TheseCoulibaly TEL

dordre : ECL 200913 Anne 2009
T H S E

prsente devant

LCOLE CENTRALE DE LYON

pour obtenir le grade de

DOCTEUR
(Arrt du 30/03/1992)
Spcialit: Gnie Electrique

Prpare au sein de

LCOLE DOCTORALE
LECTRONIQUE, LECTROTECHNIQUE, AUTOMATIQUE
DE LYON

par

Mamadou Lamine COULIBALY

Caractrisation des dcharges lectriques
se propageant aux interfaces gaz/solide Relation entre
proprits des matriaux et dimension fractale

Soutenue le 7 juillet 2009 devant la commission dexamen

J U R Y

G. ROJAT Professeur Universit Claude Bernard Lyon 1 Prsident
C. BROSSEAU Professeur Universit de Bretagne Occidentale Brest Rapporteur
I. FOFANA Professeur Universit du Qubec (UQAC) - Canada Rapporteur
A. BEROUAL Professeur Ecole Centrale de Lyon AMPERE - Lyon Directeur de thse
R.R. DIAZ Professeur Universit Nationale de Tucuman - Argentine Examinateur
O. AITKEN Dr. Ing. AREVA T&D ARC Villeurbanne Examinateur
A. GIRODET Ingnieur AREVA T&D Responsable ARC Villeurbanne Invit
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monpreetmamre.
monpouseetmafille.
mesfrresetsurs.
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Remerciements
Ce travail de thse est laboutissement dune dynamique de collaboration entre le

laboratoire AMPERE sur son site de lEcole Centrale de Lyon et le laboratoire LTM
(LaboratoireTechnologieetMatriau)delasocitAREVAT&DVilleurbanne.
Jexprime ma profonde reconnaissance et mes sincres remerciements mon

directeur de recherche, le professeur Abderrahmane BEROUAL, pour avoir cru en mes
capacitspourmenerbiencetravailquilatoujoursdirigavecunetrsgranderigueur
scientifique. Sa disponibilit, ses conseils, ses encouragements et sa bonne humeur durant
toutes ces annes mont t dune grande utilit. Sur le plan humain aussi bien que
scientifique,ilasurpondremesnombreusessollicitationsavecefficacit.Quiltrouveici
letmoignagedetoutemagratitude.
Mes remerciements vont Monsieur Laurent Nicolas, directeur du laboratoire

AMPERE, pour mavoir accueilli au sein de son unit de recherche, au professeur Philippe
AURIOL, ancien directeur du dpartement Electrotechnique, Electronique et Automatique
(EEA) de lEcole Centrale Lyon ainsi quau professeur Alain Nicolas, responsable de la
formationdoctorale.
Je tiens remercier Monsieur J. L. BESSEDE, ancien responsable du LTM qui a bien

voulumaccueillirsursonsitedurantmonstagedeMaster.
QueMonsieurChristianBROSSEAU,ProfesseurluniversitdeBretagneOccidentale
Brest et Monsieur Issouf FOFANA, professeur luniversit du Qubec Chicoutimi
(Canada),trouventiciletmoignagedemessincresremerciementspouravoiracceptde
rapportersurcetravail.
Je remercie vivement MonsieurGrard ROJAT professeur lUniversit Claude

Bernard de Lyon et Monsieur Ricardo R. DIAZ, professeur lUniversit Nationale de
TucumanArgentinepouravoiracceptdeparticipercejury.
Mes plus sincres remerciements lendroit de Madame Oana AITKEN, Docteur

ingnieur et Monsieur Alain GIRODET, ingnieur et responsable du LTM dAREVA T&D
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Villeurbanne, pour leur soutien tout au long de ma thse et lintrt quils ont port ces
recherchesainsiquepourleurparticipationaujury.
Jadressegalementmesremerciements:
TouslespersonnelstechniquesetadministratifsdAMPEREetplusparticulirement
Madame Josiane CHABERT et MM. Richard BARTHOLET, Daniel PREBET, Guillaume
LIBAUDE,etPhilippeBILLOUX,..).
MessieursJaquesPORTE,PierreGIANNINI,YannickKIEFFEL,duLTMdAREVAT&D
VilleurbanneetChristophePERRIERduTICCAREVAT&DMassypourleursconseilsetleur
sympathie.
Mescollgues(ouancienscollgues)SimonDIAMPENI,BoubekeurMERABET,Kevin
BERGER et surtout Jean Hubert Rakotonandrasana pour les changes fructueux que jai
eusaveclui.JeremerciegalementM.KEBBABILazhar,Dr.IngnieurchezNexans.
Monsieur COULIBALY Abdoulah, prsident de lIHEM, pour son soutien prcieux

duranttouteladuredemathse.
Je ne saurais terminer sans adresser mes plus vifs remerciements toutes les
personnes, qui par leur soutien (moral, physique ou autres) de prs ou de loin, ont
contribularalisationdecetravailetplusparticulirementtoutelafamilleKONATE
deNeuillyPlaisanceetmesamisdeLyonetsurtoutMonsieurOUEDRAGOAbdoulayeetsa
famille.

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Rsum

Ce travail porte sur ltude de la morphologie et de la longueur finale L
f
des dcharges
se propageant sur divers types de dilectriques solides (PTFE avec diffrentes charges, rsine
Epoxy et verre) en prsence des gaz SF
6
, N
2
et CO
2
ainsi que des mlanges SF
6
- N
2
et SF
6
-
CO
2
, sous tension de foudre (1,2/50 s), en gomtrie pointe - plan. Les matriaux considrs
ont t choisis pour leur grande utilisation dans les applications haute et moyenne tensions
(disjoncteurs en particulier). Les caractristiques de la dcharge sont analyses en fonction de
lamplitude et de la polarit de la tension, de la nature et de lpaisseur de lisolant solide, du
type et de la pression du gaz (ou mlange) ainsi que de la concentration des gaz constituant le
mlange.

Il ressort des rsultats obtenus que laspect morphologique des dcharges varie selon les
constituants de linterface gaz/solide, lamplitude et la polarit de la tension ainsi que la
pression du gaz. En prsence dun gaz ou mlange donn, L
f
augmente quasi-linairement
avec la tension et dcrot lorsque la pression, lpaisseur du solide dilectrique et/ou le taux de
SF
6
dans le mlange augmentent. Aussi, pour une tension et une pression donnes, L
f
est plus
lev en polarit positive alors que la tension dapparition des dcharges est plus leve en
polarit ngative. Les rsultats obtenus avec lazote et le mlange SF
6
- N
2
sont trs alatoires.
Le calcul du champ par lments finis (Flux 2D/3D) montre que le renforcement du champ au
voisinage de la pointe est dautant plus important que la diffrence entre la constante
dilectrique du matriau solide et celle du gaz est grande. Les enregistrements de courants
associs aux dcharges ont rvl lexistence dune dcharge secondaire de signe oppos la
tension applique. Ce phnomne est d laccumulation de charges sur la surface de
lisolant solide ; certains matriaux accumulent moins de charges surfaciques et la longueur
finale des dcharges qui sy dveloppent est plus courte. Une relation entre le type de gaz
(mlange) et sa pression, la nature du dilectrique solide et son paisseur, et la dimension
fractale D des dcharges a t tablie. D diminue lorsque lpaisseur e du solide et/ou la
pression du gaz augmente et/ou la permittivit dilectrique du solide diminue.

Mots cls :
Dcharges glissantes ; interface solide/gaz ; streamers ; contournement ; dimension fractale.

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Abstract
This work deals with the study of morphology and final length L
f
of creeping discharges
propagating over different kinds of solid dielectrics (PTFE with various fillers, Epoxy resin
and glass) in presence of SF
6
, N
2
and CO
2
gases as well as SF
6
- N
2
and SF
6
- CO
2
mixtures,
under lightning impulse voltage (1.2/50 s) using a point - plane electrode arrangement. The
materials we considered were selected for their wide use in high voltage apparatus such as
GIS and circuit breakers. The characteristics of creeping discharges are analyzed in function
of the amplitude and polarity of voltage, the kind and thickness of solid insulator, the type of
gas (or mixtures) and pressure as well as the concentration of constituents of mixtures.

Its shown that the morphological of creeping discharges depends on the components of
solid/gas interface, the amplitude and polarity of voltage as well as the gas pressure. In
presence of a given gas (mixture), L
f
increases quasi-linearly with the voltage and decreases
when the pressure and/or the thickness of insulator and/or the rate of SF
6
in a given mixture
increase. And for given voltage and pressure, L
f
is higher when the point electrode is positive
whereas the initiation threshold voltage of discharges is higher with a negative point. The
results obtained with nitrogen and SF
6
- N
2
gas mixture are very scattered. The computation
of electric field using the finite elements method (Flux 2D/3D codes) shows that the electric
field is enhanced in the vicinity of the point; its more important as the difference between the
dielectric constants of gas and solid material is high. The recordings of currents associated to
discharges revealed the existence of a secondary discharge of opposed sign to the applied
voltage. This phenomenon is due to the accumulation of charges at the surface of solid
insulator; some materials accumulate less surface charges and the final length of the
discharges which develop over them is shorter. A relation between the type of gas (mixture)
and its pressure, the kind of dielectric solid and its thickness, and the fractal dimension D of
discharges was established. D decreases when the thickness e of solid and/or the pressure of
gas increase and/or the dielectric constant of insulator decreases.

Keywords :
Creeping discharges ; solid/gas interface ; streamers ; flashover ; fractal dimension.
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TABLEDESMATIERES
Listesdessymboles&abrviations.....................................................................................V
Listedesfigures...........................................................................................................................VII
listedestableaux..................................................................................................................XIII

Introductiongnrale..............................................................................................................1

CHAPITRE1:PHYSIQUEDELADECHARGEDANSLESGAZ,SOLIDES
ETINTERFACESGAZ/SOLIDE

1Introduction.............................................................................................................................................7
2Phnomnesdedchargesdanslesgaz.........................................................................7
2.1 CARACTERISTIQUES COURANT - TENSION .................................................................................................... 8
2.1.1 Dcharge non autonome sans multiplication lectronique ................................................................. 8
2.1.2 Dcharge non autonome avec multiplication lectronique ................................................................ 8
2.1.3 Dcharge autonome .......................................................................................................................... 12
2.2 DECHARGES EN FORMES DE CANAUX - STREAMERS ..................................................................................... 15
2.3 TENUE DIELECTRIQUE DE LAIR EN CHAMP UNIFORME ............................................................................... 18
2.4 TENUE DES GAZ ELECTRONEGATIFS EN CHAMP UNIFORME ........................................................................ 20
2.5 INFLUENCE DE LA GEOMETRIE DES ELECTRODES ET DE LA FORME DE LA TENSION .................................... 21
2. 5.1 Tension continue .............................................................................................................................. 21
2.5.2 Tension impulsionnelle ..................................................................................................................... 23
2.5.3 Tension alternative .......................................................................................................................... 24
2.6 INFLUENCE DE LA PRESSION DU GAZ .......................................................................................................... 24
2.7 HEXAFLUORURE DE SOUFRE (SF
6
) ............................................................................................................. 26
2.7.1 Proprits physico-chimiques ........................................................................................................... 26
2.7.2 Proprits dilectriques .................................................................................................................... 27
2.7.3 Contraintes lies lutilisation du SF
6
............................................................................................ 32
2.8 AZOTE GAZEUX (N
2
) ................................................................................................................................. 34
2.8.1 Proprits du N
2
.............................................................................................................................. 34
2.9 DIOXYDE DE CARBONE GAZEUX (CO
2
) ...................................................................................................... 36
2.9.1 Proprits physico-chimiques .......................................................................................................... 37
2.9.2 Proprits dilectriques .................................................................................................................. 37
2.10 GAZ ET MELANGES ECOLOGIQUES ........................................................................................................... 37
2.10.1 Gaz CF
3
I (trifluoroiodomethane) ................................................................................................. 39
2.10.2 Gaz c-C
4
F
8
(octafluorocyclobutane)............................................................................................... 41
2.10.3 Mlanges base de C
3
F
8
et de C
2
F
6
............................................................................................... 42
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3Lesdilectriquessolides...............................................................................................47
3.1 PHENOMENES DE POLARISATION ................................................................................................................ 48
3.2 MECANISME DE CLAQUAGE DES ISOLANTS SOLIDES .................................................................................. 50
3.2.1 Claquage lectrique ............................................................................................................................ 50
3.2.2 Claquage thermique ......................................................................................................................... 53
3.2.3 Claquage lectromcanique ............................................................................................................. 55
3.2.4 Claquage du dautres phnomnes ................................................................................................ 56
4Phnomnesdinterface................................................................................................58
4.1 INFLUENCE DU TAUX D'IONISATION EFFECTIF ............................................................................................ 59
4.2 CHARGES SURFACIQUES ............................................................................................................................ 60
4.2.1 Gnration de charges surfaciques .................................................................................................. 60
4.2.2 Accumulation de charges surfaciques .............................................................................................. 64
4.2.3 Charges surfaciques et champ lectrique ......................................................................................... 64
4.3 DISTORSION DU CHAMP ELECTRIQUE ......................................................................................................... 65
4.4 INFLUENCE DUNE SURFACE DIELECTRIQUE SUR LINITIATION ET LA PROPAGATION DES STREAMERS ......... 68
4.5 CARACTERISATION OPTIQUE DES DECHARGES GLISSANTES ....................................................................... 70
4.6 ANALYSE FRACTALE DES DECHARGES GLISSANTES .................................................................................. 73
4.6.1 Modle de Sawada et al ................................................................................................................... 74
4.6.2 Modle de Niemeyer et al (NPW) .................................................................................................... 75
4.6.3 Modle de Vicente et al .................................................................................................................... 76
5Conclusion...............................................................................................................................77

CHAPITRE2:DISPOSITIFEXPERIMENTALETMODES
OPERATOIRES

1Introduction.........................................................................................................................81
2Sourcesdetension..........................................................................................................81
3Systmesdlectrodes.....................................................................................................82
4Gazutiliss.............................................................................................................................87
4.1 AZOTE (N
2
) ................................................................................................................................................. 87
4.2 DIOXYDE DE CARBONE (CO
2
) .................................................................................................................... 87
5Techniquederalisationdesmlanges..............................................................89
6Mesuredelatenuedilectrique.............................................................................91
7Systmedecaractrisationoptiqueetlectrique........................................93
8Dilectriquessolidesutiliss.....................................................................................96
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8.1 PTFE (TEFLON) ....................................................................................................................................... 97
8.2 RESINE EPOXY .......................................................................................................................................... 98
9Conclusion...............................................................................................................................98

CHAPITRE3:CARATERISATIONDIELECTRIQUEDESGAZ
ETMELANGES

1Introduction.........................................................................................................................103
2Tenuedilectriquedesgaz........................................................................................103
2.1 TENSION ALTERNATIVE ........................................................................................................................... 103
2.2 TENSION CONTINUE ................................................................................................................................. 108
2.3 TENSION IMPULSIONNELLE (1,2/50 S) .................................................................................................... 116
2.4 COMPARAISON DES TENUES EN FONCTION DE LA FORME DE LA TENSION ................................................. 121
3TenuedilectriquedesmlangesSF
6
N
2
etSF
6
CO
2
..............................126
3.1 MELANGE OPTIMAL ................................................................................................................................. 126
3.2 ETUDE DUN MELANGE SF
6
N
2
EQUIVALENT A 0,4 MPA DE SF
6
............................................................ 128
3.3 TENUE DES MELANGES SOUS DIFFERENTES FORMES DE TENSION ............................................................. 130
4Conclusion.............................................................................................................................132

CHAPITRE4:DCHARGEGLISSANTEAUXINTERFACESGAZ/SOLIDESOUS
TENSIONIMPULSIONNELLE

1Introduction........................................................................................................................137
2Etudemorphologiqueetlongueurfinale.........................................................137
2.1 VERRE ET PTFE ....................................................................................................................................... 137
2.1.1 Morphologie des dcharges ............................................................................................................ 137
2.1.2 Longueur finale des dcharges ....................................................................................................... 143
2.2 RESINE EPOXY ......................................................................................................................................... 146
2.2.1 Morphologie et longueur des dcharges ........................................................................................ 146
2.2.2 Influence de lpaisseur du matriau .............................................................................................. 153
3Dterminationduchampparlmentsfinis(flux2d/3d).....................157
4Etudecomparative...........................................................................................................162
5Analysedelasurfacedelisolateur......................................................................164
6Conclusion.............................................................................................................................165
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CHAPITRE5:ANALYSEFRACTALEETCOURANTSASSOCIES
AUXDECHARGES

1Introduction.........................................................................................................................169
2Techniquesdedterminationdeladimensionfractale........................169

2.1 METHODE DE QUADRILLAGE ................................................................................................................... 169
2.2 METHODE DES RELATIONS DE MESURE FRACTALE .................................................................................. 170
3Analysefractaledesdchargesradialesparlamthodedesboites......173
3.1 CONVERSION DIMAGES .......................................................................................................................... 173
3.2 CODE DE CALCUL INFORMATIQUE ............................................................................................................ 176
3.3 INFLUENCE DE LEPAISSEUR DU MATERIAU ............................................................................................. 177
3.4 INFLUENCE DE LA PRESSION DU GAZ ....................................................................................................... 179
4Courantsassociesauxdcharges.........................................................................181
4.1 COURANTS ASSOCIES AUX DECHARGES POSITIVES .................................................................................. 181
4.2 COURANTS ASSOCIES AUX DECHARGES NEGATIVES ............................................................................... 183
4.3 VITESSE MOYENNE DES DECHARGES ....................................................................................................... 184
4.4 DECHARGES SECONDAIRES ..................................................................................................................... 185
5Conclusion............................................................................................................................191
Conclusiongnrale.............................................................................................................195
Bibliographie............................................................................................................................199
Annexe..........................................................................................................................................211

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Listesdessymboles&abrviations

