesercuantitativos,peropresentanlosinconvenientesdeserdestructivosy

47

lentos de realizar en un control de fabricacin. Por estas razones su empleo est

reducidoaensayosdearbitraje,cuandosepresentancasosdudososaldeterminarla
calidaddelselladosiguiendolosmtodosdelagotadecoloranteodemedidadela
admitanciaytambin enlostrabajosdeinvestigacindelaboratorio.
5.4.1.3. Medidasdeimpedanciaodeadmitanciadelrecubrimiento[22]
Durante la operacin del sellado ocurren transformaciones en el
recubrimiento de xido de aluminio, que cambia sus propiedades elctricas, por
consiguiente,atravsdeestoscambiospuedeobtenerseinformacin delsellado.
Los cambios que se producen durante el sellado varan la impedancia del
recubrimiento de xido, antes y despus del sellado. Estos cambios, se aprecian
mejoratravsdelasmedidasdeadmitanciaeimpedanciaquesirvenparaevaluar
la calidad del sellado del recubrimiento andico sin embargo, hay que tener en
cuenta que los valores de las resistencias hmicas y capacitivas, dependen de
muchas variables como son: la naturaleza del metal base, el electrolito, las
condiciones de oxidacin, los procedimientos de sellado, el espesor del
recubrimientoyelenvejecimiento.Porotrolado,las medidasde impedanciaode
admitanciatienelaventajadeserunensayorpidoynodestructivo,porloquese
puedeemplearcomoensayodecontroldeproduccin.Pararealizarestasmedidas
existenequiposenlaactualidadcomoseobservaenlaFigura5.3.

Figura5.3. EquipodeImpedancia

48

CAPTULOVI

IMPEDANCIAELECTROQUMICA

6.1. Impedanciaelectroqumica[23,24]

En principio, un proceso electroqumico podra ser modelado por elementos de

circuitoselctricostalescomoresistores,capacitoreseinductores.Porejemplo,lareaccin
decorrosinensimismapuedemuchasvecessermodeladaporunoomsresistores.Dado
quesepuedemodelarunprocesodecorrosin, estohaceprcticalautilidaddelatcnicade
impedancia.Conestosepuedecaracterizarelprocesodecorrosinelectroqumicamediante
un circuito de corriente alterna. Tal caracterizacin facilita el entendimiento y lleva a
prediccionesmsexactasdelavelocidaddecorrosinysobretododelcomportamientode
lacorrosindeunmaterial.

Antes de examinar algunos de los diferentes modelos, es necesario una breve revisin
terica,conelpropsitodeexplicarelsignificadofsicodelaimpedanciaelectroqumica y
usar los nmeros imaginarios, las cuales son importantes para interpretar los datos y crear
modelos para la tcnica de impedancia. La corriente directa puede ser revisada como
corrientealternaenel lmitede frecuenciacero.Bajocondicionesdecorrientedirecta,por
ejemplofrecuenciacero,laLeydeOhmpuedeserescritacomo:
E:Voltaje
E=IR.

I:Corriente
R:Resistencia

Enelcasoquelaresistenciaestcompuestaporunoomsresistores,cuandolafrecuencia
noescero,comoocurrecuandohaycorrientealterna,laLeydeOhmes:

E=IZ

Bajoestascondiciones,laresistenciaZescausadaportodosloselementosdelcircuitoque
pueden impedir el flujo de corriente, por ejemplo resistores, capacitores e inductores. El
valordelaresistenciaproducidaporelresistoresindependientedelafrecuencia.

49

Cuandolaondadelsenoocosenodelvoltajedelacorrientealternaesaplicadaatravsde
un circuito compuesto de un solo resistor, la corriente resultante es tambin una onda de
senoocosenodelamismafrecuencia,sincambiodefaseperoconunaamplituddiferente.
Si el circuito consiste de capacitores e inductores, la corriente no solo difiere en amplitud
sino tambin en desplazamiento de fase en el tiempo. Este fenmeno es presentado en la
Figura6.1.

Diferencia
defase

Tiempo

Figura6.1. Sealessinusoidalesdevoltajeycorrientedecorriente
alterna(AC)

Elusodelossenosycosenossonmatemticamentecomplejos.Elanlisisvectorialfacilita
para describir el circuito anlogo en trminos matemticos. La relacin entre el anlisis
vectorialynmerosimaginariosproveelabaseparaelanlisisdeimpedancia.Unacorriente
sinusoidalovoltajepuedesergraficadocomounvectorderotacintalcomosemuestraen
la Figura 6.2 en esta figura la corriente rota en una frecuencia angular constante, f
(hertz)o w(radianess1 =2f).Porejemplo,lacorrienteestndaralternapuedeser
graficada como un vector que rota en 60 hertz o 377 radianess1 . En la figura 6.2 el
componente vertical ( x ), define la corriente observada. De este modo se convierte en
componente real del vector rotatorio. El componente horizontal( y), es una contribucin
quenoesobservada,porloquesedenominacomponenteimaginariodelvectorrotatorio.La
descripcinmatemticadelosdoscomponentesseescribecomosigue:

CorrienteReal=IX =Icos(t)
Corrienteimaginario=IY =Isin(t)
I2 =IX 2 +IY 2

50

Real

Representacin
sinusoidal

Representacin
delvector
Imaginario

Tiempo

Figura 6.2. RelacinentrelaCorrienteACsinusoidalyrepresentacindel

vectorrotacional

Elvoltajepuedeserrepresentadocomounvectorderotacinconsupropiaamplitud,E, y
conlavelocidadderotacin.ComosemuestraenlaFigura6.3,cuandolacorrienteest
enfaseconelvoltajeaplicado,losdosvectorescoincidenyrotanjuntos.Estarespuestaes
caractersticadeuncircuitoquecontienesolounresistor.Cuandolacorrienteyelvoltaje
estnfueradefase,losdosvectoresrotanjuntosenlamismafrecuencia,perosecompensan
conunngulollamadoelcambiodelngulodefase.Estarespuestaescaractersticadeun
circuitoquecontienecapacitoreseinductoresenadicinalosresistores.

EnlasmedidasdeimpedanciaporAC,unvectoresobservadoporlosotroscomounmarco
dereferencia.As,deestemodoelpuntodereferencia y ladependenciadeltiempodelas
seales(t)noesobservado.Enadicin,yasealosvectoresdecorrientecomoelvoltaje
estn referidos al mismo marco de referencia. El vector voltaje es dividido por el vector
corrienteyresultaentrminosdeimpedancia,comosemuestraenlaFigura6.4.
Rotacin
VectorImpedancia
Corrientey
voltajeenfase
E/I=Z

Rotacin
Real
Corrientey
voltajefuerade
fase

(Referencia)

Figura 6.3. Vectoresdecorrienteyvoltajeenfasey

fueradefase

51

Figura6.4. VectorImpedancia

La convencin matemtica para separar los componentes real( x ) e imaginario ( y ) es :

multiplicar la magnitud de la contribucin imaginaria por j y reportar los valores real e
imaginarioporseparado.LasecuacionesparaimpedanciaACseconviertenen:

E=Ereal +Eimaginario =E+E

I=Ireal +Iimaginario =I+jI

Z =Z+ jZ=

E+ jE
I+ jI

tan j =

Z
Z

Z = (Z)2 + (Z)2

Elobjetivode la impedancia ACes medir la impedanciaZcomoZ yZ, yluegopoder

establecerapartirdeestosuncircuitoelctricocompuestode unarreglolinealderesistores,
capacitoreseinductores.Todoestosedasi laamplituddecambiode voltajeesbaja(por
ejemplo10mVomenos).Lostreselementosdelcircuitobsicosoncomoseindicaenla
Tabla6.1

Tabla6.1. ElementosdelcircuitobsicodelaimpedanciaAC

Elementos

Figuradel

Ecuacinde

elemento

impedanciaAC

Resistor

Z=R

Capacitor

Z=-

Inductor

1
jwc

Z =jL

52

LaTabla6.1,presentaunresistorque tieneslounacontribucinreal,queeslarespuestade
un resistor que sera paralelo al eje real, independiente de la frecuencia. El capacitor e
inductor, tienen contribucin puramente imaginaria. Sus contribuciones seran paralelas al
eje imaginario. El objetivo de la impedancia AC es modelar el proceso de corrosin en
trminos de elementos del circuito, tales como los mostrados en la Tabla 6.1, y de aquel
modelopodersacaralgunasconclusionessobrelascaractersticasdelprocesodecorrosin.

6.2. Procesodecorrosinsimple

El proceso de corrosin ms simple podra ser la combinacin de una reaccin de

corrosin y una doble capa ( ver Figura 6.4 ). Un ejemplo de este tipo de proceso es la
corrosinuniformequeinvolucraunareaccinqumica.Porejemplo,lacorrosindelacero
alcarbonoenunasolucin1MdeH2SO4 caeenestacategora.Lareaccin:
Fe+2H+

H2 +Fe+2

describelareaccindecorrosin.