ACAlternatingcurrentCourant(outension)alternatif
AISAirInsulatingSwitchgearDisjoncteurisollair
ArArgon
o PremiercoefficientdionisationdeTownsend(1/cm
3
)relatifaumilieude
propagationdeladcharge
| Facteurdenonuniformitduchampdanslintervalleinterlectrode
CCD ChargeCoupledDeviceDtecteurdechargecouplage
CCF ComposCompltementfluor
CNTP ConditionsNormalesdeTempratureetdePression
CO
2
Dioxydedecarbone
D Dimensionfractaledeladcharge
DCDirectcurrentCourant(outension)continu
eouq Chargelmentairedellectron(e=q=1,6.10
19
coulomb)
E
(X)
Champlectriquedanslintervalleinterlectrode(kV/cm)
c
0
Permittivitduvide(c
0
=8,8510
12
As.V
1
.m
1
)
c
r

Permittivitrelativedumatriau
f ou q Facteur de forme de Schwaiger ou facteur duniformit du champ dans
lintervalleinterlectrode
Deuximecoefficient(dmissiondesurface)deTownsend(1/cm
3
)
GCB GasCircuitbreakerDisjoncteurdecoupuregaz
GIS GasInsulatingSwichgearDisjoncteurisolaugaz
H
2
Hydrogne
He Hlium
HV(HT) HighVoltageHauteTension
JcDensitdecourantdeclaquage(A/m
2
)
KConstantedeBOLTZMANN
L
f
Longueurdeladchargedanssonextensionmaximale(mm)
LTM LaboratoireTechnologieetMatriau
m Massedel'lectron(m=9,1093821510
31
kg)
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N
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Diazote
Ne Non
p Pressiondesgazoumlange(MPa)
PDO PotentieldeDgradationdel'Ozone
PEG Potentield'EchauffementGlobal
PMMA polymthacrylatedemthyle
PTFEPolyttrafluorothylne(ouTflon)
PVC Polychloruredevinyle
QChargetotaledposelasurfacedelchantillonsolide(C)
R Rayondudisquecharguniformment(mm)
r
o
Rayondecourburedelapointe(m)
o Conductivitlectrique(S/cm)
SF
6
Hexafluoruredesoufre
T
0
Tempratureambiante(K)
U
50

Tensionprovoquantlecontournement(ouclaquage)de50%des
chantillonssoumisautest
U
s
Tensiondegnrationdesdcharges
UVRayonUltraviolet
WpIntervallenergtiqueentrelabandedevalenceetlabandede
conduction
X, RayonXetrayonGama
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Listedesfigures
FIGURE1.1SYSTEMEDELECTRODESPLANPLANPERMETTANTDETUDIERLADECHARGEDANSUNGAZ...................................8
FIGURE1.2CARACTERISTIQUESCOURANTTENSIONPOURDIFFERENTSREGIMESDELADECHARGESOUSTENSION
CONTINUE......................................................................................................................................................................................9
FIGURE1.3VARIATIONDUCOEFFICIENTDIONISATION (o/P) ENFONCTIONDE(E/P)...............................................................11
FIGURE1.4VARIATIONDUCOURANTENFONCTIONDELADISTANCEINTERELECTRODE............................................................12
FIGURE1.5COURBEDEPASCHENPOURDIFFERENTSGAZ.................................................................................................................14
FIGURE1.6SCHEMADEDEVELOPPEMENTDELADECHARGEPARAVALANCHESPHOTOIONISANTES.........................................15
FIGURE1.7ETAPESSUCCESSIVESDEDEVELOPPEMENTDUNSTREAMERDANSUNGAZENCONFIGURATIONDELECTRODES
POINTEPLAN:(A)POINTEPOSITIVE;(B)POINTENEGATIVE........................................................................................17
FIGURE1.8ETAPESDEDEVELOPPEMENTDUNSTREAMERPOSITIFENCHAMPUNIFORME..........................................................18
FIGURE1.9SCHEMADUDEVELOPPEMENTDEDECHARGESDANSUNSYSTEMEDELECTRODESPOINTEPLANAVECUNE
POINTEPOSITIVE:(A)STREAMER;(B)LEADER;(C)DECHARGEPRINCIPALE.LAFLECHEREPRESENTELESENSDE
DEVELOPPEMENTDESDIFFERENTSSTADESDELADECHARGE..........................................................................................18
FIGURE1.10FREQUENCEDAPPARITIONDESSTREAMERSDANSLAIRENFONCTIONDELATENSIONAPPLIQUEEVDANSUN
SYSTEMEDELECTRODESPOINTEPLAN,ENPOLARITEPOSITIVE;D=31MMRAYONDELAPOINTE=0,17MM.22
FIGURE1.11STRUCTUREMOLECULAIREDUSF
6
..................................................................................................................................27
FIGURE1.12VARIATIONDUCHAMPELECTRIQUEREDUITENCONFIGURATIONPOINTEPLAN:DISTANCEINTERELECTRODES=
2,5MM;RAYONDECOURBUREDELAPOINTE=10M.....................................................................................................29
FIGURE1.13/1.14TENSIONSDECLAQUAGEDUC3F8N2ETDUC3F8CO2........................................................................43
FIGURE1.15/1.16TENSIONSDECLAQUAGEDUC2F6N2ETDUC2F6CO2ENFONCTIONDURAPPORTK....................44
FIGURE1.17/1.18TENSIONDECLAQUAGEENFONCTIONDU%SF6..............................................................................................45
FIGURE1.19ILLUSTRATIONDESDIFFERENTSTYPESDEPOLARISATION..........................................................................................49
FIGURE1.20EXEMPLESD'ARBORESCENCESELECTRIQUES................................................................................................................58
FIGURE1.21INTERFACESOLIDE/GAZSOUMISAUNCHAMPELECTRIQUE........................................................................................60
FIGURE1.22MECANISMESDEGENERATIONDECHARGESDANSUNDIELECTRIQUEPLACELELONG...........................................62
FIGURE1.23INJECTIONDECHARGESPAREFFETCHAMPAPARTIRDESELECTRODES...................................................................62
FIGURE1.24DISTRIBUTIONDUCHAMPELECTRIQUEDANSLESPACEINTERELECTRODEENPRESENCEDUNDIELECTRIQUE
NONCHARGE..............................................................................................................................................................................66
FIGURE1.25DISTRIBUTIONDUCHAMPELECTRIQUEDANSLESPACEINTERELECTRODEENPRESENCEDUNDIELECTRIQUE
CHARGE.......................................................................................................................................................................................66
FIGURE1.26COMPARAISONDUCHAMPELECTRIQUEAUTOURDEL'ELECTRODEHAUTETENSIONDANSL'AIRETENPRESENCE
DESURFACEDIELECTRIQUE.....................................................................................................................................................67
FIGURE1.27PROCESSUSFONDAMENTAUXCONTRIBUANTAUXPHENOMENESDIONISATIONETDATTACHEMENTDANSLA
PROPAGATIONDUNSTREAMERATRAVESUNESURFACEDIELECTRIQUE.........................................................................69
FIGURE1.28COEFFICIENTSDIONISATIONETDATTACHEMENTDELAIRRESPECTIVEMENT
0
ET
0
(TRAITSENPOINTILLES)
ETCEUXFAVORISESPARLAPRESENCEDUNESURFACEENPVC(TRAITSCONTINUS)..................................................70
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FIGURE1.29FIGURESORIGINALESDELICHTENBERG1777..............................................................................................................71
FIGURE1.30FIGUREDELICHTENBERGOBSERVEESURUNEINTERFACEVERRE/SF
6
POURUNEIMPULSIONDETENSIONDE30
KVX1SSOUSUNEPRESSIONDE0,3MPA...........................................................................................................................72
FIGURE1.31EXEMPLESDARBORESCENCESALEATOIRESOBTENUESPARSIMULATIONNUMERIQUEPOURDIFFERENTES
VALEURSDER............................................................................................................................................................................74
FIGURE1.32(A)DECHARGESURFACIQUEENTREILLISOBTENUEPARLEMODELEDENIEMEYER;ET(B)ARBORESCENCE
GENEREEPARSIMULATIONNUMERIQUE...............................................................................................................................75
FIGURE1.33DECHARGESSIMULEESAVECLEMODELEDEVICENTEETAL......................................................................................76
FIGURE2.1SYSTEMEDELECTRODESPOINTEPLANAVECUNEDISTANCEINTERELECTRODEDE10MM.................................84
FIGURE2.2CONFIGURATIONSDELECTRODESUTILISEES....................................................................................................................84
FIGURE2.3ELECTRODESPHERESPHERE.............................................................................................................................................85
FIGURE2.4ELECTRODESPHEREPLAN.................................................................................................................................................85
FIGURE2.5COURBESDONNANTLEFACTEURDUTILISATIONPOURDIFFERENTESCONFIGURATIONSENFONCTIONDE
PETQ..........................................................................................................................................................................................86
FIGURE2.6ELECTRODEPOINTEPLAN..................................................................................................................................................86
FIGURE2.7CELLULEDESSAIS..................................................................................................................................................................92
FIGURE2.8SCHEMADELENSEMBLEDUDISPOSITIFEXPERIMENTAL...............................................................................................95
FIGURE2.9SCHEMADETAILLEDELACELLULEDESSAISAVECLASTRUCTUREISOLANTE.............................................................95
FIGURE3.1TENUEENTENSIONALTERNATIVEDESGAZPOURUNECONFIGURATIONPOINTEPLAN.....................................104
FIGURE3.2TENUEENTENSIONALTERNATIVEDESGAZPOURUNECONFIGURATIONSPHERESPHERE..................................106
FIGURE3.3TENUEENTENSIONCONTINUE()DESGAZPOURUNECONFIGURATIONPOINTEPLAN.....................................109
FIGURE3.4TENUEENTENSIONCONTINUE(+)DESGAZPOURUNECONFIGURATIONPOINTEPLAN.....................................111
FIGURE3.5COMPARAISONDESTENSIONSDECLAQUAGEENCONTINU(+ET),POINTEPLAN...............................................114
FIGURE3.6TENUEENTENSIONIMPULSIONNELLE(+)DESGAZPOURUNECONFIGURATION...................................................117
FIGURE3.7TENUEENTENSIONIMPULSIONNELLE(+)DESGAZPOURUNECONFIGURATION..................................................119
FIGURE3.8TENSIONDECLAQUAGEDUCO
2,
N
2
ETSF
6
POURUNECONFIGURATION..................................................................122
FIGURE3.9TENSIONDECLAQUAGEDUCO
2,
N
2
ETSF
6
POURUNECONFIGURATION..................................................................124
FIGURE3.10CONFIGURATIONSPHERESPHERE..............................................................................................................................126
FIGURE3.11CHAMPCRITIQUEREDUITENFONCTIONDELATENEURDESF
6
DANSLEMELANGE.............................................128
FIGURE3.12POURCENTAGESETPRESSIONSEQUIVALENTALATENUEDUSF
6
A0,4MPAPOURLECASDEFAVORABLE
(POLARITE+,V
REF
=630KV)..............................................................................................................................................129
FIGURE3.13COMPARAISONSF
6
N
2
ETSF
6
CO
2
ENALTERNATIF.............................................................................................130
6
N
2
ETSF
6
CO
2
ENCONTINU......................................................................................................131
6
N
2
ETSF
6
CO
2
ENIMPULSION(+)...........................................................................................131
FIGURE4.1INFLUENCEDELAPOLARITEDELATENSIONETDELAPRESSIONDUGAZSURLALONGUEURFINALEDES
DECHARGESSEPROPAGEANTSURUNEINTERFACEVERRE/SF
6
.....................................................................................138
FIGURE4.2INFLUENCEDELAPRESSIONDUGAZETDELAPOLARITEDELATENSIONSURLALONGUEURFINALEDES
DECHARGESSURUNEINTERFACEVERRE/SF
6
...................................................................................................................139
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DECHARGESSURUNEINTERFACEVERRE/CO
2
..................................................................................................................139
DECHARGESSURUNEINTERFACEVERRE/N
2
.....................................................................................................................140
FIGURE4.5INFLUENCEDELAMPLITUDEDELATENSIONSURLALONGUEURFINALEDESDECHARGESPOURUNEINTERFACE
SF
6
/PTFEA..........................................................................................................................................................................141
FIGURE4.6INFLUENCEDELAMPLITUDEDELATENSIONSURLALONGUEURFINALEDESDECHARGESPOURUNEINTERFACE
SF
6
/PTFEB..........................................................................................................................................................................142
FIGURE4.7VOLUTIONDELALONGUEURFINALEENFONCTIONDELATENSIONDANSLESF
6
POURLESDEUXPOLARITESET
POURDIFFERENTESPRESSIONSETLESMELANGESSF
6
CO
2
ETSF
6
N
2
.....................................................................143
FIGURE4.8VOLUTIONDELALONGUEURFINALEENFONCTIONDELATENSIONDANSLECO
2
POURLESDEUXPOLARITESET
POURDIFFERENTESPRESSIONS............................................................................................................................................144
FIGURE4.9LONGUEURFINALEDESDECHARGESSURFACIQUESENFONCTIONDELATENSIONDANSLAZOTEPOURLESDEUX
POLARITES................................................................................................................................................................................144
FIGURE4.10EVOLUTIONDELALONGUEURFINALEDESDECHARGESENFONCTIONDELAPRESSIONSURDESINTERFACES
SF
6
/PTFEA,CO
2
/PTFEAETN
2
/PTFEA.................................................................................................................145
FIGURE4.11EVOLUTIONDELALONGUEURFINALEDESDECHARGESENFONCTIONDELAPRESSIONSURDESINTERFACES
SF
6
CO
2
/PTFEAETSF
6
N
2
/PTFEA...........................................................................................................................146
FIGURE4.12INFLUENCEDELATENEURENSF
6
SURLALONGUEURFINALEDESDECHARGESPOURUNEINTERFACESF
6
CO
2
/EPOXY+MOULAGE(E=2MM)ENPOLARITE(+)ET().......................................................................................147
FIGURE4.13INFLUENCEDELATENEURENSF
6
SURLALONGUEURFINALEDESDECHARGESPOURUNEINTERFACESF
6
N
2
/EPOXY+MOULAGE(E=2MM)ENPOLARITE().......................................................................................................147
FIGURE4.14EVOLUTIONDELALONGUEURFINALEDESDECHARGESENFONCTIONDUPOURCENTAGEDESF
6
ENPOLARITE
POSITIVEETNEGATIVEPOURUNEINTERFACESF
6
CO
2
/EPOXY+MOULAGE...........................................................148
FIGURE4.15EVOLUTIONDELALONGUEURFINALEDESDECHARGESENFONCTIONDUPOURCENTAGEDESF
6
ENPOLARITE
NEGATIVEPOURUNEINTERFACESF
6
N
2
..........................................................................................................................148
FIGURE4.16INFLUENCEDELATENSIONSURLALONGUEURFINALEDESDECHARGESPURUNEINTERFACESF
6
/EPOXY+
MOULAGE(E=2MM)ENPOLARITEPOSITIVEETNEGATIVE............................................................................................149
FIGURE4.17INFLUENCEDELATENSIONSURLALONGUEURFINALEDESDECHARGESPOURUNEINTERFACECO
2
/EPOXY+
MOULAGE(E=2MM)ENPOLARITEPOSITIVEETNEGATIVE............................................................................................150
FIGURE4.18INFLUENCEDELATENSIONSURLALONGUEURFINALEDESDECHARGESPOURUNEINTERFACEN
2
/EPOXY+
MOULAGE(E=2MM)ENPOLARITEPOSITIVEETNEGATIVE...........................................................................................150
FIGURE4.19EVOLUTIONDELALONGUEURFINALEDESDECHARGESENFONCTIONDELATENSIONPOURUNEINTERFACE
SF
6
/EPOXY+MOULAGEENPOLARITEPOSITIVEETNEGATIVE.....................................................................................151
CO
2
/EPOXY+MOULAGEENPOLARITEPOSITIVEETNEGATIVE.....................................................................................151
N
2
/EPOXY+MOULAGEENPOLARITEPOSITIVEETNEGATIVE.......................................................................................152
CO
2
/PTFEBENPOLARITEPOSITIVEETNEGATIVE........................................................................................................152
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FIGURE4.23INFLUENCEDELAVARIATIONDELEPAISSEURSURLALONGUEURFINALEDESDECHARGESPOURUNE
INTERFACESF
6
/EPOXY+MOULAGEENPOLARITENEGATIVE........................................................................................154
FIGURE4.24INFLUENCEDELAVARIATIONDELEPAISSEURSURLALONGUEURFINALEDESDECHARGESPOURUNE
INTERFACESF
6
/EPOXY+MOULAGEENPOLARITENEGATIVE........................................................................................155
FIGURE4.25COMPARAISONDESLONGUEURSFINALESDESDECHARGESGLISSANTESENFONCTIONDELEUREPAISSEURSUR
UNEINTERFACESF
6
/EPOXY+MOULAGEPOURUNEPRESSIONDE0.1MPA...............................................................156
FIGURE4.26COMPARAISONDESLONGUEURSFINALESDESDECHARGESGLISSANTESENFONCTIONDELEUREPAISSEURSUR
UNEINTERFACECO
2
/EPOXY+MOULAGEPOURUNEPRESSIONDE0.1MPA..............................................................156
FIGURE4.27COMPARAISONDESLONGUEURSFINALESDESDECHARGESGLISSANTESENFONCTIONDELEUREPAISSEURPOUR
UNEINTERFACEN
2
/EPOXY+MOULAGEALAPRESSIONDE0,1MPA..........................................................................157
FIGURE4.28SCHEMADELAGEOMETRIEMAILLEEPOURUNECHANTILLONENVERREDE100MMDEDIAMETREET6MM
DEPAISSEUR............................................................................................................................................................................157
FIGURE4.29DISTRIBUTIONDESVECTEURSCHAMPAUVOISINAGEDELAPOINTEPOURUNECHANTILLONENVERREDE100
MMDEDIAMETREET6MMDEPAISSEUR(E
MAX
=0,04MV/CM)..................................................................................158
FIGURE4.30DISTRIBUTIONDUCHAMPETDUPOTENTIELDANSLESDIFFERENTESREGIONSDELAGEOMETRIEPOURUN
ECHANTILLONENVERREDE100MMDEDIAMETREET6MMDEPAISSEUR................................................................158
FIGURE4.31EVOLUTIONDUCHAMPALASURFACEDUNUNECHANTILLONENVERREDE100MMDEDIAMETREET6MM
DEPAISSEUR............................................................................................................................................................................159
FIGURE4.32DISTRIBUTIONDESVECTEURSCHAMPAUVOISINAGEDELAPOINTEPOURUNECHANTILLONENTEFLONDE100
MMDEDIAMETREET6MMDEPAISSEUR(E
MAX
=0,03MV/CM)..................................................................................159
FIGURE4.33DISTRIBUTIONDUCHAMPETDUPOTENTIELDANSLESDIFFERENTESREGIONSDELAGEOMETRIEPOURUN
ECHANTILLONENTEFLONDE100MMDEDIAMETREET6MMDEPAISSEUR.............................................................160
FIGURE4.34EVOLUTIONDUCHAMPALASURFACEDUNUNECHANTILLONENTEFLONDE100MMDEDIAMETREET6MM
DEPAISSEUR............................................................................................................................................................................160
FIGURE4.35DISTRIBUTIONDUCHAMPEN3DAUVOISINAGEDELAPOINTEETALASURFACEDELISOLANTPOURUN
ECHANTILLONENTEFLONDE100MMDEDIAMETREET6MMDEPAISSEUR.............................................................161
FIGURE4.36EVOLUTIONDUCHAMPEN3DALASURFACEDUNECHANTILLONENTEFLONDE100MMDEDIAMETREET6
MMDEPAISSEUR.....................................................................................................................................................................161
FIGURE4.37COMPARAISONDELALONGUEURFINALEDESDECHARGESENFONCTIONDELATENSIONDANSLESF
6
POUR
DIFFERENTSTYPESDEPTFEENPOLARITENEGATIVE....................................................................................................163
FIGURE4.38EVOLUTIONDELALONGUEURFINALEDESDECHARGESENFONCTIONDELATENSIONDANSLESF
6
POUR
DIFFERENTSTYPESDEPTFEENPOLARITENEGATIVE....................................................................................................163
FIGURE4.39EXEMPLESDEDECHARGESOBSERVEESSURUNECHANTILLONAYANTSUBIPLUSIEURS......................................164
FIGURE4.40VUESMICROSCOPIQUESDUNECHANTILLONENVERREDE2MMDEPAISSEURAPRESPLUSIEURSSERIES
DESSAIS....................................................................................................................................................................................164
FIGURE4.41PHOTOGRAPHIEDECHANTILLONSENTEFLON(PTFEA)DE2MMDEPAISSEURAVANTETAPRESPLUSIEURS
SERIESDESSAIS.......................................................................................................................................................................165
FIGURE5.1VARIATIONDUNOMBREDEBRANCHESENFONCTIONDURAYONDEPROPAGATIONDELADECHARGE...............171
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FIGURE5.2DIAGRAMMEDUNIVEAUDUGRISENFONCTIONDELANGLETHETAREPRESENTANTLINTENSITELUMINEUSELE
LONGDUNCONTOURCIRCULAIREDERAYONR.................................................................................................................172
FIGURE5.3DECHARGESGLISSANTESSEPROPAGEANTSURDESECHANTILLONSDETEFLON(PTFEE)DEPAISSEURS
DIFFERENTESSOUSTENSIONIMPULSIONNELLEENPOLARITEPOSITIVE:(A)IMAGEORIGINALEET(B)IMAGE
BINARISEECORRESPONDANTE..............................................................................................................................................174
FIGURE5.4DECHARGESGLISSANTESSEPROPAGEANTSURDESECHANTILLONSDETEFLON(PTFEE)POURDIFFERENTES
PRESSIONSSOUSTENSIONIMPULSIONNELLEENPOLARITEPOSITIVE:(A)IMAGEORIGINALEET(B)IMAGE
BINARISEECORRESPONDANTE..............................................................................................................................................175
FIGURE5.5PRINCIPEDELAMETHODEDEQUADRILLAGEAPPLIQUEAUNEDECHARGESEPROPAGEANTSURUNECHANTILLON
DEPTFEEDE2MMDEPAISSEUR:(A)IMAGEORIGINALE,(B)IMAGEENBINAIRECORRESPONDANTE,(C)IMAGE
COUVERTEPARUNMAILLAGECARREDECOTEL=45PIXELSET(D)IMAGECOUVERTEPARUNMAILLAGEDECOTEL
=15PIXELS.............................................................................................................................................................................176
FIGURE5.6CARACTERISTIQUESREPRESENTANTLENOMBREDEBOITESNENFONCTIONDELATAILLEDESBOITESLPOUR
DESDECHARGESSEPROPAGEANTSURDESECHANTILLONSENVERREDEPAISSEURSDIFFERENTESSOUS0,1MPA;
D1.77,1.70,1.65RESPECTIVEMENTPOUR(E=2MM,+24KV),(E=4MM,+27KV)ET(E=6MM,+31KV)
...................................................................................................................................................................................................178
DESDECHARGESSEPROPAGEANTSURDESECHANTILLONSENRESINEEPOXYDEPAISSEURSDIFFERENTESSOUS0,1
MPA;D1.64,1.58,1.53RESPECTIVEMENTPOUR(E=2MM,+31KV),(E=4MM,+33,6KV)ET(E=6MM,
+36KV)...................................................................................................................................................................................178
DESDECHARGESSEPROPAGEANTSURDESECHANTILLONSENTEFLON(PTFEE)DEPAISSEURSDIFFERENTESSOUS
0.1MPA;D1.51,1.45,1.41RESPECTIVEMENTPOUR(E=2MM,+34KV),(E=4MM,35KV)ETE=6MM,
+38KV)...................................................................................................................................................................................179
DESDECHARGESSEPROPAGEANTSURDESECHANTILLONSENVERREDE2MMDEPAISSEUR;D1.78,1.74,1.66
RESPECTIVEMENTPOUR(P=0.15MPA,+26KV),(P=0.3MPA,27.8KV)ET(P=0.5MPA,+32KV)........180
DESDECHARGESSEPROPAGEANTSURDESECHANTILLONSENRESINEEPOXYDE2MMDEPAISSEUR;D1.62,
1.58,1.52RESPECTIVEMENTPOUR(P=0.15MPA,+33,6KV),(P=0.3MPA,+35,6KV)ET(P=0.5MPA,
+37KV)...................................................................................................................................................................................180
DESDECHARGESSEPROPAGEANTSURDESECHANTILLONSENPTFE(PTFEE)DE2MMDEPAISSEUR;D1.53,
1.52,1.40RESPECTIVEMENTPOUR(P=0.15MPA,+35KV),(P=0.3MPA,+37KV)ET(P=0.5MPA,+40
KV)............................................................................................................................................................................................181
FIGURE5.12COURANTSASSOCIESAUXDECHARGESPOSITIVESPOURUNECHANTILLONDETEFLON(PTFEE)DE2MM
DEPAISSEURENPRESENCEDESF
6
SOUSUNEPRESSIONDE0,03MPA:(A)7KV,(B)12KVET(C)17KV).....182
FIGURE5.13COURANTSASSOCIESAUXDECHARGESNEGATIVESPOURUNECHANTILLONDETEFLON(PTFEE)DE2MM
6
SOUSUNEPRESSIONDE0,03MPA:(A)7KV,(B)12KVET(C)17KV).....183
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FIGURE5.14EVOLUTIONDELAVITESSEMOYENNEDESDECHARGESENFONCTIONDELATENSIONPOSITIVEAPPLIQUEEPOUR
LEVERREETLEPTFEDE2MMDEPAISSEURENPRESENCEDESF
6
SOUSUNEPRESSIONDE0,1MPA.................184
FIGURE5.15ILLUSTRATIONDUNEDECHARGESECONDAIREDESIGNEOPPOSEACELUIDELADECHARGEPRINCIPALE
REVELEEPARUNENREGISTREMENTDECOURANTEFFECTUESURUNECHANTILLONENTEFLON(PTFEE)DE2MM
6
SOUS0,03MPAETUNETENSION(CRETE)POSITIVEDE13KV......................185
FIGURE5.16ILLUSTRATIONDUNEDECHARGESECONDAIREDESIGNEOPPOSEACELUIDELADECHARGEPRINCIPALE
REVELEEPARUNENREGISTREMENTDECOURANTEFFECTUESURUNECHANTILLONENPTFE(PTFEE)DE2MM
6
SOUS0,03MPAETUNETENSION(CRETE)NEGATIVEDE26KV....................186
FIGURE5.17ILLUSTRATIONDELACONFIGURATIONPERMETTANTDEREMPLACERLESYSTEME.............................................187
FIGURE5.18EVOLUTIONTEMPORELLEDELATENSIONU(T),DUCOURANTI(T)ETDELACHARGEQ(T)SURUN
ECHANTILLONENTEFLON(PTFEE)DE2MMDEPAISSEURSOUSUNETENSIONPOSITIVEDE20KV..................190
FIGURE5.19AGRANDISSEMENTDUCOURANTDELADECHARGESECONDAIRE(A)ETDELEVOLUTIONDELACHARGE
CORRESPONDANTE(B)...........................................................................................................................................................191
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Listedestableaux
TABLEAU1.1MINIMUMDEPASCHENENFONCTIONDUGAZETDUMETALDELACATHODE........................................................14
TABLEAU1.2RIGIDITEDIELECTRIQUERELATIVEDEQUELQUESGAZPARRAPPORTALAIRDANSUNCHAMPUNIFORME......19
TABLEAU1.3PRINCIPAUXPRODUITSDEDECOMPOSITIONDUSF
6
....................................................................................................33
TABLEAU1.4PROPRIETESDUCF
3
IETDUSF
6
....................................................................................................................................40
TABLEAU1.5PROPRIETESDEQUELQUESPOSSIBLESGAZALTERNATIFS..........................................................................................47
TABLEAU2.1COEFFICIENTDUNIFORMITEETDENONUNIFORMITEDUCHAMPPOURDIFFERENTESCONFIGURATIONS
DELECTRODES.......................................................................................................................................................................87
TABLEAU2.2PROPRIETESDELAZOTEGAZEUX....................................................................................................................................87
TABLEAU2.3PROPRIETESDUDIOXYDEDECARBONEGAZEUX...........................................................................................................88
TABLEAU2.4PROPRIETESDELHEXAFLUORUREDESOUFRE.............................................................................................................88
TABLEAU2.5CALCULSDESPRESSIONSPARTIELLESSELONLAMETHODEDEDALTONPOURUNMELANGE...............................90
TABLEAU2.6PROPRIETESDIELECTRIQUESDESMATERIAUX50HZ100MHZ..........................................................................97
TABLEAU3.1CORRESPONDANCEENTRELEPOURCENTAGEDESF
6
ETLAPRESSIONTOTALE...................................................129
TABLEAU5.1TENSIONNECESSAIREALOBTENTIONDUNEDECHARGEDE44MMDELONGUEURFINALEPOURDES
MATERIAUXDEPAISSEURSDIFFERENTESENPRESENCEDESF
6
SOUS0,1MPA.....................................................173
TABLEAU5.2TENSIONNECESSAIREALOBTENTIONDUNEDECHARGEDE46MMDELONGUEURFINALEPOURDIFFERENTS
MATERIAUXDE2MMDEPAISSEURENPRESENCEDESF
6
SOUSDIFFERENTESPRESSIONS....................................173
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Introductiongnrale
Page1
Introductiongnrale
Les structures isolantes mixtes solide/gaz sont prsentes dans de nombreux

appareillages haute et moyenne tensions comme les transformateurs et condensateurs de
puissance, les disjoncteurs et les cbles ainsi que dans les rseaux de transport et de
distribution dnergie lectrique (isolateurs de support et de traverse). Dans certains
composants, comme les disjoncteurs isols au gaz, par exemple, les isolants solides sont
utiliss comme enveloppe de lappareil et comme support (buse) pour les lectrodes
(contacts); le gaz est utilis pour ses proprits isolantes et pour le soufflage de larc. Dans le
cas des transformateurs de puissance, en plus de lisolation des bobinages et des traverses,
les solides servent comme panneaux (rle mcanique) et comme barrire isolante en
particulier dans les transformateurs cuirasss.
Les caractristiques et donc la qualit dune structure isolante mixte (ou hybride) dpendent
des proprits de ses constituants. Ainsi, lutilisation de lhexafluorure de souffre (SF
6
)
permet de rduire considrablement le poids et les dimensions des composants et systmes et
damliorer leur fiabilit grce la grande affinit lectronique de la molcule de SF
6
et sa
grande section efficace. Cependant, malgr les bonnes performances (pouvoir de coupure
lev, bonne tenue dilectrique, stabilit thermique ) de cette molcule, sa dure de vie
(estime plus de 3000 ans) et son potentiel de rchauffement climatique (23900 fois celui du
CO
2
par priode de 100 ans) trop levs, font de ce gaz un agent aggravant de leffet de serre ;
il est dans le collimateur des organisations internationales environnementales.
Durant leur exploitation, les quipements lectriques et donc les structures isolantes
mixtes qui y sont intgres, sont exposs diffrents types de contraintes : mcanique,
thermique, lectrique, chimique et environnementales. Dans cette tude, nous nous
intressons plus particulirement aux contraintes lectriques. En prsence dun champ
lectrique, divers phnomnes peuvent prendre naissance dans le volume ou la surface des
matriaux constituants lisolation hybride. En effet, au-dessus dune certaine valeur dite de
seuil du champ lectrique, des dcharges volumiques ou surfaciques peuvent prendre
naissance et se dvelopper jusqu la rupture dilectrique (en volume) ou au contournement
de lisolateur conduisant ainsi la destruction de la structure isolante voire la mise hors
service du systme. La comprhension des mcanismes impliqus dans la gnration et la
propagation de ces dcharges ainsi que leur caractrisation sont fondamentales pour la
conception et le dimensionnement des appareillages.
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Introductiongnrale
Page2
Dans cette tude, nous nous intresserons: (1) la caractrisation dilectrique des gaz
(mlanges) sous diffrentes formes de tension (alternative, continue et choc de foudre 1,2/50 s)
dans diffrentes gomtries dlectrodes (pointe - plan, sphre - plan, sphre - sphre et plan -
plan) ; et (2) aux dcharges surfaciques dites glissantes, se propageant sur divers types de
matriaux isolants (PTFE, rsine Epoxy et verre) en prsence de diffrents gaz et mlanges (SF
6
,
N
2
, CO
2
, SF
6
- N
2
et SF
6
- CO
2
) sous diffrentes pression, gnres sous tension impulsionnelle de
foudre 1,2/50 s dans une configuration dlectrodes pointe - plan.
Les travaux sur les dcharges se propageant aux interfaces solide/gaz sont peu nombreux en
comparaison avec ceux consacrs ltude des phnomnes de pr-claquage et de claquage
dans les solides seuls ou les gaz seuls. La plupart ont port sur la variation de la longueur finale
de ces dcharges en fonction de la tension et plus particulirement sur le dveloppement des
dcharges sur des isolateurs pollus. Des modles ont t galement proposs pour dcrire les
dcharges radiales se dveloppant sur une interface verre/SF
6
, par une dimension fractale.
Cependant, il existe trs peu de rsultats sur linfluence de la polarit de la tension, du type de gaz
et de sa pression, des concentrations des constituants des mlanges ainsi que de lpaisseur et de la
nature des isolants solides sur la forme, la dimension fractale et la longueur finale de ces
dcharges.

Le prsent manuscrit comporte cinq chapitres. Dans le premier chapitre, nous dcrivons
dans un premier temps les phnomnes de dcharges dans les gaz (ou mlanges) puis les
principaux mcanismes de claquage des isolants solides. Nous abordons par la suite les
phnomnes dinterface.

Le deuxime chapitre est consacr la prsentation des dispositifs exprimentaux
utiliss pour la caractrisation dilectrique des gaz et mlanges ainsi qu l'enregistrement
optique et lectrique des dcharges surfaciques. Les proprits fondamentales des gaz et
solides utiliss y sont galement prsentes.

Dans le troisime chapitre, nous prsentons et analysons les rsultats exprimentaux de
mesure de tenue dilectrique des gaz et mlanges pour diffrentes configurations dlectrodes.
Linfluence de divers paramtres sur le comportement de ces gaz (mlanges) y est galement
traite.

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Introductiongnrale
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Au chapitre quatre, nous aborderons ltude morphologique et structurelle des
dcharges glissantes se propageant aux interfaces solide/gaz (mlange), sous tension
impulsionnelle de foudre 1,2/50 s dans une configuration dlectrodes pointe - plan.

Le dernier chapitre porte sur lanalyse fractale des dcharges radiales en prsence de
gaz. Nous nous intresserons particulirement linfluence des proprits physiques et
gomtriques des matriaux (solide et gaz (mlange)), et de la pression du gaz sur la
morphologie de ces dcharges et leur dimension fractale. Les courants associs aux dcharges
sont galement analyss.

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Chapitre1
Physiquedeladchargedans
lesgaz,solidesetinterfaces
gaz/solide
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Chapitre1Physiquedeladchargedanslesgaz,solidesetinterfacesgaz/solide
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1Introduction

Les systmes disolation mixtes (ou hybrides), composs dun dilectrique solide et dun
gaz, sont largement utiliss dans les quipements haute et moyenne tensions. La rigidit
dilectrique de ces structures dpend des proprits du solide isolant et du type de gaz (mlanges)
ainsi que de la pression et de la temprature de ce dernier. Le comportement de ces structures
isolantes, face aux diffrentes contraintes auxquelles elles sont exposes et plus particulirement
aux dcharges qui peuvent se dvelopper dans le volume ou linterface des deux matriaux
(solide et gaz), constitue lun des principaux critres de dimensionnement et de conception dune
structure isolante pour un composant ou un systme haute ou moyenne tensions donn. Par
consquent, la comprhension des mcanismes responsables de linitiation et du dveloppement
des dcharges en volume ou linterface et conduisant respectivement au claquage ou au
contournement de ces structures isolantes passe par la comprhension des phnomnes se
produisant dans chacun des constituants (solide et gaz).
Dans ce chapitre, nous abordons les aspects fondamentaux relatifs au comportement
dilectrique de la structure hybride gaz/solide. Nous nous intresserons dans un premier temps
aux phnomnes de dcharges dans les gaz (ou mlanges) puis aux principaux mcanismes
conduisant au claquage des isolants solides avant daborder les phnomnes dinterface.