Capadifusa
Catinsolvatado

Aninabsorbido especficamente

Molculadesolvente

Figura6.4. Regindeladoblecapadondelosanionesson
especficamenteabsorbidos

Estareaccinpuedeserrepresentadaporunsimpleresistor.Ladoblecapaesproducidapor
el contacto entre la superficie de un metal y algn agente oxidante, tal como el agua u
oxgeno.Esteltimocomponentetiendea ionizarseenaguaasque la superficie secarga.
53

Entantolasuperficiemetlicaseionizar,adyacentealacapadelquidoparabalancearla
carga superficial esto resulta ser un proceso decorrosin simple. La superficie del metal,
respondeaunasealdevoltajeACdeunamaneraanlogaauncapacitor.Sielcomponente
real Z y el negativo del componente imaginario Z, medido como una funcin de la
frecuencia, son ploteados para este tipo de proceso de corrosin simple se obtiene el
esquemamostradoenlaFigura6.5. EstemtododeploteoesllamadoPloteodeNyquist.

80

70

Disminucindelafrecuencia
60

50

Imaginario
Z

40

30

Z
Z

20

10

0102030405060708090

100110120

RealZ
RS +RP

RS
RS +RP

Figura6.5. PloteodeNyquistdeunprocesodecorrosinsimpledetransferenciade
carga

Para este proceso simple, el modelo del circuitoes la que se presenta en la Figura 6.6. El
circuitoesunresistorRP enparaleloauncapacitorC.Latotalidaddelcircuitoestaenserie
conotroresistorRS .LautilidaddelaimpedanciaAC,seencuentraenqueelfactorRS es
igual a laresistenciade lasolucin nocompensadaporelpotenciostatoy RP es iguala la
resistenciaalapolarizacin.Paraelcasodelacorrosindel aceroalcarbonoen1MH2SO4,
por ejemplo, RP es inversamente proporcional a la razn de corrosin. Esta relacin se
encuentra para muchos procesos. El uso de RP con las pendientes de Tafel estiman la
velocidad de corrosin. De este modo la tcnica de impedancia AC permite estimar la
velocidad de corrosin rpidamente en la ausencia de la resistencia de la solucin no
compensadayenelpotencialdecorrosin.
54

RS

Rp

Figura6.6. Circuito quemodelalaimpedanciaAC

LaFigura6.6,describeadecuadamenteelprocesodecorrosin delafigura6.5.

La explicacin completa, de como esta ecuacin puede ser entendida, se consigue con las
figuras6.7ayb.EstemtododeploteoproveemsinformacinquelaFigura6.5,porquela
frecuencia es explcita en la Figura 6.7 a y b, pero es implcito en la Figura 6.5. Ciertas
caractersticas de estos ploteos Bode pueden ser usadas para obtener RS , RP y C. Por
ejemplo,RS (resistenciadelasolucin)estenelvalorlmitedefrecuenciaaltadeZ,RP
esladiferenciaentreellmitedebajafrecuenciayellmitedealtafrecuencia.

55

1000

LogZ

100

Rp

Rs
10
0.111010010001000

10000

(a)Frecuencia(log())

Angulode
fase
( )

0.1110100100010000

100000

(b)Frecuencia(log())

Figura6.7. PloteotipoBodeaybdelcircuitode lafigura6.6

6.3, Controlpordifusin

Larapidezdelareaccinqumicapuedeserfuertementeinfluenciadaporladifusin
deunoomsdelosreactantesoproductosdesdeohacialasuperficie.Estasituacinpuede
darsecuandoladifusinatravsdealgntipodepelculadesuperficiedominaelproceso.
Esteprocesopodraresultarenlasuperficiesiendocubiertasconproductosdelacorrosino
componentesdelasolucinabsorbidas.Unejemplodeestetipodeprocesodecorrosines

56

eldelaceroalcarbonoenH2SO4 concentrado.Talprocesodecorrosinescontroladoporla
difusindeFeSO4 deunapelculasaturadaalsenodelfluido.

Larespuestadeimpedanciaaunprocesodecorrosindominadoporelcontroldedifusin
frecuentementetieneunanicacaractersticaconocidacomolaImpedanciaWarburg.El
ploteo de Nyquist se muestra en la Figura 6.8. En el lmite de ms baja frecuencia la
corrienteesunaconstantede45fueradefaseconloscambiosdepotencial.Larespuestade

Z
Impedancia
imaginario

RS

RP
Z
Impedanciareal

Figura6.8. PloteodeNyquistdeunprocesodetransferenciade
cargaenlapresenciadedifusin

impedancia en ltima instancia, puede desviarse de esta relacin y volver al eje real a
frecuencias muy bajas. El significado de esto es que el proceso de difusin es sensible al
flujodelfluido.

El circuito equivalente se muestra en la Figura 6.9 . El trmino W es la impedancia de

Warburg. Aquello crea las condiciones en que los componentes real e imaginario de la
impedanciasonigualesaunafrecuenciainferior.ElvalordeZparaunsistemacontrolado
por difusinvarainversamenteconlarazcuadradadelafrecuencia.

57

RS

RP

ImpedanceWarburg

Figura6.9. Circuitoquemodelalainfluenciadelprocesopordifusin

6.4. Controlporinductancia

El ploteo de Nyquist frecuentemente tendr una porcin de baja frecuencia que se

encuentra debajo del eje real. Este comportamiento parece surgir, por ejemplo de algunos
tiposdeprocesosdeadsorcin.Noexisteunacuerdoencuantoalacausadelainductancia.
Dehecho,estainductanciapuedeacertadamentedenominarseseudoinductanciayaquelos
procesosquedanlugaralainductanciaprobablementenosoncomolosdeunabobinareal.
Un ejemplo de una respuesta, al usar el mtodo de impedancia electroqumica, en la
presenciadeinductanciasemuestraenlaFigura6.10.

La resistencia de polarizacin RP, es definida como R1 RS tal como la resistencia de

transferenciadecargaRT esdefinidacomoR2 RS .Hayunacontroversiasobrecualvalor
es inversamente proporcional a la velocidad de corrosin. Usualmente , R1 RS es usado
paraclculosdevelocidaddecorrosin.BajoalgunascircunstanciasR2 RS pareceserms
apropiadoparadeterminarlavelocidaddecorrosin.Encualquiercaso,evaluacionesdeRS ,
RP yRT sonimportantesporquecadaunodeellospodranserrelacionadosalavelocidadde
decorrosinoprocesodecorrosin.

58

Z
Impedanciaimaginaria

R1

RS

R2

RP
RT
Z
Impedanciareal

Figura6.10.GrficadeNyquistdeunprocesodecorrosinportransferenciadecarga
enlapresenciadeunaseudoinductancia

AlaFigura6.10,lecorrespondeuncircuitoequivalentecomolaFigura6.11.

Rp

Rs

RL

Figura6.11.Circuitoequivalenteparaunsistemaenlaquehayunproceso
porinductancia

6.5. Caracterizacindelacapaporosadelaluminio[25]

Elmtododeimpedanciaelectroqumica,esunaherramientaquenosdainformacin
detallada de las propiedades electroqumicas de la capa barrera y de la capa porosa de las
diferentesaleacionesdealuminio.El valor de la impedancia en unafrecuenciadadasirve

59

paracalcularlosparmetroselectroqumicosdeunacapadexido,representadosporcada
componente de un circuito equivalente, el cual reproduce el comportamiento de esta capa.
Deestemodo,esposibleconestosparmetrosanalizarlosefectosdealgnfactorsobreel
procesodeselladoyenvejecimientoenlacapadexidodealuminio.

MuchosinvestigadoreshanusadoelmtododeImpedanciaElectroqumicaparacaracterizar
la capa barrera y la capa porosa del aluminio anodizado y sus aleaciones [ 26, 27 ] .
Diferentes circuitos equivalentes han sido propuestos para simular el comportamiento del
aluminioanodizado[26,30].Sehademostradounarelacinentrelosdatosexperimentales
ylosvaloresajustadosconelcircuitoelctricopresentadoenlaFigura6.12cuyoselementos
representanlasdiferentespeculiaridadesdelrecubrimiento.

Capa
intermedia
Almina
hidratada

Almina
anhidra
Capa
barrera

Figura6.12. Esquemadelaestructuradelapelculadelaluminioanodizado.
Elcircuitoelctricopropuestoestasuperpuesto.

LaRP yRb sonlasresistenciasdelacapaporosaycapabarrera,yCP yCb estnasociadas

con las capacitancias no ideal . La CPW representa la capacitancia no ideal de las paredes
hexagonalporquedesualtovalorlaresistenciaparalelaasociadaconesteltimoelemento
notieneunasignificativainfluenciaenlarespuestadelsistema,porloquesepuedeexcluir
delcircuitoelctrico.Sinembargo,uncircuitoelctricofuepropuestoporHitzingyJuttner
paralaspelculasselladasysinsellar,comoseobservaenlaFigura6.13.
60

Figura6.13.Circuitoelctricodeunacapadexidodealuminio
sellado(a),ysinsellar(b).

La Figura 6.14 , representa el diagrama de impedancia tpica de una pelcula andica sin
sellarylaotrasellada,despusde45mindeunselladohidrotrmicoenaguadesionizada.
Comoseobservaenunampliorangodefrecuencia,laimpedanciadeunapelculaandica
sellada y sin sellar difieren por 2 ordenes de magnitud, haciendo que el mtodo de
Impedancia Electroqumica sea una herramienta muy sensitiva a la calidad del selladoo a
detectarcambiosenlascaractersticasdelacapabarrerayporosa.EstaFigura6.14tambin
presenta,en formaesquemticacomo lacapacitanciade la capa barrera yporosaCb y CP,
pueden ser estimados por extrapolacin de las regiones de la lnea recta a la frecuencia
angular=1,ycomolaresistenciadelacapaporosaRPpuedeserestimadadelvalordela
impedanciacorrespondientealafasemnimadelngulo[28].

61

Figura6.14.Pelculasandicassinsellar( )
ypelculasandicasselladas( )

62

7.3. PruebadeImpedanciaElectroqumica

Las pruebas de impedancia se realizaron en el equipo GAMRY INSTRUMENTS

Reference 600 Potentiostat/Galvanostat/ZRA, que est conectado a una computadora que
recibe todos los datos de las pruebas realizadas sobre las probetas de aluminio anodizado
queestn enunaceldaelectroqumica(verFigura7.13).

Celda
Electroqumica

Equipo
GAMRY
INSTRUMENTS

Computadora

Figura 7.13. Sistemademedicinlapruebadeimpedancia

delapelculadexidodealuminio

Ladisposicindelaprobetaenlaceldaelectroqumicapararealizarlasmedicionesescomo
semuestraenlaFigura7.14,dondelasolucinesNaCl al0,5M.(verANEXOV)

De este equipo de GAMRY INSTRUMENTS, se obtiene grficos de impedancia como el

Diagrama de Bode y Nyquist, de los cuales se obtiene la Resistencia de PolarizacinRP ,
comosemuestraenlasFiguras7.15y 7.16.

Adicionalmente, de este equipo de GAMRY INSTRUMENTS se puede extraer los datos

numricos del Diagrama de Bode y Nyquist. Estos datos sontratados en otro software de
clculosogrficos,comoelOrigin8(TheDataAnalysisandGraphingWorkspace),quees

83

el que se usa en esta tesis para construir luego las Figuras 7.17, 7.18 etc. , y as poder
realizareltratamientosdedatosdelasdistintascondicionesdeoperacin.

1. Electrododetrabajo
2. Electrododereferencia
3. Contraelectrodo
Voltmetro(V)
Ampermetro(G)
Celda electroqumica
NaCl0.5M

CeldadeImpedanciaElectroqumica

Figura 7.14. Conexionesdelaprobetaconelequipo

deGAMRYINSTRUMENTS

84

Figura7.15.DiagramadeBodedelaprobetaAl15201.0(1)enlazona1
obtenidadelsoftwarequetieneelequipoGAMRYINSTRUNMENTS

Figura7.16.DiagramadeNyquist,delaprobetaAl15201.0(1)enlazona1
obtenidadelsoftwarequetieneelequipoGAMRYINSTRUNMENTS

85

7.3.1.MedicindelaResistenciadePolarizacinRp
De los datos obtenidos de la evaluacin de Impedancia Electroqumica para cada
condicindeoperacinsegrficael DiagramadeBode,Figura7.17.VerANEXOV.

10

Zona1
Zona2
Zona3
Zona4

10

10

Impedancia,Z(Ohm)

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

Frecuencia,f(Hz)

Zona1
Zona2
Zona3
Zona4

Angulodefase, q ()

20

40

60

80

100

120
4

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

Frecuencia,f(Hz)

Figura7.17.DiagramadeBodedelanodizadoSELLADOde
laprobetaAl15201.5(1),medidarealizadaen4
zonas,aambosladosdelaprobeta.VerANEXO
V.

En esta Figura 7.17 se muestra la evaluacin de impedancia electroqumica de la

probetaAl15201.5(1) enlas4zonas(verANEXOV).
86

LaFigura7.18,muestraelDiagramadeBodepromediodelas4zonasdelaprobeta
Al15201.5(1).

10

Al15201,5(1)
8

10

10

Impedancia,Z(Ohm)

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

Frecuencia,f(Hz)
0

Al15201,5(1)

Angulodefase, q ()

20

40

60

80

100

120
4

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

Frecuencia,f(Hz)

Figura 7.18. Diagrama de Bode promedio de las 4 zonas del

anodizadoSELLADOdelaprobetaAl15201.5(1)

Luegoparaunamismacondicindeoperacindeanodizadosetiene3probetas,por
ejemploseran:Al15201,5(1),Al15201,5(2)y Al15201,5(3).

Porlotanto,setienequeobtenerelDiagramadeBodepromediodelasprobetas
Al 15201,5 (2) y Al 15201,5 (3) ( ver Anexo VI ), tal como se hizo para la
probeta Al15201,5(1).

87

LaFigura7.19muestraelDiagramadeBodepromediodecadaunadelasprobetas
paraunacondicindeanodizadoconcentracin15%deH2SO4,temperatura20Cy
densidaddecorriente1,5A/dm2.

10

Al15201,5(1)
Al15201,5(2)
Al15201,5(3)

10

10

Impedancia,Z(Ohm)

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

Frecuencia,f(Hz)
0

Al15201,5(1)
Al15201,5(2)
Al15201,5(3)

20

Angulodefase, q ()

40

60

80

100

120
4

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

Frecuencia,f(Hz)

Figura 7.19. Diagrama de Bode promedio de cada una de las

probetasanodizadasySELLADAS Al15201,5(1),
Al15201,5(2)yAl15201,5(3)

Previo a determinar la Resistencia de Polarizacin Rp, se tiene que obtener el

DiagramadeBodepromediodelasprobetas Al15201,5(1),Al15201,5(2)y Al
15201,5 (3), y que se denominar el Diagrama de Bode para una condicin de
anodizadoconcentracin15%deH2SO4,temperatura20C ydensidaddecorriente
1,5A/dm2 (Al15201,5).VerFigura7.20.
88

10

Al15201,5
8

10

10

Impedancia,Z(Ohm)

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

Frecuencia,f(Hz)

Al15201,5
20

Angulodefase, q ()

40

60

80

100

120
4

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

Frecuencia,f(Hz)

Figura7.20.DiagramadeBodepromediodelasprobetasanodizadas
ySELLADAS Al15201,5(1),Al15201,5(2)y
Al15201,5(3) denominadaAl15201,5

YateniendoelDiagramadeBodedelAl15201,5,setrazalalnea12(vertical)
del mximo de la curva Frecuencia vs. ngulo de Fase a la curva Frecuencia vs.
Impedanciadeahsetrazalalnea23(horizontal)paradeterminarelvalordeRp.
Veritem 6.5y Figura7.21.

89

10

Al15201,5

10

10

Impedancia,Z(Ohm)

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

Frecuencia,f(Hz)

Al15201,5
20

1
Angulodefase, q ()

40

60

80

100

120
4

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

Frecuencia,f(Hz)

Figura 7.21. Diagrama de Bode del Al 15201,5 SELLADA en la

que se indica como definir el valor de Resistencia de
PolarizacinRp .

EsteprocedimientoparaobtenerlaResistenciadePolarizacinRp,es paraprobetas
anodizadas selladas y no selladas ( ver ANEXO VII ). Adicionalmente se puede
obtenerelcircuitoelctricoequivalente(verANEXOVIII).

OtraformadeobtenerRp esmedianteelDiagramadeNyquist(ver6.3)

LaTabla7.4,muestralosvaloresdeRp detodaslasprobetasdealuminioanodizado
yasealasselladasosinsellar,adiferentescondicionesdeoperacin,obtenidospor
elprocedimientoexplicado.
90

Tabla7.4. ValoresdeRp,adiferentescondiciones
deoperacindeanodizado
10%deH2SO4

Concentracin Temperatura
delH2SO4
deanodizado
(%)
(C)

Densidad
de
corriente
(A/dm2 )

15

1,5

10

20

1,5

Densidad
decorriente
real
(A/dm2 )

Probeta

Rp
(ohm )

1,00

Al10151.0(0)

7,99x103

0,97

Al10151.0(1)

1,4x101

1,01

Al10151.0(2)

1,4x101

1,5

Al10151.0(3)

1,48

Al10151.5(0)

BAJO

1,46

Al10151.5(1)

6,01x103

1,54

Al10151.5(2)

8,83x103

1,53

Al10151.5(3)

2,06

Al10152.0(0)

BAJO

1,88

Al10152.0(1)

9,7x103

2,04

Al10152.0(2)

1,25x104

2,03

Al10152.0(3)

1,09x10

1,02

Al10201.0(0)

2,14x104

1,00

Al10201.0(1)

3,06x104

0,98

Al10201.0(2)

3,16x104

1,01

Al10201.0(3)

3,32x10

1,56

Al10201.5(0)

3,19x103

1,41

Al10201.5(1)

7,64x104

1,46

Al10201.5(2)

7,38x104

1,58

Al10201.5(3)

8,05x10

2,10

Al10202.0(0)

2,33x104

1,71

Al10202.0(1)

5,85x104

2,10

Al10202.0(2)

7,04x104

2,08

Al10202.0(3)

7,02x10

1,00

Al10251.0(0)

4,02x104

0,98

Al10251.0(1)

7.00x103

1,01

Al10251.0(2)

7.09x103

1,00

Al10251.0(3)

5,46x103

1,49

Al10251.5(0)

1,67x104

1,48

Al10251.5(1)

1,91x104

1,49

Al10251.5(2)

2,25x104

1,53

Al10251.5(3)

2,35x104

2,01

Al10252.0(0)

2,11x104

1,84

Al10252.0(1)

5,21x104

2,06

Al10252.0(2)

4,56x104

2,08

Al10252.0(3)

4,50x104

91

2,15x101

1,01

25

Promedio
Rp
(ohm)

3,66 x10

7,57x103

7,88x10

1,10x 104

3,18x104

7,69x104

6,64 x104

6,52x103

2,17x104

4,76x104

Tabla7.4. Continuacin
15%deH2SO4

Concentracin Temperatura
delH2SO4
deanodizado
(%)
(C)