2Phnomnesdedchargesdanslesgaz
Le gaz le plus abondant et le plus utilis de tout temps dans lisolation lectrique (lignes
ariennes, lectrostatique...) est l'air. Cependant, d'autres gaz tels que l'azote (N
2
), le dioxyde
de carbone (CO
2
) et surtout l'hexafluorure de soufre (SF
6
) connaissent, depuis plus de trois
dcennies, un succs grandissant dans le domaine des systmes haute tension (postes blinds,
cbles isolation gazeuse, ...). Leur utilisation a permis damliorer la fiabilit des systmes
et den rduire leurs poids et dimensions.
Sous leffet d'agents ionisants naturels ou artificiels (UV, X, ), les gaz peuvent perdre
leurs proprits dilectriques et devenir plus ou moins conducteurs. Cette perte de proprits
(ionisation) se traduit par la dissociation de molcules neutres en lectrons et en ions. En
prsence dun champ lectrique entre les lectrodes (planes et parallles), le mouvement
provoqu par les porteurs de charges (en augmentation) donne naissance un courant dit
"courant de dcharges". La variation de ce courant en fonction de la tension (caractristique
courant - tension) a t tudie pour la premire fois par Townsend [1]. En labsence de
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champ lectrique, il existe un quilibre dans lequel le taux de production dlectrons et dions
positifs est compens [1]. Il convient toutefois de noter que la prsence dun champ dans
lespace inter lectrode peut donner lieu, selon le niveau de tension applique aux lectrodes,
une dcharge de type non autonome ou autonome.

2.1Caractristiquescouranttension

La variation du courant de dcharges en fonction de la tension applique un
intervalle de gaz compris entre deux lectrodes planes et parallles (Figure 1.1) est
reprsente sur la Figure 1.2. Cette caractristique I(V) comporte diffrentes zones
correspondant chacune un rgime de dcharges donn.

Figure 1.1 Systme dlectrodes plan-plan permettant dtudier la dcharge dans un gaz [2]

2.1.1Dchargenonautonomesansmultiplicationlectronique

Ce rgime est caractris par l'absence de tout phnomne lumineux et des courants
extrmement faibles. La tension applique (quelques dizaines de volts) et par consquent le
champ lectrique sont trop faibles pour provoquer une ionisation par chocs lectroniques. La
conduction ne peut apparatre qu'en prsence d'une source extrieure assurant cette ionisation
(rayons cosmiques, sources radioactives, mission photolectrique). La dcharge ne pouvant
s'entretenir d'elle mme, est dite " non autonome " [2].
2.1.2Dchargenonautonomeavecmultiplicationlectronique

En augmentant progressivement la tension V, le courant crot linairement jusqu' une
certaine valeur I
0
dite de saturation. I
0
se maintiendra cette valeur tant que V reste infrieur
a
E
x
Cathode Anode
X=0
X=d
dx
Photons
a
E
x
Cathode Anode
X=0
X=d
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la tension d'ionisation V
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du gaz considr. Ds que V dpasse V
2
, le courant se remet
crotre de faon trs rapide. A ce stade, la dcharge dpend encore des sources extrieures
d'ionisation. Cette croissance rapide du courant rsulte de la multiplication lectronique.
Lorsque le champ lectrique E augmente, les lectrons mis par la cathode (lectrons
primaires), sous l'effet d'un rayonnement quelconque, sont de plus en plus acclrs. Certains
gagnent ainsi une nergie suffisante pour ioniser par collisions des particules neutres, donnant
naissance des ions positifs et de nouveaux lectrons. Chaque lectron nouvellement cr
contribue son tour par ionisation, au cours de son dplacement vers l'anode, la cration
d'une avalanche lectronique vritable. Par la mme, le nombre d'ions positifs augmente aussi.
Le nombre de collisions est d'autant plus important que E est intense. Il est caractris par un
coefficient (ou pouvoir) d'ionisation o appel "premier coefficient d'ionisation de Townsend".
Celui - ci reprsente le nombre moyen de chocs ionisants qu'un lectron produit par unit de
longueur dans la direction du champ.

Figure 1.2 Caractristiques courant tension pour diffrents rgimes de la dcharge sous
tension continue [1]

Si N
0
est le nombre d'lectrons mis par la cathode par unit de temps et N
x
le nombre
d'lectrons traversant le plan d'abscisse x par unit de temps et a la distance inter lectrodes,
l'augmentation de ce nombre sous l'effet de chocs ionisants sur un parcours dx, en admettant a
constant, scrira

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dN
x
= N
x
.o.dx (1.1)

Sachant que l'origine des abscisses se trouve la cathode :

Nx (x = 0) = N
0
(1.2)

d'o

N
x
= N
0
e
o x
(1.3)

Si a est la distance inter lectrode, le nombre d'lectrons N
a
arrivant sur l'anode est :

N
a
= N
0
e
o a
(1.4)

et le courant par unit de temps

I = e N
a
= e N
0
e
o a (1.5)

ou encore

I = I
0
e
o a
(1.6)

avec I0 = e N0, le courant mis par la cathode sous l'effet du rayonnement extrieur ; e tant la
charge lmentaire d'un lectron (-1,6.10
-19
coulomb). Le coefficient d'ionisation o dpend de
l'tat dans lequel se trouve le gaz ainsi que de l'nergie des lectrons. En dautres termes,
o dpend de l'intensit du champ lectrique E, l'tat du gaz tant dtermin par sa pression et
sa temprature qui restent pratiquement constantes lors de l'ionisation par les lectrons car le
transfert d'nergie vers le gaz est trop faible. Comme la densit du gaz est proportionnelle la
pression p, a ne dpendra finalement que de E et p. Si n est le nombre moyen de collisions
entre les lectrons, le potentiel moyen acquis par les lectrons sur le parcours (n.),
correspondant la vitesse moyenne de l'lectron dans le gaz sous un champ lectrique E est :

o = p f(E ) = p f (
E
A p
) (1.7)
ouencore

o
p
= f (
E
A p
) (1.8)
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f tant une fonction inconnue. Il n'existe pas de fonction analytique unique dcrivant
entirement la courbe f. La figure 1.3 donne la forme de la fonction o/p = f(E/p) pour
quelques gaz.

Figure 1.3 Variation du coefficient dionisation (o/p) en fonction de (E/p)
pour N
2
, Air, H
2
et A [1]

Cependant, une forme analytique approche de la fonction f a t propose par Townsend.
Celle-ci, dtermine exprimentalement, n'est valable que dans un domaine limit de la
quantit (E/p). On aura :

o
p
= A exp
|
|
.
|
\
|
p
E B/

(1.9)
pour 100 <
E
p
< 800 V/(cm.mmHg
-1
)

A et B sont des constantes spcifiques du gaz considr. Dans le cas de lair, A et B valent
respectivement 15 et 365.
En outre, la relation (1.6) permet d'crire :

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ln (I) = ln(I
0
) + o. a (1.10)

Les courbes logarithmiques du courant en fonction de la distance inter lectrodes sont des
droites de pentes o comme illustr par la Figure 1.4. Cette variation a t vrifie
exprimentalement par Von Engel pour des faibles valeurs de (E/p) et de distance inter
lectrodes, tout en maintenant o constant. Lorsque (E/p) et a dpassent un certain seuil,
d'autres phnomnes interviennent.

Figure 1.4 Variation du courant en fonction de la distance inter lectrode [1]

2.1.3Dchargeautonome

Si (e
oa
) est le nombre d'lectrons libres produits par un lectron dans une avalanche de
longueur a, (e
o a
- 1) est le nombre d'ions positifs produits simultanment. Le nombre
d'lectrons mis par la cathode (N
c
) vers l'anode dans l'intervalle inter lectrode donnent
naissance [Nc (e
o a
1)] ions positifs, qui en bombardant leurs tours la cathode, librent
[Nc(e
o a
- 1) | lectrons supplmentaires en faisant intervenir un nouveau coefficient
dionisation . Celui-ci est le "deuxime coefficient d'ionisation de Townsend" reprsentant le
rapport entre le nombre d'lectrons librs partir de la cathode et le nombre d'ions positifs
qui tombent sur la cathode. La dcharge dans ce cas est dite dcharge autonome.La condition
de dcharge autonome pour un gaz donn temprature constante est:
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1 ) 1 ( >
a
e
o
(1.11)
ou encore

|
|
.
|
\
|
+ >
o
1
1 ln a (1.12)
Dans ce cas, la dcharge est autonome.
La tension d'initiation de cette dcharge Ud est dtermine partir de l'expression:

|
|
.
|
\
|
+ =
o
1
1 ln a (1.13)
En admettant que la dcharge autonome apparat U = Ud (avec U = E a), les quations (1.9)
et (1.13) nous donnent la condition de dcharge autonome pour un gaz donn temprature
constante :
U
d
=
B p a
ln (A p a / ln (1 + (1/)))
(1.14)

Si le champ lectrique n'est pas perturb par des charges d'espace, la tension dapparition de la
dcharge autonome dpendra uniquement du produit (p.a) :

U
d
= f(p a) (1.15)

Cette variation de la tension en fonction du produit de la pression et de la distance inter
lectrodes est appele loi de Paschen plus connue exprimentalement par les courbes dites de
Paschen. La figure 1.5 donne les courbes de Paschen pour le N
2
, Air, H
2
, He Ne et Ar [3].
Cette loi de Paschen s'explique par le fait que pour une distance inter lectrodes donne en
champ uniforme et trs faible pression (prsence dun nombre trs limit de molcules),
l'avalanche ionisante est limite entranant une tension disruptive relativement leve. Dans le
cas des pressions leves, la grande densit du gaz fait que le libre parcours moyen des
particules ionisantes ne soit plus suffisant pour dclencher facilement une avalanche. Comme
on peut le remarquer, ces courbes ont toutes la mme allure et possdent un minimum
correspondant une valeur particulire du produit (p.a)min.. Dans l'air par exemple, ce
minimum vaut environ 350 Volts pour une valeur de (p a)min. = 66,7 Pa.cm ; ce qui signifie
qu'en dessous de 350 Volts, il ne peut y avoir d'amorage dans l'air. Le tableau 1.1 donne
quelques valeurs du minimum de Paschen pour certains gaz en fonction du produit (p a)min et
de la nature du matriau constituant le mtal cathodique.
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Figure 1.5 Courbe de Paschen pour diffrents gaz [3]

Matriaux Minimum de Paschen
Gaz Cathode (U
d
)
min.
(V) (p.d)
min
(mm.Hg.cm)
Air
N
2

H
2

O2
Hg
Fe
Fe
Pt
Fe
Fe
330
275
295
450
520
0,57
0.75
1,25
0,7
2

Tableau 1.1 Minimum de Paschen en fonction du gaz et du mtal de la cathode [2]
Notons toutefois quil est galement possible dappliquer le mcanisme de Townsend

des configurations dlectrodes donnant lieu un champ quasi uniforme comme les systmes
cylindre - cylindre (concentriques ou excentriques) ou sphre - sphre concentriques avec un
faible intervalle par rapport aux rayons des lectrodes. Cependant, le coefficient d'ionisation
o tant dpendant de E, lequel est fonction de la position x dans l'intervalle inter lectrode, la
condition de dcharge autonome doit tenir compte de ce fait car la prsence de charges
d'espace et la gomtrie des lectrodes rendent difficile l'application de la condition de
dcharge autonome dans le cas des champs non uniformes. Le champ correspondant la
tension U
d
peut s'avrer insuffisant pour maintenir l'ionisation par collisions. Dans ce cas, la
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tension ncessaire pour quil y ait claquage de l'intervalle de gaz (U
c
), doit tre suprieure
U
d
(U
c
> U
d
).
2.2Dchargesenformesdecanauxstreamers

Dans la thorie de Townsend, les processus d'mission cathodique jouent un rle
fondamental dans l'amorage de la dcharge autonome. Cette thorie ne peut expliquer
cependant les temps de dveloppement de la dcharge mesurs (10
-9
10
-7
s) dans le cas
d'intervalles inter lectrode importants (a > 1 cm) et des pressions proches de l'atmosphre
[2]. Ces temps sont beaucoup plus faibles que ceux ncessaires l'apparition d'effets
secondaires la cathode conditionnant le passage des dcharges non autonomes en autonomes
(10
-5
10
-4
s). Aussi, la tension d'apparition de l'tincelle dans les grands intervalles ne
dpend pas du matriau de la cathode contrairement ce qui est prvu par la thorie de
Townsend [2].
Pour expliquer le mcanisme de dveloppement des dcharges dans les grands
intervalles, L. B. Loeb et J. M. Meek [4] ont propos un modle dans lequel la photo
ionisation rsultant des phnomnes d'excitation et de recombinaison dans l'intervalle inter
lectrode et la charge d'espace sont la base du dveloppement de la dcharge (Figure 1.6).
Selon ce modle, la dcharge se dveloppe sous forme d'un canal trs conducteur appel
streamer (canal de plasma).

Figure 1.6 Schma de dveloppement de la dcharge par avalanches photo ionisantes [2]

Le premier stade d'volution de la dcharge en canal correspond la cration d'une
avalanche dite primaire. Celle - ci prend naissance, par exemple, suite des collisions
ionisantes pour une valeur critique du champ lectrique en un point quelconque de l'intervalle
inter lectrode. Cette avalanche est accompagne de la cration d'une charge d'espace. En
effet, dans une avalanche, les lectrons forment un nuage ngatif qui progresse rapidement
vers l'anode alors que de l'autre ct, les ions positifs restent pratiquement immobiles en
raison de leur mobilit. Le champ devient alors htrogne et plus intense prs des ples de
Avalanche primaire Avalanches
Photon Photon
Anode Cathode
Avalanche primaire Avalanches
Photon Photon
Anode Cathode
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l'avalanche et surtout au voisinage du ple positif (constitu par les ions positifs) qui joue le
rle d'une pointe conductrice. Le champ sur les flancs de l'avalanche diminue. Ds que la
charge d'espace de l'avalanche primaire atteint une taille critique (soit environ 10
8
lectrons),
elle va contribuer intensifier les collisions ionisantes sur le front et la queue de l'avalanche.
Dans l'avalanche, les lectrons et les ions se recombinent en partie. L'nergie rayonne
peut provoquer la photo ionisation des particules de gaz, se trouvant l'intrieur et
l'extrieur de l'avalanche. Les lectrons nouvellement crs peuvent, si le champ local est
suffisamment intense, conduire par chocs ionisants, la naissance de nouvelles avalanches,
dites secondaires qui leurs tours creront une charge d'espace positive en avant de la
premire. Ces avalanches secondaires jouent le rle de facteur d'entretien de la dcharge (qui
devient autonome) et d'amplification du nombre de porteurs de charges libres.
Cette amplification va s'effectuer surtout dans l'axe du champ et de l'avalanche prcdente.
Chaque avalanche continue se dvelopper pour son propre compte et de faon trs rapide.
La premire n'a pas fini de crotre que dj toute une chane se cre. Alors que les lectrons se
dplacent vers l'anode, la chane semble progresser vers la cathode. La progression de cette
chane est trs rapide du fait que les avalanches se transplantent par rayonnement lumineux et
non par migration d'lectrons et d'ions. L'ionisation se fait donc sans intervention de la
cathode. La dcharge prend alors la forme d'un canal dans la direction de l'axe des lectrodes ;
son dveloppement dpend de la rpartition du champ.
D'autre part, lors de collisions lastiques avec les particules de gaz, les charges leurs
transmettent une partie de leurs nergies cintiques. Il en rsulte une augmentation de la
temprature du gaz. Tant que celle-ci est infrieure celle ncessaire l'ionisation thermique,
elle n'aura aucune influence sur le dveloppement de la dcharge. Ce stade de la dcharge est
appel streamer. Le champ extrieur ncessaire son entretien est infrieur celui
conditionnant l'ionisation par collisions. Pour l'air par exemple, le champ moyen du streamer
se dveloppant partir de l'anode est d'environ 5 kV/cm et de 15 kV/cm lorsque celui -ci se
dveloppe partir de la cathode alors que le champ critique est d'environ 30 kV/cm (dans les
conditions normales de pression et de temprature).
Dans le cas d'intervalles inter lectrode importants (> 1 m pour l'air pression
atmosphrique), la dcharge en forme de streamer se transforme lors de son passage vers
l'autre lectrode en une autre forme de dcharge appele leader. Les figures 1.7 1.9
reprsentent les diffrents stades de dveloppement de la dcharge en canal.
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Le modle de dveloppement de la dcharge en canal dans les gaz, est trs important
du point de vue qualitatif; il permet d'une manire convaincante, de connatre la probabilit
conditionnant le mcanisme de dcharges pour les grandes valeurs du produit (p.a).

Figure 1.7 Etapes successives de dveloppement dun streamer dans un gaz en configuration
dlectrodes pointe - plan : (a) pointe positive ; (b) pointe ngative [2]

E
E
(b)
(a)
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Figure 1.8 Etapes de dveloppement dun streamer positif en champ uniforme [2]

Figure 1.9 Schma du dveloppement de dcharges dans un systme dlectrodes pointe
plan avec une pointe positive : (a) streamer ; (b) leader ; (c) dcharge principale. La flche
reprsente le sens de dveloppement des diffrents stades de la dcharge [2]
2.3Tenuedilectriquedelairenchampuniforme

La tenue dilectrique de lair est denviron 30 kV/cm pression atmosphrique. Le
tableau 1.2 [5] donne la rigidit dilectrique de quelques gaz en comparaison avec lair sous
champ uniforme pression atmosphrique pour une distance inter lectrode d
s
= 1 cm.

E
(a) (b) (c)
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Tableau 1.2 Rigidit dilectrique relative de quelques gaz par rapport lair dans un champ
uniforme [5]

La rigidit dilectrique dans les conditions relles dpend de plusieurs paramtres :

- la densit de lair c'est--dire la pression et la temprature. Dans un champ non
uniforme, les tensions dapparition de leffet couronne et de claquage sont aussi influences
par le taux dhumidit dans lair. La tenue dilectrique augmente lorsque lhumidit
augmente. Cela sexplique par le fait que la vapeur deau est capable de capter les lectrons
libres ;
- la polarit des lectrodes conditionnant la rpartition du champ lectrique prenant en
considration la prsence de charges despace. La tension de claquage de lair est plus leve
en polarit ngative quen polarit positive alors que cest linverse pour ce qui est des
tensions dapparition de leffet couronne. Linfluence de la polarit est trs marque lorsque
le champ lectrique est fortement divergent comme dans le cas de lhumidit ;
- les barrires ventuelles introduites dans lintervalle inter lectrodes. Lintroduction
dun solide dilectrique dans lespace inter lectrode permet, dans le cas dun champ
divergent, damliorer la tenue dilectrique du systme. La barrire est dautant plus efficace
quelle est proche de llectrode acre (c'est--dire celle dont le rayon de courbure est le plus
faible). La position optimale de la barrire, dans un systme dlectrodes pointe plan, se
trouve entre 0 et 20% de la distance inter lectrode. La position optimale exacte a t
dtermine exprimentalement en fonction de la gomtrie des lectrodes par A. Beroual et al
[6].

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En plus de tous ces paramtres, la tenue de lair dpend galement de la gomtrie des
lectrodes et de la caractristique U(t).

2.4Tenuedesgazlectrongatifsenchampuniforme
Comme pour les autres gaz, les mcanismes de dcharge et de rupture dilectrique
dans les gaz lectrongatifs dpendent de lintervalle inter lectrodes : mcanisme de
Townsend pour les faibles intervalles et mcanisme de streamers leader pour les grands
intervalles.
- Faibles distances : La condition de dcharges autonomes selon le mcanisme de
Townsend est donne par :
} }
=
(
a x
dx dx
0 0
1 ) ( . exp . o q o (1.16)
tant le 2
me
coefficient de Townsend (coefficient dmission de surface).

Pour un champ uniforme :
| | 1 1
) (
=
a
e
q o
q o

(1.17)
Dans les gaz lectrongatifs, une partie des lectrons natteint pas lanode : elle est capture.
Dans le cas particulier o aucun lectron natteint lanode, on aura :

}
=
x
dx
0
0 ) ( q o (1.18)
Par consquent, il existe un champ E pour lequel il ny aura pas de claquage. Celui-ci
correspond au cas o o = q.

Cependant, il est difficile dutiliser la thorie de Townsend pour des problmes techniques
cause de la difficult de dterminer .

- Grandes distances : Pour appliquer le modle des streamers dans les gaz
lectrongatifs, des conditions supplmentaires doivent tre remplies:
i) lnergie des photons (hv) mise par la tte de lavalanche initiatrice de la dcharge doit
tre suffisamment leve ;
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ii) les photons doivent ioniser le gaz avant le front de lavalanche ;
iii) laugmentation du champ E avant le front de lavalanche, la suite de concentration de
charges dans lavalanche primaire, doit tre suffisante pour crer les avalanches suivantes.

Si ces conditions sont satisfaites, le critre damorage peut scrire sous la forme :
) , ( ) ( . exp ). (
0
q o q o x G dx
x
x x
=
(

}
(1.19)
o
x
et q
x
sont les valeurs de o et q x ; G(x, ) est une fonction empirique qui peut tre
dtermine partir des rsultats obtenus en champ uniforme. Juste avant le claquage
(o
x
/E) >> (q
x
/E)
Le critre donn par lquation prcdente peut tre crit sous la forme
) , ( ) ( 2 exp
0
q o o x F dx
x
x
=
(
}
(1.20)
ou encore
) , ( ) ( ) 2 / (
0
q o o x f dx
x
x
= +
}
(1.21)
Exprimentalement, F(x, ) ne dpend pas beaucoup de x et de dans un champ uniforme ;
lnF(x, ) est pratiquement constant. Ainsi, on aura :
k dx
x
=
}
0
) ( q o (1.22)
Dans le cas du SF
6
, k =18. Notons quen pratique, la tenue dilectrique des gaz lectrongatifs
dpend aussi de la nature et de la forme des lectrodes, de la forme et de la polarit de la
tension, du type et de la concentration des impurets, et de son fonctionnement avec les autres
dilectriques.

2.5 Influence de la gomtrie des lectrodes et de la forme
delatension
2.5.1Tensioncontinue
2.5.1.a.Polaritpositive

Les phnomnes qui apparaissent en champ non uniforme (pointe - plan, fil - plan, fil -
cylindre ) dpendent de la nature et de la pression du gaz, de la forme, de la polarit et du
temps dapplication de la tension.
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- Dans un intervalle dair pointe - plan pression atmosphrique, diffrents phnomnes
rptitifs peuvent tre observs selon la valeur de la tension (figure 1.10) [7].

Figure 1.10 Frquence dapparition des streamers dans lair en fonction de la tension
applique V dans un systme dlectrodes pointe plan, en polarit positive; d = 31 mm -
rayon de la pointe = 0,17 mm [7]

On distingue trois rgimes entre le seuil V
o
de lapparition de leffet couronne et la tension de
claquage V
s
,:
- entre V
o
et V
L
, on observe des impulsions (burst pulses) qui se manifestent au niveau de
la pointe et dont le courant est faible (de lordre du microampre) ; ces impulsions sajoutent
des dards prliminaires (preonset streamers) qui stendent assez loin de la pointe ;
- entre V
L
et V
M
, apparat un rgime parfaitement stabilis dans lequel subsiste un courant
continu, sans aucune impulsion ; cette rgion est appele zone dHermstein ;
- au-del de V
M
, de nouvelles impulsions rgulires apparaissent avec des dards qui soit
disparaissent avant datteindre la cathode (dards prdisruptifs ou prebreakdown streamers,
zone MN), soit traversent tout lespace inter lectrodes (dards disruptifs ou breakdown
streamers, zone NP).
Le courant continu de la zone dHermstein se manifeste par une dcharge luminescente
entourant llectrode [8,9].
Si lon change le rayon de courbure de la pointe ainsi que la distance inter lectrodes, les
diffrentes zones que lon vient dindiquer peuvent tre absentes ou apparatre dans un ordre
diffrent. Par exemple, la totalit des phnomnes de prdcharge ne se produit qu partir
dune distance inter lectrodes de 30 cm quand le rayon de la pointe est de 1 cm [10]. Cette
distance dcrot quand le rayon de lanode diminue [11].
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Lhumidit ne joue un rle important que lorsquil existe des phnomnes de
prdcharge. Si le claquage se produit aprs les dards prdisruptifs, lhumidit entrane une
augmentation de la tension disruptive; si le claquage intervient aprs la dcharge
luminescente, la tension est abaisse [12].
- Dans lhexafluorure de soufre, les phnomnes observs sont globalement similaires
ceux observs dans lair sec, except le fait que la pression pour laquelle ils apparaissent est
plus faible dans le SF
6
[7].
- Dans dautres gaz ou mlanges de gaz, selon quils soient plus ou moins
lectrongatifs, les phnomnes peuvent tre similaires ceux observs dans lair ou, au
contraire, tre trs diffrents [13].
2.5.1.b.Polaritngative

Dans lair, en gomtrie pointe - plan, le courant de dcharge est constitue dun courant
continu de faible amplitude sur lequel se superposent des impulsions de Trichel dont la
frquence, trs leve et trs rgulire, est comprise entre 2 et 50 MHz. Laspect visuel de la
dcharge est essentiellement localis la pointe [14]. Lorsque la tension crot, le nombre
dimpulsions ainsi que leur amplitude augmentent [15]. Le courant correspondant aux
impulsions de Trichel est de lordre de 1 mA. Daprs Y. Miyoski et al [16], la tension de
claquage dpend fortement de la distance inter lectrodes. Pour les trs faibles distances, la
tension de claquage dpend fortement du rayon de courbure de la pointe r alors quelle en est
indpendante pour les plus grandes distances. La tension damorage de la dcharge
luminescente est, en revanche, indpendante de r quelque soit lintervalle inter lectrodes.
Dans lhexafluorure de soufre, des rgimes de dcharge sensiblement identiques
apparaissent. Toutefois les impulsions de Trichel sont beaucoup plus irrgulires que dans
lair [7]. Ils dpendent de la nature des lectrodes ainsi que du pourcentage de la vapeur deau
lintrieur du gaz.
2.5.2Tensionimpulsionnelle
Dune manire gnrale, lcart entre la tension de claquage et la tension dapparition de

leffet couronne est plus grand pour une onde dite lente (manuvre - 250/2500 s - Annexe 7)
que pour une onde courte (foudre - 1,2/50 s - Annexe 6). Ce phnomne est d leffet
stabilisant de la dcharge couronne. Cet effet est videmment plus important quand le temps
de monte de londe est grand, la charge despace ayant plus de temps de se former que dans
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le cas dune onde rapide dont la dure est plus faible ou du mme ordre de grandeur que le
temps de transit des ions. En outre, la tension de claquage dune onde lente est en gnral plus
basse en polarit positive quen polarit ngative [17].
Lapplication dune impulsion de tension peut conduire, dans certains cas, une
augmentation anormale de la tension disruptive. Par exemple, partir dune certaine valeur de
la pression, la tension disruptive du mlange SF
6
-air avec seulement 1 % de SF
6
est suprieure
la tension disruptive du SF
6
pur [18]. Cela est dautant plus surprenant que la tension
disruptive du mlange est infrieure celle du SF
6
pur dans le cas dune tension continue.
Leffet stabilisant de la dcharge couronne (plus important dans le mlange que dans le gaz
pur [18]) doit nouveau tre voqu pour expliquer ce phnomne.
2.5.3Tensionalternative
Sous tension alternative, les mcanismes conduisant au claquage sont plus complexes
quen continue ou en impulsion par suite de linfluence des charges despace cres dans une
alternance donne sur lalternance suivante. En gnral, aux pressions intermdiaires, la
tension disruptive la plus basse est celle correspondant au dveloppement de la dcharge
gnre pendant lalternance positive.
Dans lair pression atmosphrique et pour une pointe de 5 mm de rayon de courbure
[12], des impulsions de Trichel peuvent apparaitre pendant lalternance ngative. Linfluence
de lhumidit nest pas trs importante durant lalternance positive.
Dans lhexafluorure de soufre sous tension alternative, lhumidit joue un rle
extrmement important [19,20] en favorisant le processus de stabilisation par effet couronne.
2.6Influencedelapressiondugaz
Une augmentation de la pression du gaz saccompagne en gnral dune augmentation de

la tension dapparition de leffet couronne et de la tension de claquage. Une exception
importante cette rgle se manifeste avec les gaz lectrongatifs. Dans ce cas, la tension de
claquage passe dabord par un maximum, puis dcrot jusqu une certaine valeur critique de
la pression pour laquelle elle devient gale la tension dapparition de leffet couronne. Au-
dessus de cette pression critique, la tension crot nouveau et le claquage se produit avec
lapparition de leffet couronne ; il (leffet couronne ou corona) est immdiatement suivi par
le claquage.
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En dessous de la pression critique, la tension dapparition de leffet couronne dans le SF
6
est toujours infrieure la tension de claquage en gomtrie fil cylindre o le fil est anode,
quelque soit le rayon du cylindre [17]. Des rsultats similaires peuvent tre observs dans lair
mais pour des pressions plus leves que dans le cas du SF
6
.
Dans le cas du SF
6
, la gamme de pression pour laquelle la tension dapparition de leffet
couronne (impulsion de Trichel) est infrieure la tension de claquage, est plus leve en
polarit ngative quen polarit positive [21]. Par ailleurs, le maximum de la caractristique
U
claquage
= f (p ) est plus lev et se produit pour une pression plus grande en polarit ngative
quen polarit positive.
Les observations susmentionnes sexpliquent qualitativement de la manire suivante : en
rgime de dcharge couronne, llectrode de faible rayon de courbure est entoure dune
gaine de particules charges dont le signe est le mme que celui de la polarit de cette
lectrode. Ces particules se rpartissant autour de la pointe, constituent une lectrode virtuelle
de rayon plus grand que llectrode relle et contribuent ainsi abaisser le champ en son
voisinage. Le rayon apparent de llectrode augmente ainsi que la tension damorage.
partir dune certaine pression correspondant la tension de claquage maximale, la charge
despace est concentre de plus en plus prs de la pointe, le rayon de cette lectrode diminue
de mme que la tension damorage.
Les phnomnes sont qualitativement similaires pour les deux polarits mais trs diffrents
quantitativement. On peut montrer que la charge despace ngative se cre plus facilement
que la charge despace positive, ce qui explique que la tension de claquage ainsi que la
pression critique soient plus leves en polarit ngative quen polarit positive comme nous
avons eu le constater dans nos expriences (cf chapitre 2 et 3).
Au-dessus de la pression critique, le claquage est direct et la tension de claquage (U
cl
)
crot de manire monotone en fonction de la pression. partir de valeurs suffisamment
leves de cette pression, la croissance de U
cl
nest plus monotone et une tendance
asymptotique, similaire celle observe en champ uniforme, se manifeste. En polarit
positive, cet effet a t attribu linfluence des impurets en suspension dans le gaz [19].
Ces impurets (vapeur deau, oxygne, particules solides, etc.) sont dsorbes des parois
lorsque la pression du gaz augmente ; elles participent la cration dions ngatifs lourds qui
peuvent trs facilement librer leur lectron supplmentaire lintrieur du volume critique,
contribuant ainsi de manire sensible labaissement de la tension disruptive. Dans ce cas, la
prsence dirrgularits la surface de la cathode semble ne jouer aucun rle sur lapparition
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du claquage, la cathode nintervenant que comme source partielle dimpurets apparaissant
dans le gaz [22].

Afin de mieux cerner le comportement des isolants gazeux que nous avons utiliss dans
notre tude, nous allons tudier les phnomnes physiques se produisant en particulier dans le
SF
6
, N
2
et le CO
2
lorsque ceux-ci sont soumis un champ lectrique.

2.7Hexafluoruredesoufre(SF
6
)
L'hexafluorure de soufre (SF

6
) est lun des gaz les plus utiliss dans lindustrie
lectrique (80% environ). Sa grande qualit disolation (bonne tenue dilectrique), son
aptitude ne pas entretenir larc lectrique et son excellente stabilit chimique et thermique
font de lui (SF
6
) un gaz de premier plan pour les applications industrielles (disjoncteurs,
commutateurs, transformateurs haute tension, lignes de transmission et sous-stations de
distribution ).
L'hexafluorure de soufre est considr comme tant un compos compltement fluor (CCF).
Puisque les CCF ont des longvits atmosphriques pouvant aller jusqu' plus de 3000 ans
[23], le SF
6
pourrait donc contribuer de faon permanente lchauffement global du climat si
les missions continuent de crotre. Le potentiel dchauffement global (PEG) du SF
6
est
23900 fois suprieur celui du CO
2
pris comme rfrence (PEG = 1).
2.7.1Propritsphysicochimiques

Lhexafluorure de soufre (SF
6
) fut labor en 1900 par Moissan et Lebau [24] selon la
raction suivante : S (solide) + 3F2 (gaz) SF6 (gaz) + 1096 kJ. Et ce sont les travaux du
franais Berthelot qui sont lorigine de lutilisation du SF
6
dans le domaine de lappareillage
lectrique comme gaz de coupure et disolation. Ces travaux ont permis de mettre en vidence la
trs bonne stabilit chimique de ce gaz en prsence dun arc lectrique.
Cest un gaz incolore, inodore, stable la chaleur, non toxique et ininflammable dans les
CNTP (conditions normales de temprature et de pression). Sa molcule (figure 1.11) est de
forme octadrique (les six atomes de fluor sont symtriquement repartis sur les sommets
autour de latome de soufre).

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Figure 1.11 Structure molculaire du SF
6

Lorsquil est utilis comme isolant, certains de ces paramtres physico-chimiques (cf. chapitre
2) sont susceptibles de jouer un rle plus ou moins important.
2.7.2Propritsdilectriques

Grce au caractre lectrongatif du fluor, la molcule du SF
6
a tendance capturer les
lectrons pour former des ions ngatifs. Sa section efficace leve permet de ralentir (lors des
collisions) les lectrons libres subsistant dans le volume, ce qui les empche dtre trop
rapidement acclrs sous laction du champ lectrique retardant ainsi le dveloppement de la
dcharge. Cette affinit lectronique et cette grande section efficace (taille), confrent au SF
6

une rigidit dilectrique leve.
Selon la loi de Paschen, la tension de claquage est une fonction croissante du produit p.d (p
pression et d distance entre les lectrodes). Cette relation caractrise le mcanisme
dionisation en chane (avalanche de Townsend) responsable de claquage : les lectrons
doivent acqurir entre 2 collisions une nergie suffisante pour ioniser les molcules du gaz et
crer ainsi dautres lectrons. Si on prend en compte uniquement lionisation par les lectrons,
on peut calculer le premier coefficient dionisation o dans un champ uniforme selon la
relation :
) / exp( E p B p A = o (1.23)

o A et B sont des constantes, et E le champ lectrique.
Dans le cas o les ions positifs sont pris en compte dans le processus dionisation, on dfinit
un deuxime coefficient dionisation le coefficient dionisation primaire effectif o
-
. Ce
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dernier a fait lobjet de plusieurs investigations. Et diffrentes relations ont t proposes pour
son calcul. Nous nen retiendrons que trois parmi celles-ci :
- La relation de Boyd et Crichton qui donne le coefficient dionisation en fonction du
champ rduit E/p [25,26] :

o
-
/p = 27,8 E/p 2460 (1.24)

E est le champ en kV/cm, p la pression en bar et o
-
en 1/cm. Cette relation est limite une
plage de champ rduit (E/p) comprise entre 30 et 200 kV/cm.bar.