Densidad
de
corriente
(A/dm2 )

15

1,5

15

20

1,5

25

1,5

Densidad
decorriente
real
(A/dm2 )

Probeta

Rp
(ohm)

1,02

Al15151.0(0)

2,74x103

1,00

Al15151.0(1)

1,83x105

0,98

Al15151.0(2)

2,21x105

1,00

Al15151.0(3)

2,24x105

1,58

Al15151.5(0)

2,60x103

1,46

Al15151.5(1)

2,57x105

1,47

Al15151.5(2)

2,92x105

1,50

Al15151.5(3)

3,20x105

1,87

Al15152.0(0)

5.20X103

2,09

Al15152.0(1)

2,97 x105

1,92

Al15152.0(2)

3,35 x105

2,12

Al15152.0(3)

3,30x105

1,01

Al15201.0(0)

4,91x104

0,99

Al15201.0(1)

1,14 x105

0,98

Al15201.0(2)

2,25X105

1,02

Al15201.0(3)

2,49x105

1,51

Al15201.5(0)

1,01x104

1,53

Al15201.5(1)

2,10x105

1,48

Al15201.5(2)

2.83x105

1,47

Al15201.5(3)

2,66x 10

2,00

Al15202.0(0)

2,77x104

1,99

Al15202.0(1)

1,89x105

1,95

Al15202.0(2)

3,43x105

2,05

Al15202.0(3)

3,58x10

1,01

Al15251.0(0)

1,91x104

0,99

Al15251.0(1)

1,34x105

0,99

Al15251.0(2)

1,72x105

1,00

Al15251.0(3)

1,77x10

1,54

Al15251.5(0)

7,42x104

1,51

Al15251.5(1)

1,24x105

1,47

Al15251.5(2)

1,75x105

1,48

Al15251.5(3)

1,78x10

2,02

Al15252.0(0)

5,60x104

2,01

Al15252.0(1)

1,65x105

2,00

Al15252.0(2)

2,15x105

Al15252.0(3)

1,97

92

Promedio
Rp
(ohm)

2,21x10

2,093x105

2,897x105

3,20 x105

1,960x105

2.530x105

2.96x105

1,597x105

1,553x105

2,003x105

Tabla7.4. Continuacin
20%deH2SO4

Concentracin Temperatura
delH2SO4
deanodizado
(%)
(C)

Densidad
de
corriente
(A/dm2 )

15

1,5

20

20

1,5

25

1,5

Densidad
decorriente
real
(A/dm2 )

Probeta

Rp
(ohm )

1,03

Al20151.0(0)

7,62x104

0,96

Al20151.0(1)

9,57x102

0,99

Al20151.0(2)

2,73x103

1,01

Al20151.0(3)

1,67x103

1,49

Al20151.5(0)

3,50x104

1,49

Al20151.5(1)

3,59x103

1,48

Al20151.5(2)

4,25x102

1,53

Al20151.5(3)

7,67x10

1,94

Al20152.0(0)

3,79x104

2,03

Al20152.0(1)

2,39x103

2,02

Al20152.0(2)

2,26x103

2,00

Al20152.0(3)

3,99x10

0,99

Al20201.0(0)

8,54x104

0,99

Al20201.0(1)

3,49x104

1,02

Al20201.0(2)

3,58x104

0,99

Al20201.0(3)

3,42x10

1,51

Al20201.5(0)

8,34x104

1,47

Al20201.5(1)

2,68x104

1,54

Al20201.5(2)

2,81x104

1,49

Al20201.5(3)

2,91x10

1,98

Al20202.0(0)

1,22x105

1,93

Al20202.0(1)

3,94x104

2,00

Al20202.0(2)

3,81x104

2,09

Al20202.0(3)

3,78x10

1,01

Al20251.0(0)

7,13x104

1,02

Al20251.0(1)

2,32x103

0,99

Al20251.0(2)

2,12x103

0,99

Al20251.0(3)

3,17x10

1,49

Al20251.5(0)

8,93x104

1,44

Al20251.5(1)

7,94x103

1,55

Al20251.5(2)

8,36x103

1,52

Al20251.5(3)

5.05x103

2,01

Al20252.0(0)

6,16x104

1,92

Al20252.0(1)

2,45x104

2,07

Al20252.0(2)

2,30x104

2,00

Al20252.0(3)

2,33x104

93

Promedio
Rp
(ohm)

1,786x103

1,594x103

2,88x103

3,50x104

2,80x104

3,84x104

2,537x103

7,116x103

2,36x104

7.3.2.DiscusindelosresultadosexperimentalesdeImpedanciaElectroqumica

1.DelaFiguras7.17ylasdelANEXOVI,seobservaqueelDiagramadeBodede
las 4 zonas prcticamente est superpuesta, lo que da un indicativo de lo
homogneo de la superficie SELLADA. Este comportamiento es algo que se
repiteentodaslasprobetasselladas.

2. Del ANEXO VII, se observa que el Diagrama de Bode de las 4 zonas no

necesariamenteestnsuperpuestas,loquedaunindicativoquelasuperficieNO
SELLADA no es homognea. Este comportamiento es algo que se repite en
todaslasprobetasnoselladas.

3.DelaFigura7.22,adiferentesconcentraciones10%,15%y20%deH2SO4 ,ala
temperaturade20Ccondiferentesdensidadesdecorriente1 1,5y2A/dm2
se observa que la forma de las curvas se diferencian claramente por las
diferentes condiciones de operacin, lo que nos indica que la Impedancia
Electroqumicaesunatcnicademedicindelcomportamientodelapelculade
xido de aluminio bastante sensible. Esto tambin se manifiesta para las
temperaturas de 15C y 25C. Este comportamiento es algo que se repite en
todaslasprobetasselladas.
Entodaslascurvas,ladensidaddecorrientede1A/dm2 deestaFigura7.22,est
debajo de las otras curvas de densidad de corriente de 1,5 y 2 A/dm2, lo que
defineaquelaRp esmenorquealasotrascondicionesdedensidaddecorriente.
4. De la Figura 7.23, para el diagrama de Nyquist a diferentes concentraciones de
10%,15%y20%deH2SO4 ,alatemperaturade20Cyadiferentesdensidades
decorriente11,5y2A/dm2,seobservaquelaformadelascurvasevidencian
conmasclaridadlasdiferenciasdelascondicionesdeoperacin,determinando
unavezmasqueelmtododeImpedanciaElectroqumicaesbastantesensible.
Estecomportamientoesalgoqueserepiteentodaslasprobetasselladas.

94

10

Al10201,0
Al10201,5
Al10202,0

10

10

Impedancia,Z(Ohm)

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

Frecuencia,f(Hz)
9

10

Al15201,0
Al15201,5
Al15202,0

10

10

Impedancia,Z(Ohm)

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

Frecuencia,f(Hz)
9

10

Al20201,0
Al20201,5
Al20202,0

10

10

Impedancia,Z(Ohm)

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

10

Frecuencia,f(Hz)

Figura 7.22. Grficos de Frecuencia vs. Impedancia a

concentraciones de 10, 15, 20% de H2SO4 a
temperatura20Cadensidadesdecorriente1
1,5y2A/dm2,deprobetasselladas.

95

4x10

Al10201,0
Al10201,5
Al10202,0
5

Zimaginario(Ohm)

3x10

2x10

1x10

0
0

1x10

2x10

3x10

4x10

Zreal(Ohm)
5

4x10

Al15201,0
Al15201,5
Al15202,0
5

Zimaginario(Ohm)

3x10

2x10

1x10

0
0

1x10

2x10

3x10

4x10

Zreal(Ohm)
5

4x10

Al20201,0
Al20201,5
Al20202,0
5

Zimaginario(Ohm)

3x10

2x10

1x10

0
0

1x10

2x10

3x10

4x10

Zreal(Ohm)

Figura 7.23. Diagramas de Nyquist a diferentes

condiciones de concentracin de 10%,
15%y20%deH2SO4,deprobetasselladas

96

5.DelaFigura7.24,seobservaquealastemperaturasde15C,20Cy25C laR p
esmayorcuandolaconcentracines15%deH2SO4 paracualquierdensidadde
corriente.
CuandolaconcentracindelH2SO4 es10%,sta tienevaloresdeRp mayoresque
a 20% de H2SO4, para cualquier valor de densidad de corriente. Este
comportamiento es claro cuando la temperatura es a 20C que a 15C y 25C,
quenoestan diferenciado.

6. De la Figura 7.25, se observa que los mayores valores de Resistencia de

Polarizacin Rp se obtienenpara una concentracin del 15%. Y la relacin con
respectoalasRpdelasotrascondicionesdeconcentracin esde6veces.
7.Dela Figura7.25,seobservaque la ResistenciadePolarizacinRp estenuna
escala de 105 para condicin de operacin de 15% de H2SO4, y para las
concentracionesde10%y20%deH2SO4, laRp estentreenunaescalade103
104 .

8. De la Figura 7.26, a una concentracin de 15% de H2SO4 observamos que a

medida que aumenta la temperatura la Rp disminuye y que cuando a corriente
aumentalaRp aumenta.
9.DelaTabla7.4,seobservaqueparalascondicionesdeoperacina10%y15%
lasprobetasnoselladastienen laRp menorque lasprobetasselladas, loquenos
indicaunbuenaislamientodelaluminioporlapelculadexidodealuminio.En
cambioparaunaconcentracindel20%deH2SO4 laprobetanoselladatieneun
Rp mayorqueunasellada,loquenosindicaquelaprobetanosellada,apartede
tenerunapelculadeficiente,enelprocesodeselladosemaltratamaslapelcula
dexidodealuminio.

10. Para poder determinar el valor de Rp, para una condicin de operacin, se
realizaron 12 pruebas de Impedancia Electroqumica. En total para todas las
condicionesmostradasserealizaron324pruebasparalasprobetasselladasy108
pruebasparalasprobetasnoselladas.

97

350000

Tanodizado =15C

300000

10%
15%
20%

Rp(Ohm)

250000

200000

150000

100000

50000

0
1,00

1,25

1,50

1,75

2,00

Densidaddecorriente(A/cm )
5

3,5x10

Tanodizado =20C

3,0x10

2,5x10

10%
15%
20%

Rp(Ohm)

2,0x10

1,5x10

1,0x10

5,0x10

0,0
1,00

1,25

1,50

1,75

2,00

DensidaddeCorriente(A/dm )
5

3,5x10

10%
15%
20%

Tanodizado =25C

3,0x10

2,5x10

Rp(Ohm)

2,0x10

1,5x10

1,0x10

5,0x10

0,0
1,00

1,25

1,50

1,75

2,00

Intensidaddecorriente(A/cm )

Figura 7.24. Grficos de Resistencia de Polarizacin vs.

Densidad de Corriente a concentraciones de
10 15 20% de H2SO4 a temperatura 25C
deprobetasselladas

98

3,5x10

10%15C
10%20C
5

3,0x10

2,5x10

10%25C
15%15C
15%20C
15%25C
20%15C
20%20C
20%25C

Rp(Ohm)

2,0x10

1,5x10

1,0x10

5,0x10

0,0

1,00

1,25

1,50

1,75

2,00

Densidaddecorriente (A/dm )

Figura 7.25. Valores de Resistencia de Polarizacin Rp a

diferentes condiciones de operacin, de
probetasselladas

99

CH SO =10%

1x10

6x10

4x10

dm 2
)

Rp(O hm)

8x10

e(A
/

2,5
4

2x10

dad
de
co
rri

1,5
10

15

Tempe
raturad

20

1,0

25

30

De
nsi

ent

2,0

eanodiz
ado(C
)

CH SO =15%

5x10

3x10

2x10

dm 2
)

Rp(Ohm)

4x10

e(A
/

2,5
5

1x10

15

Tempe
raturad

20

1,0

25

30

o rri

dad
de
c

1,5
10

De
nsi

ent

2,0

eanodiz
ado(C
)

CH SO =20%

1,0x10

6,0x10

1,5
15

20

Tempera
turade
anodiz
ado(

25

C)

1,0
30

De
ns i

10

dad
de
co
rrie

2,0

(A

2,5

2,0x10

0,0

/dm 2
)

4,0x10

nte

Rp(Ohm)

8,0x10

Figura 7.26. Diagramas tridimensionales de Rp vs. temperatura de 15

20 y25C, ydensidadesdecorrientede11,5 y2A/dm2
para concentraciones de 10 15 y 20% de H2SO4, de
probetasselladas.

100

CAPITULOVII
PROCEDIMIENTOEXPERIMENTAL

Elprocedimientoexperimental deestatesisseresume,delasiguienteforma:

Pretratamiento
dela
superficie

Decapado
Alcalino

Neutralizado
PROCESO
DE
ANODIZADO

Anodizado
electroqumico
Anodizado
Sellado

MEDIDAS
DE
IMPEDANCIA
ELECTROQUIMICA

Determinacin
delvalorde
Resistenciade
PolarizacinRp

Diagrama
De
Bode
Diagrama
de
Nyquist

Dondeelprocesodeanodizadotienelafinalidaddeformarlapelculadexidodealuminio,
y las medidasde impedancia electroqumicatienenla finalidaddedeterminar lacapacidad
deresistenciadelapelculaalosambientescorrosivos.

Conelpretratamientodelasuperficie,sedeseaconseguirunperfildelasuperficiemetlica
limpiadetodocontaminanteysindefectos.

Conelsellado,sedeseaobtenerunasuperficiedexidodealuminiouniformeycompactay
dealtaresistenciaalacorrosin.

63

7.1. Preparacin delaprobeta

Las pletinas de aluminio de aleacin Al 6063 ( ver ANEXO I ), se cortaron para

producirprobetasconlassiguientesdimensiones:5,0cm11,0cm3,0mm.

Cada pletina de aluminio es cortada bajo las condiciones descritas anteriormente estas
probetasfueron perforadas parapodersersujetadasenelprocesodeanodizado(Figura7.1),
ysometidasaun procesodeacondicionamientoantesdeprocederalanodizado.

Figura 7.1. Probetasdealuminioutilizadasparaanodizar

7.2. Procesodeanodizado

El proceso de anodizado se realiza siguiendo el procedimiento descrita en la Tabla

7.1,dondeluego deldecapadoalcalino,neutralizado,anodizadoysellado,seprocedeaun
enjuagueconaguadesionizadadespusdecadaunodeestosprocesos.

LaFigura7.2,presentaundiagramadeflujodelanodizadodondeseobservalainstalacin
delproceso.
7.2.1. Pretratamientodelasuperficiedealuminio
El pretratamiento de la superficie del aluminio consiste en el decapado
alcalinoa55Cdurante3minutos,quevaeliminarelxidodealuminioproducido

64

en forma natural, y luego se enjuaga durante 5 segundos. Luego, se realiza el

neutralizadoconHNO3 atemperaturaambientedurante3segundos,parafinalmente
enjuagardurante5segundos.DichoprocesosepuedeapreciarenlaFigura7.3.
Tabla7.1.Condicionesdeoperacindelprocesodeanodizado

Proceso

Condiciones
principales

Temperatura
(C)

Mximo
contenidode
aluminio
(g/L)

Tiempo
de
operacin
(min)

Decapado
alcalino

NaOH5%
50g/L

5055

40

Neutralizado
HNO3

2535vol%
5070g/L

Ambiente

3s

Anodizado

H2SO4 10 1520%de
H2SO4
11,52 A/dm2

15 20 25C

22

45

Sellado

Aguadesionizada

95100

30

Nmero
de
procesos

Pretr atamiento
Anodizado
Sellado

Figura 7.2. Etapasenelprocesodeanodizado

65

Figura7.3.Procesodedecapadoyneutralizado

7.2.2.Anodizado

Paraelanodizadoseutilizaunrectificador(escaladevoltaje030voltios,escalade
corriente025A)condosvoltmetrosdealtaimpedancia,dondeseleedigitalmente
tantoel voltajedelafuentecomolacorrientequeestaentrega.VerFigura7.4

Figura7.4.Rectificadoryvoltmetrosdealtaimpedancia

El rectificador se conecta a la cuba electroltica donde se realiza el anodizado

propiamente secontrolatantolatemperaturacomolacorriente,paraqueladensidad
de corriente no cambie en el tiempo, y se mide el voltaje de operacin. La
temperaturasemantieneconstantemedianteunsistemaderefrigeracinexternoque
extraeelcalordereaccindelanodizado.VerFigura7.5.

66

Probetasdealuminio
colgadasdentrodel
bao
electroltico

Cuba
electroltica

Sistemade
refrigeracin

Ctodosde
plomo

Figura 7.5. Cubaelectrolticaysistemaderefrigeracin

EnlaFigura7.6,semuestrael procesodeanodizado,enlaceldaelectroltica,donde
sepuedesumergirhasta4probetasalavezy anodizaramboslados(Figura7.5).Las
condicionesdeoperacindelanodizadoadiferentesconcentracionesse muestraen
la Tabla 7.2, donde se observa los cambios de las variables de concentracin del
electrolitoH2SO4,temperaturaydensidaddecorrienteparauntiempodeanodizado
de45minutosconagitacin (verANEXOII).
Lasconcentracionesdelelectrolitoqueseestablecenson:10%,15%,20%deH2SO4
Lastemperaturasdelelectrolitoqueseestablecieron son:15C,20Cy25C
Lasdensidadesdecorrientequeseestablecieronson:1 A/dm2,1,5A/dm2 y2A/dm2

Figura7.6.Celdaelectrolticaparaanodizado

67

Lanomenclaturaqueseutilizaparaidentificarunaprobetaeslasiguiente:
Al (concentracin)(temperatura)(densidaddecorriente)(sinoconsellado)
0:sinsellar
1,2,3:nmerodeprobetasellada

Tabla7.2. CondicionesdeOperacindelAnodizado
10%deH2SO4

Temperatura Densidad
de
de
anodizado
corriente
(C)
(A/dm2)

15

1,5

20

1,5

25

1,5

Densidad
de
corriente
real
(A/dm2)

Probeta

1,00
0,97
1,01
1,01
1,48
1,46
1,54
1,53
2,06
1,88
2,04
2,03
1,02
1,00
0,98
1,01
1,56
1,41
1,46
1,58
2,10
1,71
2,10
2,08
1,00
0,98
1,01
1,00
1,49
1,48
1,49
1,53
2,01
1,84
2,06
2,08