- Les relations de Balla et Graggs qui permettent de comparer la croissance des coefficients
dionisation primaire o et dattachement q sous champ uniforme [27]

o/p = 23.(E/p) - 1234
(1.25)

q/p = - 4.(E/p) + 1135

- Et enfin la relation empirique de Nitta [28] qui limine la restriction impose par la
relation de Boyd et Crichton. Elle est valable pour une plage de champ rduit relativement
grande.
o
-
/p = k ((E/p - (E/p)
c r
) (1.26)

avec k = 27 kV
-1

Il est important de noter que les expressions des coefficients susmentionns sont
approximatives et quelles ont t, pour la plupart, obtenues en champ uniforme pour des
pressions comprises entre 0 et 1 bar, plage plus faible que celle utilise dans la pratique
industrielle. Le champ critique rduit (E/p)
cr
dans le SF
6
est de 89 kV/(cm.bar), valeur
obtenue pour une configuration parfaite. Aucune ionisation nest possible pour toute valeur
infrieure ce champ critique. A 0,4 MPa, le SF
6
se liqufie aux alentours de - 40 C (cf.
diagramme de phase du SF
6
en annexe A4). Mais bien avant datteindre cette temprature, les
proprits dilectriques du SF
6
peuvent tre dgrades par une diminution importante de la
temprature travers une diminution de la valeur critique de (E/p) provoque par une
augmentation du coefficient dionisation [29]. Des prcautions doivent tre donc prises lors de
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son utilisation (disjoncteur haute tension par exemple) dans les pays ou les tempratures
peuvent descendre des valeurs trs basses (climat trs froid) pour viter les condensations.

2.7.2.1DchargesdansleSF6
Dans les conditions dapplications relles, le SF

6
est utilis sous haute pression avec un
champ intense gnralement non uniforme.
2.7.2.1.1Dchargescouronneetclaquage

Les conditions dtablissement des dcharges et leur volution (dcharges couronne
dcharges partielles claquage) dpendent dun grand nombre de paramtres : nature et
pression du gaz utilis, nature des lectrodes, polarit et amplitude de la tension applique,
rayon de courbure de la pointe et distance inter lectrodes.
Les dcharges couronne ou partielles sont visibles en champ non uniforme ; en champ
uniforme, les tensions dapparition de leffet couronne et de claquage sont identiques. Nous
considrons, de ce fait, le cas dun systme dlectrodes constitu dune pointe aigu et dune
lectrode plane. La figure 1.12 issue des travaux de Yousfi et Kanzari [30] montre la variation
du champ lectrique gomtrique rduit E/N (avec N la densit de particules) pour une
configuration pointe - plan avec une pression de SF
6
de 0,4 MPa et un potentiel la pointe de
22 kV. On constate que le champ dcrot brutalement ds que lon sloigne de la pointe.

Figure 1.12 Variation du champ lectrique rduit en configuration pointe-plan: distance inter
lectrodes = 2,5 mm ; rayon de courbure de la pointe = 10 m [30]

Cette courbe a t obtenue partir de lexpression du champ gomtrique propose par Lama
et Gallo [31] :
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. max
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.
) (
x dx dr
r d E
x E
c
c
+
= (1.27) avec
|
|
.
|
\
|
=
c
c
r
d
r
V
x E
. 4
ln .
2
) ( (1.28)

r
c
et d reprsentent respectivement le rayon de courbure de la pointe et la distance inter-
lectrodes ; V est le potentiel la pointe.

En gnral, dans le cas dune configuration pointe - plan et dun gaz lectrongatif (comme
par exemple le SF
6
) ou dun gaz contenant un certain pourcentage de molcules
lectrongatives (air, mlanges SF
6
-N
2
ou SF
6
-CO
2,
etc.), lespace inter-lectrodes peut tre
considr comme divis en deux zones: la premire, voisine de la pointe o lionisation est
suprieure lattachement lectronique (zone de multiplication lectronique), et la seconde o
les phnomnes dattachement sont prpondrants. Dans cette zone (zone de drive ionique),
les ions (de mme polarit que le potentiel appliqu la pointe) drivent vers llectrode plane
sous leffet du champ lectrique. Les dcharges samorcent ainsi la pointe sous leffet du
champ lectrique trs intense qui y rgne et leur volution est caractrise par la propagation
de canaux ioniss appels streamers.
Les dcharges couronne peuvent tre de plusieurs types: continues (ngatives ou positives) ou
alternatives selon le type de tension applique la pointe. Une dcharge couronne alternative
peut tre considre comme une suite de dcharges positives et ngatives spares par des
intervalles de temps durant lesquels la tension applique est infrieure aux tensions seuils
d'apparition des dcharges couronne dans l'une ou l'autre polarit. Les dcharges continues de
polarit ngative sont les plus stables alors quil est trs difficile de contrler la dcharge
couronne positive compte tenu des impulsions de courant trs irrgulires. Daprs les travaux
effectus par Sangkassaad [21], on constate que :

- la tension damorage de la dcharge couronne est plus basse en polarit ngative
quen polarit positive,
- la protection par charge despace est plus importante en polarit ngative,
- la tension de claquage est plus faible en polarit positive.
2.7.2.1.2FacteursinfluenantlatenuedilectriqueduSF
6

Comme mentionn prcdemment, le comportement du SF
6
dpend particulirement des
phnomnes qui modifient le champ car son coefficient dionisation effectif augmente trs
rapidement en fonction de ce dernier.
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a)Influencedesparticulesmtalliques

Lors de la conception, du contrle ou de la maintenance des systmes lectriques isols
au gaz, des particules trangres (mtalliques) de diffrentes tailles peuvent apparatre dans
lenceinte du systme (entre les lectrodes). Une variation de tension provoque le
dplacement de ces particules dans lintervalle inter-lectrode causant ainsi la modification
du champ appliqu et favorisant la dcharge. La tension damorage de la dcharge peut tre
considrablement rduite par la prsence de ces particules. Ces effets nfastes augmentent
avec leur densit et leurs dimensions. La diminution de la tension damorage due la
prsence de particules est encore plus intense et dangereuse sous tension continue quen
alternatif. Sous tension alternative, les diffrentes alternances provoquent le va et vient des
particules entre les conducteurs mais la probabilit quelles atteignent chaque fois les
lectrodes est beaucoup plus rduite quen continu cause de la dure des alternances, plus
courte.
Sous ondes de choc, les particules disposent encore de moins de temps pour atteindre les
lectrodes. Quand leffet de la tension sur les particules est en retard sur le temps
dapplication de londe (cas des ondes impulsionnelles), la tension damorage ne sera pas
trs diminue par leur prsence. Lune des techniques classiques pour se prmunir des effets
des particules trangres est de les entraner dans une rgion de champ faible voire nul et de
les y piger par la suite.
b)Influencedelagomtriedeslectrodes
Le matriau de llectrode, principalement celui de la cathode, influe sur la dcharge,

surtout dans les configurations relles o la pression et le champ sont levs. Sous champ
lev, laugmentation de laire de llectrode se traduit par une diminution de la tension
damorage ds que le champ est de lordre de 100 kV/cm.
La rugosit de la surface des conducteurs (protubrances) crent des champs locaux nettement
suprieurs au champ appliqu. Le champ appliqu a un facteur | donn par la
relation suivante [32] : | = 2h / w
o h et w sont respectivement la hauteur et la largeur de la protubrance. Pour des
protubrances (ou rugosit) de hauteur h, certains travaux ont fait mention dune diminution
de la tension damorage partir de (p.h) suprieure 0,04 bar.cm (Pedersen) [33] et (p.h)
suprieur 0,15 bar.cm [34,35].
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c.Influencedesimpuretsdugaz
Elle dpend de la gomtrie des lectrodes et de la pression du gaz. Lhumidit (ou

vapeur deau) est considre comme limpuret la plus pnalisante pour une isolation au SF
6
.
La valeur maximale admise, par exemple, avant la mise en service dun systme isol gaz
est de lordre de 600 ppm (partie par million de volume). Aussi, une augmentation de 20 40
ppm par mois est tolre dans le systme.
Lhumidit favorise le mcanisme de leader et surtout concourt la formation de sous
produits indsirables. Sous tension alternative, elle privilgie lapparition de couronne
stabilise. En champ uniforme ou quasi-uniforme, les impurets gazeuses, quil sagisse de
lair ou de lazote, nont pas beaucoup dinfluence sur la tension damorage. Pour
saffranchir de ces facteurs (particules, protubrances et impurets gazeuses) prjudiciables
pour la tenue dilectrique du SF
6
, on utilise le conditionnement. En effet, avant la mise en
service dun systme isolation gazeuse, on procde un conditionnement afin de supprimer
toutes sources ventuelles damorage anormal (particules mtalliques, protubrances et
impurets).
d.Influencedelatension

Dans la plupart des cas, leffet des facteurs susnomms est troitement li la nature de
la tension (alternative, continue ou impulsionnelle). La valeur intrinsque de la tenue
dilectrique dpend galement de la forme de la tension.
2.7.3ContrainteslieslutilisationduSF
6

Bien que reconnu pour ses indiscutables proprits dilectriques et de coupure dans les
systmes disolation, son utilisation grande chelle suscite des objections surtout cause de
son impact non ngligeable sur lenvironnement. Le SF
6
est utilis 80 % par lindustrie
lectrique. Dans les dix dernires annes, sa production a connu une forte croissance et
pourrait atteindre les 15000 tonnes lhorizon 2015 si ce rythme nest pas modifi. Le taux de
SF
6
dans latmosphre est en croissante volution malgr toutes les prcautions prises lors de
la mise en uvre des appareils utilisant ce compos. Sa molcule absorbe les radiations
infrarouges ; son action est suppose tre de 25.000 fois suprieure celle du CO
2
[36].
Malgr lvolution de la quantit de SF
6
dans latmosphre, elle reste plus faible que celle du
CO
2
. Mais linquitude se situe au niveau de sa molcule trs rsistante aux dgradations
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chimiques et photochimiques, ce qui lui donne une dure de vie trs importante dans
latmosphre (plusieurs sicles). Le SF
6
pur est non toxique et inerte mais il peut tre
asphyxiant lorsque sa concentration devient trs importante dans lair. La quantit maximale
tolre est de 12 mg/m
3
[5].
Chimiquement stable jusqu 800 C [24], sa molcule se dissocie au del de cette
temprature. A haute temprature, sous laction dun arc lectrique, il se dcompose en faible
quantit, de lordre de 5 % aprs un fonctionnement de plus de 25 ans une temprature de
140 C. Il se forme des sous produits dont certains sont reconnus pour leur toxicit plus ou
moins importante, notamment ceux qui apparaissent lors des dcharges en prsence datome
doxygne et dhydrogne (eau). Le tableau 1.3 regroupe quelques produits de dcomposition
du SF
6
ainsi que leur toxicit et quantit tolre [5].

Tableau 1.3 Principaux produits de dcomposition du SF
6
[5]

SOF
4
(ttrafluorure de thionyle) : Agressif pulmonaire, VME : 0,63

SOF
2
(Fluorure de thionyle) : Agressif pulmonaire : dme aigu du poumon, Irritation des yeux, Odeur
cre et nauseuse, VME : 0,63

SO
2
F
2
(fluorure de sulfuryle) : Convulsifiant: blocage irrversible des muscles respiratoires (diaphragme).
Inodore mais se forme avec dautres gaz odeur caractristique, VME : 5

SF
4
(tetrafluorure de soufre) : Agressif pulmonaire: difficults respiratoires et irritation des muqueuses,
Odeur piquante dcelable faible concentration, VME : 0,1

SO
2
(anhydride sulfureux) : Irritant violent, Odeur suffocante irrespirable, VME : 2

HF (acide fluorhydrique) : Irritant, VME : 3

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F
10
(deca fluorure de di soufre) : Agressif pulmonaire (plus toxique que le phosgne), VME : 0,01

*VME (Valeur Moyenne dExposition en ppm) : Quantit de gaz qui permet une exposition de 8h par jour,
5 jours par semaine, sans effet chez lindividu.

Ces produits peuvent tre fixs par exemple par lalumine qui, par ailleurs peut absorber
lhumidit. Le SF
6
est non corrosif pour la plupart des mtaux, mme haute temprature sauf
Sous-produits Degr de toxicit Quantit tolre (mg/m
3
)
SOF
4
Peu toxique 2,5
SOF
2
Peu toxique 2,5
SO
2
F
2
Toxicit moyenne 5
SF
4
Toxicit moyenne 0,1
SO
2
Toxicit moyenne 2
HF Toxicit moyenne 3
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Trs toxique 0,025
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pour lacier. Le remplacement du SF
6
par un gaz ou mlange gazeux conomiquement,
techniquement et/ou cologiquement plus bnfique aura invitablement des rpercutions sur
le choix des matriaux des systmes isolation gazeuse dans lesquels il est utilis. Il convient
galement de veiller ce que le gaz (ou mlange) de substitution ait des proprits
dilectriques et performances comparables celle du SF
6
. En ce qui concerne laspect
environnemental, certains auteurs pensent que le meilleur moyen est dutiliser le SF
6
pur et de
rduire au minimum voire supprimer ses missions dans latmosphre [37].

2.8Azotegazeux(N
2
)
2.8.1PropritsduN
2

Lazote se trouve principalement dans l'atmosphre. En effet, il reprsente en volume
78,08 % de l'air que nous respirons. A pression atmosphrique, pour des tempratures
infrieures -196C, cest un liquide incolore, un peu plus lger que leau. Il ne peut
entretenir ni la respiration, ni la combustion. La molcule dazote de formule brute N
2
est
forme de deux atomes N spars par 109,8 pm. L'azote est prsent galement dans la crote
terrestre en quantit limite (nitrates, etc.), sous forme organique dans les plantes et
organismes vivants ou morts qui forment l'humus et sous forme minrale (lammoniac) lui
permettant de contribuer la fertilit du sol.
2.8.1.1Propritsphysicochimiques

Sous forme gazeuse, dans les conditions normales de pression et de temprature (T =
288,15 K, P = 101,3 kPa), lazote est un gaz incolore, inodore, non toxique, ininflammable,
non corrosif et physiologiquement inerte. Toutefois, lorsquil est prsent en trs grande
quantit, il peut avoir des effets nocifs sur lorganisme par dplacement de loxygne de lair, ce
qui conduit la rduction de la pression partielle de loxygne dans les poumons et agir comme
asphyxiant.
Sous forme gazeuse, lazote se liqufie trs basse temprature (entre - 196 et - 198 C), ce
qui lui confre un avantage indniable sur le SF
6
(qui se liqufie aux environs de - 64C la
pression atmosphrique [134]) pour une utilisation dans les pays o la temprature peut
atteindre des valeurs trs basses. Sa conductivit thermique est plus leve que celle du SF
6

(cf. proprits du SF
6
), soit pratiquement le double T 5000 K (voir Annexe A5).
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2.8.1.2Propritsdilectriques

Lazote nest pas un gaz lectrongatif comme le SF
6
(pas de processus dattachement). Son
coefficient dionisation effectif (o
-
= o - q) se rduit donc au coefficient dionisation primaire
de Townsend o (o est le coefficient dionisation par collision et q le nombre dlectrons
capturs par unit de longueur dans la direction de E.

Dans une large plage de pression (p) et de distance inter lectrode (d), le coefficient
dionisation rduit o/p est uniquement fonction du champ rduit E/p. Parmi les diffrentes
expressions de o proposes, nous en retiendrons deux.
- La premire est une variation exponentielle [38]:

o/p = A.e
-Bp/E

(1.29)

o A et B sont des constantes: A = 66 1/kPa.cm et B = 2,15 kV/kPa.cm

Cette relation est valable pour des champs rduits (E/p) compris entre 3 et 10 kV/cm.kPa [38]

- La deuxime est une relation linaire [39] :

o/p = 0,015 E/p 0,550 (1.30)

Cette relation est valable pour des valeurs de champs rduits infrieures 300 kV/cm.bar. Le
coefficient o est ngligeable jusqu une valeur limite (E/p = 27 kV/cm.bar) qui constitue le
champ critique dans lazote.
Pour des pressions infrieures 15 bars, o ne dpend plus de la densit du gaz. Pour des
champs E/p suprieurs 3 kV/cm.bar ; il augmente trs faiblement avec la temprature.
2.8.1.2.1Dchargesdanslazote

Lors de la dcharge dans lazote, le processus dauto dtachement est trs peu actif du
fait du caractre non lectrongatif de lazote, ce qui fait que les ions ngatifs sont peu
frquents dans ce milieu. Ces particularits font que linitiation et le dveloppement de la
dcharge dans lazote diffrent de ceux dans le SF
6
[32,39].
La relation gnrale du premier coefficient, donnant la tension damorage dans un intervalle
de gaz pour un champ uniforme et une pression leve est [40] :

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V= B.(p.d) / ln (p.d)+ k. (1.31)

avec k = ln (A/ln (1+1/)) et A, B dcrits en (1.29)

La dtermination du deuxime coefficient de Townsend tant complexe, la rfrence [40]
propose des valeurs de k pour un certain nombre de gaz y compris lair, SF
6
et N
2
. La valeur
maximale du produit (p.d) pour lazote est de 140 bar.cm et pour une plage de (p.d) comprise
entre 10 et 140 bar.cm, la valeur de k peut tre considre comme constante et vaut 3,9. La
photo ionisation est le processus prdominant lors de la dcharge dans un intervalle dazote,
mme en base pression [41,42]. Cette prdominance se traduit par une activit lumineuse
intense au cours de la dcharge. Pour des valeurs leves du champ rduit (> 450 kV/cm.bar),
le streamer se dirige vers la cathode [42] et sa vitesse de propagation croit exponentiellement
avec le champ rduit.
2.8.1.2.2Facteursinfluenantlatenuedilectriquedelazote

A linstar du SF
6
, le comportement de lazote est assujetti aux facteurs qui modifient le
champ ou les phnomnes photoniques dans lintervalle. Toutefois, la croissance du
coefficient dionisation primaire en fonction du champ est relativement plus rapide dans le
SF
6
que dans lazote. Les effets des facteurs agissant sur le champ sont comparativement
moins prononcs pour lazote que pour lhexafluorure de soufre. Cest entre autres le cas des
particules mtalliques, fixes ou mobiles. Limpact des impurets gazeuses dpend de leur
comportement vis vis des phnomnes photoniques ; la tenue dilectrique de lintervalle
sera rduite par les molcules des impurets si leurs nergies dionisation et/ou dmission de
photons sont infrieures celles de la molcule de N
2
(neutre ou excit).

2.9Dioxydedecarbonegazeux(CO
2
)
Le dioxyde de carbone est le rsultat de la combinaison du carbone et de l'oxygne. Il est

produit par diffrents processus: la combustion du charbon et des hydrocarbures, la
fermentation des liquides et la respiration des hommes et des animaux. Il existe dans
latmosphre en faible proportion (0,03 %). Le CO
2
gazeux a une odeur lgrement irritante,
il est incolore et plus lourd que l'air. Il gle environ - 78,5 C.
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2.9.1Propritsphysicochimiques

Le dioxyde de carbone a un poids molculaire de lordre de 44,01 g/mol et une
temprature de liqufaction de lordre de -78,5C. Dautres proprits susceptibles
dinfluencer son comportement seront donnes plus en dtail dans le chapitre 2.
2.9.2Propritsdilectriques

Dans le CO
2
(lgrement lectrongatif), les phnomnes de dcharge sont quasiment
similaires ceux dcrits dans les paragraphes prcdents. Sa tenue dilectrique est trs proche
de celle de lazote mais inferieure celle du SF
6
, dans les mmes conditions exprimentales
quelles que soient la forme et la polarit de la tension.

2.10Gazetmlangescologiques
Compte tenu des enjeux cologiques et de certaines contraintes lies lutilisation du

SF
6
(gaz effet de serre), nous avons tudi un certain nombre de gaz et mlanges, dans le but
de trouver un substitut ce dernier, en se basant sur des critres respectant lenvironnent
dune part et les exigences dilectriques et sanitaires dautre part. Ces critres peuvent tre
classs en deux groupes savoir les critres primaires de slection (indpendants des
proprits dilectriques) et les critres dilectriques (par comparaison au SF
6
).

Critresprimairesdeslection
Il sagit entre autres :
- Non toxicit : les gaz doivent tre non toxiques pour le personnel dentretien et
technique ainsi que pour les quipements avec lesquels ils interagissent. Il existe deux
catgories de toxicit : la toxicit aigue et la toxicit long terme.
1 - La toxicit aigue est donne par la proportion dangereuse en partie par million
(ppm) qui peut causer la mort dun animal exprimental durant un temps donn (1 mn, 15 mn,
30 mn, 1h, 2h, 4h et plus). Les plus importantes grandeurs sont la valeur de concentration
ltale (exp. LC50 si 50% des animaux exposs au gaz meurent) et la plus petite concentration
ltale (LClo) qui est la concentration minimale pouvant provoquer la mort. Ces critres sont
trs importants car les gaz isolants peuvent se retrouver dans latmosphre occasionnellement
ou accidentellement durant leur production ou sur site lors de fuites. Pour cela, tout gaz ayant
une toxicit suprieure au CO
2
doit tre exclue ;
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2 - La toxicit long terme (TWA ou TLV ou MAK-Value) donne la concentration
limite laquelle un tre humain peut tre expos 8h par jour ou 40h par semaine. Le gaz ne
doit pas avoir une toxicit suprieure celle de loxyde dazote.
- Temprature de liqufaction : frontire entre la phase gazeuse et liquide, elle doit
tre infrieure la temprature minimale (T
min
) de fonctionnement de lquipement la
pression de fonctionnement choisie p (minimum en dessous de zro degr Celsius 0,1 MPa).
La temprature de liqufaction (T
liq
) dpend de la pression du gaz utilis ; elle peut tre
dduite de la temprature dbullition (T
eb
) la pression atmosphrique par une expression
approximative [43] de la forme :
T
liq
(p) = T
eb
+ 27 ln(p) (1.32)
o T
liq
et T
eb
sont en degr Celsius et p en bar. Cette relation peut tre drive de lquation de
Clausius-Clapeyron [43] pour la courbe de pression de vapeur et laisse apparatre le critre de
non liqufaction sous forme de limite suprieure au point dbullition (T
eb
) :
T
eb
< T
min
- 27 ln p [bar] < - 20 C ( supposant p > 1,2 et T
min
< -20 C) (1.33)
- Stabilit chimique : elle peut tre exprime sous forme de deux critres. Le premier
critre concerne la temprature de dcomposition T
dec
du gaz qui doit tre suprieure la
temprature maximale qui pourrait se produire dans lquipement sous test (en gnral autour
de 200 C aux points chauds, T
dec
> 200C). Pour le second critre, le gaz ne doit pas prendre
feu (non inflammabilit) dans une raction de dcomposition provoque par une dcharge
partielle produisant des tincelles qui peuvent avoir des tempratures suprieures 10000 K.
Un moyen sr est de faire en sorte que le gaz choisi soit un compos exothermique (cest
dire qui a son enthalpie infrieure zro).
- Inerte : le gaz ne doit pas oxyder ou ragir avec les pices de lquipement pour
viter leur dgradation.
- Critres environnementaux : Les paramtres critiques qui ont le plus dimpact sur
lenvironnement sont le potentiel de dgradation de l'ozone (PDO) et le potentiel
dchauffement global (PEG). Ce dernier caractrise l'accumulation long terme d'un gaz
dans l'atmosphre. Le PEG du gaz doit, de prfrence, tre infrieur de 100 fois celui du
SF
6
. Tous les gaz contenant du chlore ou du brome sont proscrire car susceptibles de
dtriorer la couche dozone [44].

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Critresdilectriques

Le critre principal d'isolation est le champ critique E
cr
(rigidit dilectrique intrinsque)
qui mesure la capacit d'isolation dun dilectrique. Il sera exprim par rapport la valeur du
SF
6
(rfrence). Le second critre est la non formation de produits de dcomposition, au
cours de la dcharge, dont le dpt sur les isolants solides de la structure (par exemple : buse
dans un disjoncteur HT) pourrait crer des surfaces conductrices et favoriser lamorage
dtincelles.
- Critres de commutation : Ces critres englobent entre autres les proprits suivantes :
- Bonnes proprits de coupure darc et disolation (stabilit la formation darc, faible
constante de temps darc..) ;
- Electrongativit pour permettre la capture dlectrons libres et prvenir le phnomne
davalanche lorigine de lamorage de la dcharge ;
- Grosse section efficace, stabilit chimique et thermique avec dissociation des
molcules rversible (recombinaison) si possible pour une grande efficacit de coupure ;
- Grande nergie de dissociation pour un refroidissement optimal de larc.
- La raction des produits d'rosion d'arc (souvent invitable) dus aux matriaux
proches de larc ne doit pas former de dpts conducteurs tels que les couches de carbone, de
mtal ou de semi-conducteur qui induiraient des conductivits parasites pouvant mener la
formation dtincelles.
Apres avoir pass en revu les critres ci-dessus dcrits, nous allons prsenter quelques
gaz ou mlanges lectrongatifs intressants reprs dans la littrature et qui sont plus ou
moins susceptibles de rpondre ces critres.
2.10.1GazCF
3
I(trifluoroiodomethane)

Except lair, le CO
2
et le N
2
comme possibles alternatives au SF
6
, les regards se sont
tourns vers le trifluoroiodomethane (CF
3
I). La rigidit dilectrique de ce dernier est 1,2 fois
suprieure celle du SF
6
[45,46] mais son inconvnient est sa temprature de liqufaction qui
est assez leve [47,48]. Le CF
3
I est un gaz incolore et ininflammable. Il a un faible impact
environnemental (potentiel dchauffement (PEG) infrieur 5) et un PDO de 10
-4
. Ses
principales proprits ainsi que celles du SF
6
sont donnes dans le tableau 1.4 [49,50].

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Tableau 1.4 Proprits du CF
3
I et du SF
6
[49,50]

Dans les disjoncteurs conventionnels gaz, la pression de consignation du SF
6
est de
lordre de 0,5 0,6 MPa. Si le CF
3
I est utilis de telles pressions, une rigidit dilectrique
presque quivalente celle des disjoncteurs conventionnels isols au SF
6
pourra tre obtenue.
Cependant, il est impossible de lutiliser des pressions de cet ordre cause de sa temprature
de liqufaction assez leve. Il existe plusieurs techniques permettant de prvenir voire
empcher la liqufaction rapide de ce gaz. Lune de ces techniques consiste diminuer la
pression partielle en le mlangeant dautres gaz comme lazote et le dioxyde de carbone
[50]. Les caractristiques dextinction mesures lors des tests sur un modle de chambre de
coupure contenant une buse en Tflon montrent que les constantes de temps de coupure de
larc pour le CO
2
et le SF
6
sont respectivement de 0,72 s et 0,58 s [50]. Celle du CF
3
I est
de 0,6 s [51]. La constante de temps darc du CF
3
I est proche de celle du SF
6
. Par ailleurs, le
coefficient de perte dilectrique (facteur de dissipation tangente delta) est rduit de moiti par
rapport celui du SF
6
.
A 0,2 MPa (abs), la limite dinterruption de courant du CF
3
I est localise lgrement en
dessous de celle du SF
6
. Cependant, la performance dinterruption du CF
3
I est environ 0,9 fois
celle du SF
6
dans la mme gamme dimpdance. Ces rsultats montrent que le CF
3
I a une
bonne performance dinterruption.
Quant aux performances de coupure des mlanges base de CF
3
I 0,2 MPa (abs), le
mlange CF
3
I - N
2
prsente une caractristique linaire au fur et mesure que la concentration
(pourcentage) du CF
3
I dans le mlange augmente. Pour le mlange 20% CF
3
I - 80% CO
2
, la
performance dinterruption est approximativement de 95 % compare celle du CF
3
I pur sur
une ligne de 300O.
La rigidit dilectrique du mlange 20% CF
3
I - 80% N
2
est de 64% celle du SF
6
[50].
Lorsque le pourcentage du mlange CF
3
I - CO
2
est de 60 % - 40%, la rigidit dilectrique est
identique celle du SF
6
pur. Mais, il est impossible de lutiliser dans les GCB, GIS (Gas
Gaz CF
3
I SF
6

Masse molculaire 195,91 146,05
Caractristiques Incolore et ininflammable Incolore et ininflammable
PEG < 5 23900
PDO 0,0001 0
Dure de vie dans
latmosphre (anne)
0,005 3200
Temprature de liqufaction - 22,5 C - 63,9 C
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Insulating Swichgear) et AIS (Air Insulating Switchgear) cette pression cause de la
temprature de liqufaction du mlange 60 % CF
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I 40 % N
2
qui est de 7 C 0,5 MPa.
Lorsque les GIS et AIS sont utiliss pour un fonctionnement en salle, le point de
liqufaction devrait tre de - 5 C. La temprature de liqufaction de - 5 C pour CF
3
I est
obtenue pour une pression de 0,2 MPa. La performance dilectrique du mlange 40 % CF
3
I
60 % CO
2
tant approximativement de 84 %, il est possible daugmenter cette tenue en
utilisant dautres mlanges de gaz ou en amliorant la taille de la structure.
La constante de temps darc du CF
3
I en comparaison dautres gaz se prsentent selon
lordre hirarchique suivant : SF
6
< CF
3
I < CO
2
< H
2
< Air < N
2
. Celui du coefficient de perte
dilectrique est : H
2
> SF
6
> CO
2
> Air > N
2
> CF
3
I.
2.10.2GazcC
4
F
8
(octafluorocyclobutane)

Parmi tous les gaz lectrongatifs ayant une rigidit dilectrique leve,
loctafluorocyclobutane

na pas seulement un PEG de 36 % plus faible que celui du SF
6
, mais
il est galement non toxique et parfaitement inoffensif vis--vis de la couche dozone [52].
Dune manire gnrale, le dimensionnement dilectrique des systmes lectriques isols aux
gaz tant bas sur la tenue dilectrique aux tensions de choc de foudre, nous intresserons aux
caractristiques de claquage du c-C
4
F
8
et ses mlanges sous choc de foudre en configuration
tige (semi sphrique)-plan.
En polarit positive, la tension de claquage dans le mlange c-C
4
F
8
- N
2
(d = 20 mm)
augmente avec la pression de gaz et sature lorsque la pression continue daugmenter.
Cependant, lorsque la pression arrive 0,4 MPa, la tension de claquage du mlange 1 % c-
C
4
F
8
99 % N
2
crot rapidement alors que celle du mlange 30 % c-C
4
F
8
70 % N
2
dcrot
lentement. Par ailleurs, la tension naugmente pratiquement pas avec le pourcentage du c-C
4
F
8
dans le mlange pour des valeurs infrieures 20 % mais croit rapidement partir de 20
jusqu 30 %.
En ngatif, la tension de claquage du mlange augmente presque linairement avec la
pression dans lintervalle 0,1 - 0,4 MPa et sature lorsque la pression continue daugmenter
sauf pour le mlange 1 % c-C
4
F
8
- 99 % N
2.
Dans le c-C
4
F
8
pur, la tension U
50
augmente linairement avec la distance inter lectrodes d
en polarit ngative ; cette croissance est relativement lente pour limpulsion positive.

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Des tudes menes par dautres auteurs [53] montrent que le c-C
4
F
8
na pas que des
avantages (rigidit 1,25 1,31 fois plus leve que celle du SF
6
). Son prix est assez lev et sa
haute temprature de liqufaction rend son utilisation, sous forme pure, trs difficile voire
impossible. Il reste cependant lun des composants gazeux les plus prometteurs pour des
mlanges destins lisolation gazeuse [54,55]. Lanalyse des avantages et inconvnients a
conduit ces auteurs la conclusion que laddition du CO
2
au c-C
4
F
8
permet damliorer ses
performances.
2.10.3MlangesbasedeC
3
F
8
etdeC
2
F
6

Ces gaz ont t slectionns en tenant compte des critres dcrits plus haut notamment
le facteur environnemental. Dans cette partie, nous exposons quatre types de mlanges de gaz.
Il sagit des mlanges C
3
F
8
-N
2
/CO
2
et C
2
F
6
- N
2
/CO
2
. Par comparaison au SF
6
(23900), les
PEG du C
2
F
6
et du C
3
F
8
sont, respectivement de 9200 et 7000 [56], beaucoup plus bas que
celui du SF
6
mme tous deux runis. Les caractristiques dilectriques ont t releves dans
un champ quasi uniforme sous tension alternative 60 Hz sous une pression de 0,5 MPa. Le
systme dlectrodes est tige (hmisphrique) - plan.
2.10.3.1MlangeC
3
F
8
N
2

La figure 1.13 reprsente la tension de claquage en fonction du rapport de mlange en
comparaison avec celle du SF
6
- N
2
. Elle montre galement les valeurs obtenues par calcul
laide de lquation de Boltzmann.
La tension de claquage du C
3
F
8
seul est comparable celle du SF
6
. Ainsi pour des rapports de
mlange : k = 0% (100%N
2
) et k = 100% (100%SF
6
ou 100%C
3
F
8
), le C
3
F
8
est presque
identique au SF
6
, tandis qu dautres rapports de mlanges, il est moins bon que le SF
6
- N
2

en terme de synergisme.
Pour obtenir 20%C
3
F
8
- 80%N
2
quivalent 20%SF
6
- 80%N
2
en termes de rigidit
dilectrique, une pression de 1,25 fois plus grande est ncessaire, et le PEG de 0,37 fois celui
du 20%SF
6
- 80%N
2
. Sous la mme pression, une proportion de 50%C
3
F
8
- 50%N
2
est
ncessaire pour un PEG de 0,73 fois celui du 20%SF
6
- 80%N
2
. Lorsquon souhaite obtenir du
20%C
3
F
8
- 80%N
2
comparable au 100%SF
6
, toujours en terme de rigidit dilectrique, la
pression doit tre augmente de 1,59 fois pour un PEG de 0,009 fois. Cest un mlange qui
permet dobtenir un PEG faible. Il constitue un bon candidat pour remplacer le SF
6
dans des
plages de pression raisonnables.
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Figure 1.13 Tensions de claquage du Figure 1.14 Tensions de claquage du
mlange C3F8-N2 [56] mlange C3F8-CO2 [56]

2.10.3.2MlangeC
3
F
8
CO
2

La figure 1.14 ci-dessus montre la tension de claquage du C
3
F
8
- CO
2
en fonction du
rapport de mlange. La tension de claquage du CO
2
seul est peu prs de 84 % de celle du
N
2
. Pour obtenir un mlange 20%C
3
F
8
- 80%CO
2
comparable 20%SF
6
- 80%N
2
en termes
de rigidit dilectrique, une pression de 1,35 fois plus grande est ncessaire pour un potentiel
dchauffement de 0,40 fois celui du SF
6
- N
2
. Sous la mme pression, une proportion de
mlange 60%C
3
F
8
- 40%CO
2
est ncessaire avec un potentiel dchauffement de 0,87 fois.
Enfin, pour obtenir un mlange 20%C
3
F
8
- 80%CO
2
comparable au SF
6
pur, une pression de
1,69 fois plus grande est ncessaire, ce qui abaisse le PEG de 0,10 fois.
2.10.3.3MlangeC
2
F
6
N
2
La tension de claquage de ce mlange en fonction du rapport de mlange est reprsente

sur la figure 1.15. Le C
2
F
6
seul a une tension de claquage de 76% celle du SF
6
. Pour obtenir
20%C
2
F
6
- 80%N
2
comparable 20%SF
6
- 80%N
2
en terme de rigidit dilectrique, la
pression doit tre 1,35 fois plus grande pour un PEG de 0,52 fois celui du SF
6
- N
2
.
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Pour obtenir le mme mlange de gaz quivalent au SF
6
pur, la pression doit tre 1,69 fois
plus grande, pour un PEG de 0,13 fois celui du SF
6
- N
2
. Tout ceci montre que le C
2
F
6
- N
2
est
meilleur que le SF
6
du point de vue PEG, mais semble lgrement moins raliste que le C
3
F
8
-
N
2
en termes de pression de gaz.
Figure 1.15 Tensions de claquage du Figure 1.16 Tensions de claquage du
C
2
F
6
- N
2
en fonction du rapport k [56] C
2
F
6
- CO
2
en fonction du rapport k [56]
2.10.3.4MlangeC
2
F
6
CO
2

La figure 1.16 illustre la tension de claquage du mlange en fonction du rapport de
mlange. Pour obtenir un mlange 20%C
2
F
6
- 80%CO
2
comparable 20%SF
6
- 80%N
2
en
termes de rigidit dilectrique, la pression doit tre augmente de 1,49 fois pour un PEG de
0,58 fois celui du SF
6
- N
2
. Pour obtenir les mmes proportions du mlange prcdent
comparable 100%SF
6
, la pression doit tre 1,89 fois plus grande, ce qui abaisse le PEG de
0,15 fois.
La rigidit dilectrique du C
2
F
6
- N
2
et C
3
F
8
- CO
2
augmente presque linairement
avec le rapport de mlange. La tension de claquage du C
2
F
6
est infrieure celle du C
3
F
8
et du
SF
6
. Parmi ces gaz, le mlange 20%C
3
F
8
- 80%N
2
a beaucoup retenu notre attention car il
permet non seulement de diminuer le PEG en dessous de 1/10 par comparaison celui du SF
6

- N
2
, mais aussi dobtenir de bonnes proprits dilectriques sans adjonction de SF
6
. Pour ce
mlange, la pression de gaz exige est de 0,79 MPa (valeur raliste) et le potentiel
dchauffement obtenu est de 9,3 %.