Al10151.0(0)
Al10151.0(1)
Al10151.0(2)
Al10151.0(3)
Al10151.5(0)
Al10151.5(1)
Al10151.5(2)
Al10151.5(3)
Al10152.0(0)
Al10152.0(1)
Al10152.0(2)
Al10152.0(3)
Al10201.0(0)
Al10201.0(1)
Al10201.0(2)
Al10201.0(3)
Al10201.5(0)
Al10201.5(1)
Al10201.5(2)
Al10201.5(3)
Al10202.0(0)
Al10202.0(1)
Al10202.0(2)
Al10202.0(3)
Al10251.0(0)
Al10251.0(1)
Al10251.0(2)
Al10251.0(3)
Al10251.5(0)
Al10251.5(1)
Al10251.5(2)
Al10251.5(3)
Al10252.0(0)
Al10252.0(1)
Al10252.0(2)
Al10252.0(3)

Tiempo
Tiempo
Temperatura Temperatura
de
Voltaje
del
media
desellado
Agitacin
sellado
(V)
anodizado
(C)
(C)
(min)
(min)

14,89

14,89

16,07

19,23

21,71

20,17

24,54

24,94

25,18

68

9495

30

9394

30

9495

30

9495

30

9596

30

9496

30

9596

30

9696

30

9495

30

18,71

45

SI

20,27

45

SI

20,83

45

SI

17,03

45

SI

18,66

45

SI

19,55

45

SI

14,83

45

SI

16,99

45

SI

18,10

45

SI

Tabla7.2. Continuacin
15%deH2SO4

Temperatura Densidad
de
de
anodizado
corriente
(C)
(A/dm2)

15

1,5

20

1,5

25

1,5

Densidad
de
corriente
real
(A/dm2)

Probeta

1,02
1,00
0,98
1,00
1,58
1,46
1,47
1,50
1,87
2,09
1,92
2,12
1,01
0,99
0,98
1,02
1,51
1,53
1,48
1,47
2,00
1,99
1,95
2,05
1,01
0,99
0,99
1,00
1,54
1,51
1,47
1,48
2,02
2,01
2,00
1,97

Al15151.0(0)
Al15151.0(1)
Al15151.0(2)
Al15151.0(3)
Al15151.5(0)
Al15151.5(1)
Al15151.5(2)
Al15151.5(3)
Al15152.0(0)
Al15152.0(1)
Al15152.0(2)
Al15152.0(3)
Al15201.0(0)
Al15201.0(1)
Al15201.0(2)
Al15201.0(3)
Al15201.5(0)
Al15201.5(1)
Al15201.5(2)
Al15201.5(3)
Al15202.0(0)
Al15202.0(1)
Al15202.0(2)
Al15202.0(3)
Al15251.0(0)
Al15251.0(1)
Al15251.0(2)
Al15251.0 (3)
Al15251.5(0)
Al15251.5(1)
Al15251.5(2)
Al15251.5(3)
Al15252.0(0)
Al15252.0(1)
Al15252.0(2)
Al15252.0(3)

Temperatura Temperatura
media
desellado
(C)
(C)

13,3

14,3

14,8

18,9

19,7

21,6

24,9

24,3

25,8

69

Tiempode
sellado
(min)

9094

30

9194

30

9596

30

9395

30

9295

30

9195

30

9294

30

9195

30

9092

30

Tiempo
Voltaje
del
Agitacin
(V)
anodizado
(min)

16,56

45

SI

17,80

45

SI

18,64

45

SI

14,50

45

SI

16,05

45

SI

16,67

45

SI

11,90

45

SI

14,45

45

SI

15,34

45

SI

Tabla7.2. Continuacin
20%deH2SO4

Temperatura
Densidad
de
decorriente
anodizado
(A/dm2)
(C)

15

1,5

20

1,5

25

1,5

Densidad
decorriente
real
(A/dm2)

Probeta

1,03
0,96
0,99
1,01
1,49
1,49
1,48
1,53
1,94
2,03
2,02
2,00
0,99
0,99
1,02
0,99
1,51
1,47
1,54
1,49
1,98
1,93
2,00
2,09
1,01
1,02
0,99
0,99
1,49
1,44
1,55
1,52
2,01
1,92
2,07
2,00

Al20151.0(0)
Al20151.0(1)
Al20151.0(2)
Al20151.0(3)
Al20151.5(0)
Al20151.5(1)
Al20151.5(2)
Al20151.5(3)
Al20152.0(0)
Al20152.0(1)
Al20152.0(2)
Al20152.0(3)
Al20201.0(0)
Al20201.0(1)
Al20201.0(2)
Al20201.0(3)
Al20201.5(0)
Al20201.5(1)
Al20201.5(2)
Al20201.5(3)
Al20202.0(0)
Al20202.0(1)
Al20202.0(2)
Al20202.0(3)
Al20251.0(0)
Al20251.0(1)
Al20251.0(2)
Al20251.0(3)
Al20251.5(0)
Al20251.5(1)
Al20251.5(2)
Al20251.5(3)
Al20252.0(0)
Al20252.0(1)
Al20252.0(2)
Al20252.0(3)

Tiempo
Tiempo
Temperatura Temperatura
de
Voltaje
del
media
desellado
Agitacin
sellado
(V)
anodizado
(C)
(C)
(min)
(min)

14,74

15,10

15,66

19,99

20,27

20,33

24,56

24,87

24,19

70

9295

30

9496

30

9495

30

9395

30

9495

30

9495

30

9495

30

9495

30

9495

30

13,77

45

SI

15,38

45

SI

16,26

45

SI

11,54

45

SI

13,49

45

SI

14,83

45

SI

9,84

45

SI

11,94

45

SI

13,40

45

SI

7.2.3. Sellado
Paraelselladodelxidodealuminioseutilizaunacocinillaelctrica,como
se muestra en la Figura 7.7, donde la probeta anodizada se sumerge en agua
desionizadaqueseencuentraenelrangodetemperatura95100C,enunvasopyrex,
durante30minutos.

Figura7.7. Selladodelxidodealuminio

7.2.4.Resultadosexperimentalesdelprocesodeanodizado
Caberesaltarque,una vez culminado el anodizadoa las 4 probetas de
aluminio Al6063(verANEXOII),aunaprobetanoselehaceelselladoyalas
otras tres probetas se les hace el sellado del xido de aluminio, para todas las
condicionesdeoperacinespecificadas.
Lasprobetasalinicioyalfinaldelprocesodeanodizado,yluegodelselladoono,
son pesadas en una balanza TE214S Sartorius de 4 decimales. En la tabla 7.3 se
muestraestosresultadosascomoladiferenciadelospesos.

Tantoalasprobetasquehansidoselladascomoalasquenohansidoselladas,seles
mide el espesor de la capa de xido de aluminio en cada lado de la probeta. Esta
medicin se realiza con un BYKOTEST 7500 digital ( ver Figura 7.8 ). En cada
ladode laprobetaserealiza12 medidasuniformementedistribuidas( ver ANEXO

71

III ), de la cual se obtiene un promedio de cada lado para finalmente obtener el

promedio del espesor de cada una de las probetas. Dichos valores calculados para
distintasconcentracionesdeH2SO4 y semuestranenlaTabla7.3.

Figura7.8. EquipodemedicindeespesoresBYKOTEST7500

Lacorrientequecirculaatravsdelas4probetasinstaladasenlacubaelectroltica
paraelanodizadosonde4A,6Ay8A(queesloquesecontroladurantetodoel
anodizado),paraunreainmersade100cm2 porprobetadeterminandodensidades
decorrientede1A/dm2,1,5A/dm2 y2A/dm2,correspondientemente.Estosvalores
de densidad de corriente se ajustan a los valores de espesor promedio calculado,
obtenindoseunadensidaddecorrienterealparacadaprobeta,comosemuestra en
la Tabla 7.3 para diferentes concentraciones de H2SO4 (verANEXOII).

72

Tabla7.3. Resultadosexperimentalesadiferentesconcentraciones
10%deH2SO4
Densidad
Densidad
Temperatura
de
de
deanodizado
corriente
corriente
(C)
real
(A/dm2)
(A/dm2)

15

1,5

20

1,5

Probeta

Peso
inicial
(g)

Peso
final
(g)

Peso
(g)

1,00

Al10151.0(0)

42,0237

41,9436

0,0801

0,97

Al10151.0(1)

42,4343

42,3561

0,0782

1,01

Al10151.0(2)

41,9621

41,8568

0,1053

1,01

Al10151.0(3)

42,5914

42,4867

0,1047

1,48

Al10151.5(0)

42,9159

42,9022

0,0137

1,46

Al10151.5(1)

42,5412

42,5353

0,0059

1,54

Al10151.5(2)

42,5510

42,5832 0,0322

1,53

Al10151.5(3)

42,3930

42,427

0,0340

2,06

Al10152.0(0)

42,3230

42,2156

0,1074

1,88

Al10152.0(1)

42,383

42,2822

0,1008

2,04

Al10152.0(2)

42,3766

42,3305

0,0461

2,03

Al10152.0(3)

42,5575

42,5065

0,0510

1,02

Al10201.0(0)

42,5543

42,4973

0,0570

1,00

Al10201.0(1)

42,3601

42,3132

0,0469

0,98

Al10201.0(2)

42,2013

42,1667

0,0346

1,01

Al10201.0(3)

42,2194

42,1822

0,0372

1,56

Al10201.5(0)

43,0648

42,8763

0,1885

1,41

Al10201.5(1)

42,9911

42,8146

0,1765

1,46

Al10201.5(2)

42,3462

42,2346

0,1116

1,58

Al10201.5(3)

42,2450

42,1502

0,0948

2,10

Al10202.0(0)

42,7129

42,7290 0,0161

1,71

Al10202.0(1)

42,3460

42,3397

2,10

Al10202.0(2)

42,5955

42,6350 0,0395

2,08

Al10202.0(3)

42,7581

42,7844 0,0263

1,00

Al10251.0(0)

42,8350

42,5417

0,2933

0,98

Al10251.0(1)

42,9247

42,6449

0,2798

1,01

Al10251.0(2)

42,4685

42,2850

0,1835

1,00

Al10251.0(3)

42,2088

42,0290

0,1798

1,49

Al10251.5(0)

42,5489

42,4078

0,1411

1,48

Al10251.5(1)

42,6114

42,4956

0,1158

1,49

Al10251.5(2)

42,6272

42,5586

0,0686

1,53

Al10251.5(3)

42,8113

42,7428

0,0685

2,01

Al10252.0(0)

42,3423

42,3338

0,0085

1,84

Al10252.0(1)

42,5978

42,5477

0,0501

2,06

Al10252.0(2)

42,8582

42,8463

0,0119

2,08

Al10252.0(3)

42,8411

42,8661 0,0250

25

1,5

73

Espesor
(mils)
Espesor
milsimade
(m)
pulgada
0,49

12,15

0,48

12,05

0,71

17,71

0,72

18,11

1,02

25,54

0,98

24,56

0,48

12,00

0,47

11,83

0,92

22,90

0,87

21,84

1,05

26,32

0,98

24,62

0,47

11,65

0,46

11,59

0,71

17,78

0,71

17,87

0,98

24,49

0,97

24,23

0,0063

Tabla7.3. Continuacin
15%deH2SO4
Densidad
Densidad
Temperatura
de
de
deanodizado
corriente
corriente
(C)
real
(A/dm2)
(A/dm2)

15

1,5

20

1,5

25

1,5

Peso
inicial
(g)

Probeta

Peso
final
(g)

Peso
(g)

Espesor
(mils)
milsima
depulgada

Espesor
(m)

0,53

13,15

0,51

12,71

0,80

19,90

0,74

18,40

0,96

23,95

1,05

26,30

0,49

12,36

0,49

12,26

0,74

18,47

0,73

18,32

0,98

24,46

0,98

24,41

0,47

11,63

0,46

11,39

0,71

17,73

0,69

17,18

0,94

23,57

0,93

23,29

1,02

Al15151.0(0)

42,8798 42,7680

0,1118

1,00

Al15151.0(1)

43,2895 43,1851

0,1044

0,98

Al15151.0(2)

43,2739 43,1661

0,1078

1,00

Al15151.0(3)

44,3542 44,2633

0,0909

1,58

Al15151.5(0)

43,0696 43,0357

0,0339

1,46

Al15151.5(1)

43,6336 43,6091

0,0245

1,47

Al15151.5(2)

42,8902 42,8160

0,0742

1,50

Al15151.5(3)

43,4957 43,4281

0,0676

1,87

Al15152.0(0)

42,6903 42,6291

0,0612

2,09

Al15152.0(1)

42,8358 42,8152

0,0206

1,92

Al15152.0(2)

42,9892 42,9563

0,0329

2,12

Al15152.0(3)

42,1635 42,1529

0,0106

1,01

Al15201.0(0)

43,3203 43,1242

0,1961

0,99

Al15201.0(1)

43,5451 43,3853

0,1598

0,98

Al15201.0(2)

43,4961 43,3108

0,1853

1,02

Al15201.0(3)

43,2825 43,1256

0,1569

1,51

Al15201.5(0)

43,1015 42,9442

0,1573

1,53

Al15201.5(1)

43,3655 43,2431

0,1224

1,48

Al15201.5(2)

43,0995 42,9520

0,1475

1,47

Al15201.5(3)

43,0038 42,8446

0,1592

2,00

Al15202.0(0)

43,3274 43,1996

0,1278

1,99

Al15202.0(1)

43,7316 43,6374

0,0942

1,95

Al15202.0(2)

43,0907 43,0297

0,0610

2,05

Al15202.0(3)

43,6764 43,6378

0,0386

1,01

Al15251.0(0)

43,8778 43,7529

0,1249

0,99

Al15251.0(1)

43,2250 43,1178

0,1072

0,99

Al15251.0(2)

43,4993 43,3374

0,1619

1,00

Al15251.0(3)

43,3084 43,1479

0,1605

1,54

Al15251.5(0)

43,2760 43,0739

0,2021

1,51

Al15251.5(1)

42,9315 42,7624

0,1691

1,47

Al15251.5(2)

43,1348 42,9546

0,1802

1,48

Al15251.5(3)

42,6133 42,4281

0,1852

2,02

Al15252.0(0)

42,1717 42,0056

0,1661

2,01

Al15252.0(1)

42,8260 42,7046

0,1214

2,00

Al15252.0(2)

42,3993 42,1924

0,2069

1,97

Al15252.0(3)

42,8123 42,6128

0,1995

74

Tabla7.3. Continuacin
20%deH2SO4
Temperatura
deanodizado
(C)

Densidad
de
corriente
(A/dm2)

15

1,5

20

1,5

25

1,5

Densidad
de
corriente
real
(A/dm2)

Probeta

1,03

Al20151.0(0)

0,96

Al20151.0(1)

0,99
1,01

Peso
(g)

Espesor
(mils)
milsimade
pulgada

Espesor
(m)

42,6565 42,6145

0,0420

0,50

12,47

42,3971 42,3624

0,0347

Al20151.0(2)

41,9604 41,8452

0,1152

0,48

11,98

Al20151.0(3)

42,0280 41,9093

0,1187

1,49

Al20151.5(0)

42,7953 42,7193

0,0760

0,73

18,36

1,49

Al20151.5(1)

42,5515 42,4904

0,0611

1,48

Al20151.5(2)

42,8287 42,7004

0,1283

0,74

18,46

1,53

Al20151.5(3)

42,8258 42,6965

0,1293

1,94

Al20152.0(0)

42,1544 42,1828

0,0284

0,97

24,20

2,03

Al20152.0(1)

43,0158 43,0730

0,0572

2,02

Al20152.0(2)

42,2385 42,2112

0,0273

1,01

25,18

2,00

Al20152.0(3)

42,1905 42,1587

0,0318

0,99

Al20201.0(0)

42,2101 42,1258

0,0843

0,46

11,39

0,99

Al20201.0(1)

42,4288 42,3525

0,0763

1,02

Al20201.0(2)

42,5848 42,4643

0,1205

0,46

11,50

0,99

Al20201.0(3)

42,2532 42,1337

0,1195

1,51

Al20201.5(0)

42,3758 42,1425

0,2333

0,73

18,14

1,47

Al20201.5(1)

42,3273 42,1152

0,2121

1,54

Al20201.5(2)

42,5307 42,3357

0,1950

0,72

18,01

1,49

Al20201.5(3)

42,1988 41,9944

0,2044

1,98

Al20202.0(0)

42,1820 42,0791

0,1029

0,96

24,09

1,93

Al20202.0(1)

42,4404 42,3491

0,0913

2,00

Al20202.0(2)

42,7005 42,6105

0,0900

0,97

24,33

2,09

Al20202.0(3)

42,4138 42,3345

0,0793

1,01

Al20251.0(0)

42,3871 42,2450

0,1421

0,45

11,34

1,02

Al20251.0(1)

42,2987 42,1661

0,1326

0,99

Al20251.0(2)

42,3475 42,2312

0,1163

0,45

11,24

0,99

Al20251.0(3)

42,3365 42,2209

0,1156

1,49

Al20251.5(0)

42,0415 41,9212

0,1203

0,71

17,70

1,44

Al20251.5(1)

42,3156 42,2178

0,0978

1,55

Al20251.5(2)

42,2384 41,9781

0,2603

0,72

17,90

1,52

Al20251.5(3)

42,4386 42,1836

0,2550

2,01

Al20252.0(0)

43,0360 42,7976

0,2384

0,97

24,24

1,92

Al20252.0(1)

42,5122 42,3233

0,1889

2,07

Al20252.0(2)

42,8445 42,5632

0,2813

0,96

24,12

2,00

Al20252.0(3)

42,9708 42,6852

0,2856

Peso
inicial
(g)

75

Peso
final
(g)

7.2.5.Discusindelosresultadosexperimentalesdelprocesodeanodizado

1. De la Tabla 7.2, se observa que las temperaturas de anodizado sonde 15, 20 y

25C nominalmente pero la temperatura media, que es la medida real del
proceso, se controla alrededor de estas temperaturas nominales en 1,5C. Ver
ANEXOII.

2. De la Tabla 7.2, se observa que 3 probetas de una condicin de operacin que

entran a sellarse, estn a una temperatura de 25C y son sumergidas en agua
desionizada a 95C durante los 30 minutos que dura el proceso de sellado, para
llegarasellarlosporosdelxidodealuminio[9].

3. De la Tabla 7.2, se observa que la densidad de corriente real en cada probeta a

diferentescondicionesdeoperacin,esobtenidacomoseindicaenelANEXOII.
Esta densidad de corriente expresa la distribucin de la corriente elctrica (sea
este de 4, 6 y 8 amperios) sobre la superficie de la probeta y el espesor de la
pelculadexidodealuminioqueestagenera.

4. El proceso de anodizado se ha realizado controlando yfijando la temperatura a

15C,20C,y 25C,laconcentracindeH2SO4 a10%,15%y20%,yladensidad
decorrientea11,5y2A/dm2manteniendoconstanteeltiempodeanodizado,y
laagitacindelasolucindeH2SO4.Comoresultadodelanodizadoseobtuvieron
valoresdevoltajey espesoresdepelculadelxidodealuminio.

5.DelaTabla7.2y Figura7.9,seobservaqueparacada temperaturade15C,20C

y25Cel voltajedecrecea medidaque laconcentracindelH2SO4 aumenta.Lo
que nos indica queelelectrlitoofrecemenosresistenciaalpasodelacorriente
(item 3.3.1y[29]).

6.DelaTabla7.2yFigura7.10, sepuedeobservarparalosvoltajesdeanodizado
bajotodaslascondicionesdeoperacin,queamedidaquelatemperaturaaumenta
elvoltaje de anodizado disminuye. La excepcin se da a 15% de H2SO4 y 15C
conrespecto al caso de 10% de H2SO4 y 25C, as como para 20% y 15C con
respecto al caso de 15% de H2SO4 y 25C, como que la temperatura tiene un
76

mayor efecto sobre el voltaje ( item3.3.1 y [29] ) dada la resistencia que va se

generandoporlaformacindelapelculadexidodealuminio.

7.DelaTabla7.2ylasFiguras7.9y7.10, seobservaqueamedidaqueaumentala
densidaddecorrienteaumentael voltajedeanodizado.Lo quedeterminaque el
espesor tambin aumente como se observa en la Tabla 7.3. En consecuencia, la
resistencia de la pelcula de xido de aluminio tambin se incrementa ( item
3.3.1 ).

8.Cuandoaumentaelvoltaje,lacantidadtotaldeelectricidadaumenta,portanto,la
cantidad de suministro de energa ( cantidades de corriente y voltaje ) debe
considerarsecuidadosamente.Siladensidaddecorrienteesexcesivamentealta,es
probablequelapelculadexidodealuminioseadeficiente.

77

25,0

Tanodizado =15C
22,5

10%
15%
20%

Voltaje(V)

20,0

17,5

15,0

12,5

10,0
1,00

1,25

1,50

1,75

2,00

Densidaddecorriente (A/dm )
25,0

Tanodizado =20C
22,5

10%
15%
20%

Voltaje(V)

20,0

17,5

15,0

12,5

10,0
1,00

1,25

1,50

1,75

2,00

Densidaddecorriente (A/dm )
25,0

Tanodizado =25C

22,5

10%
15%
20%

20,0

Voltaje(V)

17,5

15,0

12,5

10,0

7,5

5,0
1,00

1,25

1,50

1,75

2,00

Densidaddecorriente (A/dm )

Figura 7.9. Voltajes del anodizado a cada temperatura,

concentracin de H2SO4 y densidad de
corriente

78

25,0

22,5

20,0

Voltaje(V)

17,5

15,0

12,5
10%15C
10%20C
10%25C
15%15C
15%20C
15%25C
20%15C
20%20C
20%25C

10,0

7,5

5,0
1,00

1,25

1,50

1,75

2,00

Densidaddecorriente (A/dm )

Figura 7.10. Voltajes del anodizado, de todas las

condicionesdeoperacin

9. De la Tabla 7.3, se observa que la variacin de peso entre el peso inicial de la

probeta ( luego de limpiar la probeta y antes de que entre al proceso de
anodizado)yelpesofinaldelaprobeta(luegodesellarlaprobetaysecarla),
Peso=PesoinicialPesofinal,casisiempreespositivoloquenosindica
que en este proceso de anodizado casi siempre hay una prdida de peso de
aluminio que se va a la solucin, mayor al peso delxido de aluminio que se
produce.

10.DelaTabla7.3,seobservaqueelPesonoestanuniformeencadaunadelas
probetas para una misma condicin de operacin, por lo que estos resultados
sirven slo como referencia para ver que tan diferente estamos tratando la
probetaenelprocesohastaantesdeentraralbaoelectroltico.

11. De la tabla 7.3, se observa que las mediciones de espesor son uniformes para
cadacondicindeoperacinyentre las4probetas.Ambos ladosde laprobeta
prcticamentetienenespesoresmediossimilares(verANEXOIII).

12. De la Tabla 7.3 y Figura 7.12, se observa que los espesores para un grupo de
probetas,deunamismaconcentracin,aunamismatemperatura yadiferentes
densidadesdecorriente,sondeordencreciente.Porejemplo:

79

Al15201,0(0)cuyoespesores0,495mils(12,36m)
Al15201,5(0)cuyoespesores0,740mils(18,47m )
Al15202,0(0)cuyoespesores0,980 mils(24,46m)

Estos valores de espesor nos indicanque el proceso deoxidacin del aluminio

aumenta por la mayor reaccin que se produce al aumentar la densidad de
corriente,apesardelataquedelasolucindelH2 SO4 alxidodealuminio,que
sevaproduciendo(item 3.3.4y[1]).

13. De la tabla 7.3 y Figura 7.12, se aprecia que los espesores para un grupo de
probetas, siendo la concentracin la misma a diferentes temperaturas y a una
mismadensidaddecorrientesondeordendecreciente.Porejemplo:

Al15151.0(0)cuyoespesores0,525mils(13,15m)
Al15201,0(0)cuyoespesores0,495 mils(12,36m)
Al15251,0(0)cuyoespesores0,465 mils(11,36m)

Este comportamiento se debe a que a medida que aumenta la temperatura la

solucin de H2SO4 ataca ms al xido de aluminio que se va formando,
manteniendounamismadensidaddecorriente( item 3.3.4y[1]).

14. Del ANEXO III y la Tabla 7.3, los resultados de espesores a una misma
concentracin, misma temperatura y una misma densidad de corriente, nos
indican la repetibilidad de la operacin de anodizado, dado que estos
valores estn dentro de un promedio, ms an tomando en cuenta que la
probetanoselladanosediferenciatantoconlasselladas.Porejemplo:

Al15201.0(0)cuyoespesores0,495 mils(12,36m)
Al15201,0(1)cuyoespesores0,490mils(12,25m)
Al15201,0(2)cuyoespesores0,485 mils(12,13m)
Al15201.0(3)cuyoespesores0,500mils(12,50m)

aunqueelespesorde lasplacas noselladases mayorque lasselladas,encasi

todaslascondicionesdeoperacin.
80

15. De la Figura 7.11, se observa que la diferencia entre los espesores medidos, a
unamismadensidaddecorriente,estndentrodeunrangode1,54micrones
(m ),loquenosindicapocasensibilidaddediferenciacindelosespesoresa
diferentes condiciones de concentracin y temperatura, y a una misma
densidaddecorriente.

16.DelaFigura7.12,seobservaqueaunaconcentracindel15%deH2SO4 existe
una relativa diferenciacin de los valores de espesor, que no se muestra
claramentealasotrasdeconcentracionesde10%y20%deH2SO4.

27,5

25,0

Espesor(mm )

22,5

20,0

17,5

CH SO

10%,15C
10%,20C
10%,25C
15%,15C
15%,20C
15%,25C
20%,15C
20%,20C
20%,25%

15,0

12,5

10,0
1,00

1,25

1,50

1,75

2,00

Densidaddecorriente (A/dm )

Figura7.11. Espesordelapelculadexidodealuminio
adiferentescondicionesdeoperacin.

81

27,5

CH SO =10%
2

25,0

Espesor(mm)

22,5

15C
20C
25C

20,0

17,5

15,0

12,5

10,0
1,00

1,25

1,50

1,75

2,00

Densidaddecorriente(A/dm )
27,5

CH SO =15%
2

25,0

Espesor(mm)

22,5

15C
20C
25C

20,0

17,5

15,0

12,5

10,0
1,00

1,25

1,50

1,75

2,00

Densidaddecorriente(A/dm )
27,5

CH SO =20%
2

25,0

Espesor(mm)

22,5

15C
20C
25C

20,0

17,5

15,0

12,5

10,0
1,00

1,25

1,50

1,75

2,00

Densidaddecorriente(A/dm )

Figura 7.12. Espesor de la pelcula de xido de aluminio a

diferentescondicionesdeconcentracindeH2SO4

82

CONCLUSIONES

1. Para la aleacin Al 6063, a una densidad de corriente de 2 A/dm2 y tiempo de

anodizado de 45 minutos, la Resistencia de Polarizacin Rp o resistencia a la
corrosindeunapelculadexidodealuminiosellada,yelespesordelapelcula
de xido de aluminio, son altas, independientemente para cada temperatura y
concentracin.

2.Lascondicionesdeoperacindeanodizadorecomendable,paralaaleacinAl6063,
son20C1.5C,15%desolucindeH2SO4 y1,5A/dm2 0,25A/dm2.Aestas
condiciones de operacin se encuentran los valores ms altos de Resistencia de
PolarizacinRp.

3. Las temperaturas especificadas de 15C, 20C y 25C variaron en la operacin de

anodizado en alrededor de 1,5C. Estos cambios no han influenciado en la
tendencia de los valores de Resistencia de Polarizacin Rp, obtenidos por
ImpedanciaElectroqumica,paralaaleacinAl6063.

4.ElmtododeImpedanciaElectroqumica,diferencialosvaloresdeRp conbastante
sensibilidad, ante los cambios de condiciones de operacin del anodizado para la
aleacinAl6063.

5.ElvoltajedelprocesodeanodizadoparalaaleacinAl6063aumentaenlamedida
quelatemperaturayconcentracindelH2SO4 disminuye.

101

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