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2.10.3.5MlangeSF
6
CF
4

Dans un pass rcent, des mlanges de gaz comprenant de lhexafluorure de soufre
(SF
6
) et du ttrafluorocarbone (CF
4
) ont t mis en application avec succs dans des
disjoncteurs extrieurs conus au Manitoba (Canada). Un mlange SF
6
- CF
4
proportion
gale (50% -50%) permet dobtenir dexcellentes proprits dextinction darc et de diminuer
la temprature de liqufaction. Il existe trs peu dinformations sur la rigidit dilectrique du
mlange SF
6
- CF
4
. Les rsultats obtenus par Berg [57] pour les tensions de claquage, en
alternatif et en impulsionnel dans un champ quasi-uniforme (lectrodes sphre - sphre), ont
montr quen variant la proportion de SF
6
dans le CF
4
de 0 100 %, la tension de claquage
augmente avec le pourcentage de SF
6
. Ceci a t confirm par les tudes exprimentales
menes par Kuffel et al [58] sous tension alternative 60 Hz, continue (pour les deux polarits)
et impulsionnelles dans un champ fortement non uniforme, avec des mlanges SF
6
- CF
4
et
des pourcentages de SF
6
variant de 0 100 % sous une pression de 300 kPa (Figures 1.17 et
1.18). La figure 1.17 reprsente lvolution de la tension de claquage (alternative) du mlange
en fonction du pourcentage de SF
6
pour une distance inter - lectrode de 25 et 30 mm.

Figure 1.17 Tension de claquage Figure 1.18 Tension de claquage
en fonction du % de SF6 (25-30 mm) [57] en fonction du % de SF6 (5-30 mm) [57]

Cette figure montre que laddition, dans un premier temps, de 5 % de SF
6
dans le mlange SF
6

- CF
4
augmente la tension de claquage dune valeur denviron trois fois celle du CF
4
pur.
Cette tension continue voluer pour devenir constante autour de 30 % de SF
6
.
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A partir de 40 % de SF
6
, la rigidit dilectrique chute pour atteindre approximativement la
moiti de sa valeur crte, puis reste constante une valeur correspondant celle du SF
6
pur.
En dpit de laugmentation rapide de la tension de claquage avec laddition dune faible
proportion de SF
6
, les valeurs leves mesures restent stables sauf dans la zone de transition
(30% - 40% de SF
6
).
En ce qui concerne la figure 1.18, elle regroupe les tensions de claquage (en alternatif)
obtenues pour des distances inter-lectrodes de 5 30 mm. La grande augmentation initiale
est limite aux distances suprieures 20 mm. Pour les petites distances (< 20 mm), une
augmentation initiale est galement observe, mais le taux daccroissement est beaucoup plus
faible que celui pour les grandes distances. Sous tension impulsionnelle, pour les deux
polarits, leffet de synergie positif nest pas observ contrairement au cas des tensions
alternative et continue pour une faible proportion de SF
6
[59].

La tension de claquage du mlange SF
6
- CF
4
(teneur en SF
6
variant de 0 100 %) dans
un champ fortement non homogne augmente sous tensions continue (+) et alternative
lorsquon lui ajoute quelques pour cents de SF
6
. Cet effet est plus prononc pour les grandes
distances inter lectrodes quand la divergence du champ augmente et quand la stabilisation de
leffet corona peut se produire, conduisant des valeurs leves de claquage. Sous tension
impulsionnelle sans stabilisation de leffet corona, la tension de claquage augmente presque
linairement avec le pourcentage de SF
6
. Cependant, il est tout de mme important de noter
que lutilisation de ce mlange dans la pratique requiert une attention particulire car la
combinaison de ces deux composs pourrait augmenter le taux de dcomposition. De plus,
dans les pays ou le taux dhumidit est trs lev, il est possible que la formation de compos
HF conduise une forte corrosion. Bien que le taux de dcomposition du CF
4
soit trs peu
susceptible dtre suprieur celui du SF
6
, il pourrait mener un dpt de carbone. Quant la
formation du compos HF, due un taux dhumidit trs lev, la prsence deau dans le SF
6

ou dans les quipements isols aux mlanges SF
6
- CF
4
est viter tout prix.

Les proprits de quelques gaz, choisis sur un total de 82, sont donnes dans le tableau
1.5 [55]. Parmi ces gaz, une tude plus approfondie de certains prsentant des caractristiques
prometteuses, aussi bien sur le plan environnemental que dilectrique, semble ncessaire. Il
sagit notamment des mlanges binaires ou ternaires base de c-C
4
F
8
et base de N
2
O. Il
serait galement intressant de se pencher sur le 1,1,1,2,3,3,3-C
3
HF
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Tableau 1.5 Proprits de quelques possibles gaz alternatifs [55]

TWA : Time weighted average ; MAK : Concentration maximale sur lieu de travail (Allemagne)
TLV : Threshold Limit Value (Valeur de seuil) ; NOAEL : No observed Adverse Effect Level (Pas de
niveau deffet nuisible observ) ;
LC50 : Lethal concentration value if 50% of experimental animals died (Valeur de concentration
mortelle si 50% des cobayes meurent) ;
LClo : Lethal concentration low (Plus petite concentration mortelle).

3Lesdilectriquessolides
Les matriaux dilectriques idaux sont des matriaux qui ne sont pas conducteurs du
courant lectrique puisque ils ne contiennent pas de charges libres dans leurs structures,
moins quils soient soumis laction des facteurs ionisants externes provoquant la perte de
leurs proprits dilectriques [60]. Aussi, les charges de signes diffrents dans les atomes et
les particules des dilectriques sont lies. Lorsque ces charges sont soumises aux forces
induites par le champ lectrique, certaines de ces liaisons ne se rompent pas mais seules de
lgers dplacements lastiques apparaissent. Toutes les charges positives se dplacent vers la

N

Gaz
Rigidit
relative
au SF
6

T de
liqufaction
1 bar (C)
Toxicit
(ppm)
T de
dcompo-
sition (C)
PEG
pour
100 ans
Dure
de vie
(annes)
1 C
4
F
10
1,23-1,31 -2
Non toxique (asphyxiant)
LC50 : 800.000 (4h)
Pas disponible
5000 2600
2 c-C
4
F
8
1,25 -6
TWA : 1000
LClo : 780.000 (1 mn)
> 300 dans un
Rservoir mtal
8700 3200
3 SF
6
1 -64 TWA : 1000
200 dans un
Rservoir mtal
23900 3200
4 C
3
F
8
0,88 -36,6
NOAEL : 300.000
> 200 dans un
Rservoir mtal
7000 2600
5 C
2
F
6
0,73 -78
LC50 > 200.000 (2h)
> 900 9200 10000
6 N
2
O 0,44-0,64 -88,5
TWA : 25 ; TLV : 50 ;
MAK :100
300-575 310 120
7 CF
4
0,40 -128
> 200 6500 50000
8 N
2
0,40 -196
2272-3427 0 -
9 O
2
0,37 -183 - > 1000 0 -
10 CHF
3
0,27-0,37 -82,2
NOAEL : 300.000
LC50 : 650.000 (4h)
~ 1150 9000 280
11
CO
2

0,35

-78,5
TWA : 5000 ;
MAK :5000 ;
LClo : 100.000 (1 mn)

~ 1727

1

50-200
12 Xe 0,32 -108,1
- 0 -
13 Ar 0,20 -186
- 0 -
14 Ne 0,10 -246,1
- 0 -
15 He 0,06 -268,9
- 0 -
16
1,1,1,2,3,3,3-
C
3
HF
7

-
-16,4
LC50 > 800.000 (4h)

~ 500 2500 31
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direction conforme celle du champ, et les charges ngatives - dans la direction oppose, ce
qui cre une polarisation du dilectrique. La polarisation et la conductivit (et dans le cas
extrme des champs ionisants - galement les dcharges partielles), en un mot toute mobilit
de porteurs de charge, induisent des pertes dilectriques. Tous les phnomnes dans les
dilectriques soumis un champ lectrique dpendent de la frquence du champ, de la
temprature et de la structure du dilectrique.
Les matriaux dilectriques rels contiennent un certain volume de charges libres provenant
des impurets. Ainsi, dans les dilectriques, on peut galement observer une trs lgre
conduction, dtectable surtout basses frquences. Parmi ces matriaux, on peut citer le verre,
la cramique, le Tflon (PTFE - polyttrafluorothylne) utilis pour certaines pices des
disjoncteurs haute tension, les rsines (Epoxy) ainsi que de nombreux plastiques (polymres
et composites, etc.).
3.1Phnomnesdepolarisation

Les pertes dilectriques sont dues aux mouvements des porteurs de charges. Leffet de
ces mouvements est appel polarisation induite. On distingue plusieurs types de polarisation :
lectronique, ionique, par orientation et interfaciale (Figure I.19); celles-ci peuvent co-exister
ou apparatre sparment. La polarisation totale est la somme des diffrents types de
polarisation [61 - 63].
- La polarisation lectronique est prsente dans tous les dilectriques, sans exception.
Elle rsulte des dplacements des orbites lectroniques externes par rapport au noyau de
latome. Elle est indpendante de la frquence jusqu l'ultraviolet. La dformation de lorbite
qui laccompagne est lastique, c'est dire que le travail ncessaire son apparition nest pas
converti en chaleur mais stock dans le champ lectrique.
- La polarisation ionique (ou atomique) rsulte du dplacement des atomes lis par des
liaisons ioniques. Dans le cas des liaisons ioniques, les lectrons de valence parcourent les
orbites partages avec dautres atomes. On rencontre les liaisons ioniques dans la plupart des
dilectriques solides non-organiques avec une structure cristalline (cristaux ioniques). La
polarisation ionique ne provoque pas de pertes dnergie et disparat avec la suppression du
champ appliqu. Elle existe jusquaux frquences correspondant l'infrarouge et est propre
la plupart des matriaux cramiques.
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Type de
polarisation
E=0 E
Ionique
Par
orientation
Electronique
Interfaciale
atome
noyau
anion
cation
molcule
polaire
grain
Les dplacements des charges sont trs fortement exagrs

Figure 1.19 Illustration des diffrents types de polarisation

- La polarisation d'orientation consiste en l'orientation, sous laction du champ
lectrique, des molcules polaires, c'est dire celles qui possdent un moment dipolaire
permanent. Le caractre dipolaire est gnralement propre aux molcules des composs
chimiques ayant des liaisons ioniques, mais galement aux composs ayant des liaisons
covalentes qui ont une structure asymtrique (par exemple H
2
O).
- La polarisation interfaciale [64,65] apparat dans les dilectriques non-homognes
dont les permittivits et les conductivits des matriaux constituants 1 et 2 sont telles que:

2 1 2 1
/ / o o c c = . (1.34)
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c
1
et c
2
sont les permittivits respectives des milieux 1 et 2. o
1
et o
2
sont les conductivits
respectives des milieux 1 et 2.
Elle rsulte dune accumulation de charges la frontire des deux milieux. Elle saffaiblit
gnralement au voisinage des frquences suprieures aux frquences acoustiques.

3.2Mcanismedeclaquagedesisolantssolides

Le claquage (ou contournement) est laboutissement dune srie de processus
complexes et interactifs. A la diffrence des gaz et des liquides, le claquage des isolants
solides entrane la destruction du matriau, et par consquent, l'arrt de fonctionnement du
composant ou systme dont il fait partie. Le claquage dun matriau rsulte de phnomnes
complexes apparaissant lors de la phase de prclaquage rendant difficile l'nonc d'une thorie
unifie pour expliquer le mcanisme de claquage. Cependant, c'est selon les processus de
prclaquage, qu'on classe les mcanismes de claquage des dilectriques solides. Cette
classification diffre selon les auteurs et n'est que conventionnelle. En gnral, on distingue
trois types de mcanismes de claquage des isolants solides :

le claquage "lectrique",
le claquage "thermique",
le claquage "lectromcanique".

A ceux-ci, il faut ajouter d'autres phnomnes secondaires lis des dfauts de
jeunesse introduits lors de la fabrication, des dfauts apparaissant dans le temps
(vieillissement) dans le volume (cavits gazeuses ou impurets) ou la surface du matriau,
au mode opratoire et aux conditions exprimentales. Dans ces cas, on parle de claquage par
ionisation (dcharges partielles) et de claquage par vieillissement.
3.2.1Claquagelectrique

Des ides rcentes, on peut distinguer 2 groupes de thories de claquage lectrique: les
thories de claquage intrinsque et les thories de claquage par avalanches. Pour le 1er
groupe, c'est l'intensit du champ pour laquelle apparat une instabilit du courant
lectronique dans le dilectrique qui correspond au champ critique provoquant le claquage
intrinsque. Pour le 2me groupe, on admet comme critre de claquage l'intensit du champ
t
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-
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0
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lectrique pour laquelle le processus de multiplication d'lectrons dans le dilectrique atteint
des proportions inadmissibles ; le matriau cesse d'tre dilectrique et devient conducteur.
3.2.1.1Claquagelectriqueintrinsque

Les thories de claquage lectrique intrinsque considrent un champ lectrique
uniforme appliqu un dilectrique de dimensions infinies. L'influence des lectrodes sur le
mcanisme de claquage ainsi que l'paisseur du dilectrique ne sont pas prises en
considration. Ces hypothses conduisent dterminer le comportement de chaque lectron
pris singulirement dans un champ lectrique l'tat d'quilibre et dont la perturbation
conditionne le claquage du dilectrique. D'aprs Frhlich (1937) et von Hippel (1938)
[66,67], seuls les lectrons situs dans la bande de conduction prennent part dans le
mcanisme de claquage. Ces lectrons peuvent provenir d'absorption de rayonnement
d'nergie importante ou des perturbations du rseau cristallin ou encore tre des lectrons de
valence issus d'atomes (impurets) excits pouvant tre ioniss par l'nergie thermique.
La thorie de claquage intrinsque de Frhlich [66] est l'une des plus simples thories
de claquage. La dtermination de la tenue dilectrique

selon cette thorie consiste analyser
le comportement d'lectrons pris singulirement dans un champ lectrique intense. On admet
que la densit d'lectrons de conduction dans le dilectrique est si faible que leur mouvement
est seulement impos par le champ lectrique extrieur et l'action du rseau cristallin du
dilectrique.
3.21.2Claquagelectriqueparavalanches

Les thories de claquage par avalanche suppose que l'augmentation du courant de
conduction lectronique est continue jusqu' l'instant o le dilectrique commence
pratiquement conduire contrairement aux thories de claquage intrinsque o on considre
que l'augmentation du nombre d'lectrons de conduction dans le dilectrique, comme un
accident (vnement) brutal prenant cependant naissance dans des conditions d'quilibre.
Il existe plusieurs thories de claquage par avalanche. Ces thories sont lies la
manire d'initiation de l'avalanche lectronique et au critre de claquage considr.
L'une des premires thories de ce type ft la thorie de Zener (1934) [68] qui considre le
phnomne d'mission d'lectrons selon un tunnel, d'une bande de valence une bande de
conduction du dilectrique. Le courant de tunnel lectronique de Zener est intense et crot
avec l'intensit du champ dans le dilectrique. Comme critre d'instabilit, on considre la
t
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0
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valeur du champ pour laquelle la probabilit p d'apparition du phnomne tunnel augmente de
100 fois. Selon Zener
|
|
.
|
\
|
=
2
exp
Eqh
maW
h
Eqa
p
p
(1.35)
avec E - intensit du champ
q - charge lmentaire d'un lectron
a - constante caractristique du rseau cristallin du dilectrique
h - constante de PLANCK
m - masse de l'lectron
W
p
- largeur du domaine interdit du dilectrique (intervalle nergtique entre la bande de
valence et la bande de conduction).

Les valeurs de E
0
(rigidit dilectrique) des dilectriques cristallins calcules selon la
thorie de Zener correspondent gnralement aux donnes exprimentales. Cependant, cette
thorie ne donne pas d'explication physique du mcanisme de claquage; de mme qu'elle omet
de donner plusieurs dpendances de E en fonction de paramtres caractristiques du
dilectrique.
Une autre thorie (Stratton, 1961) [69] considre l'initiation de l'avalanche par un lectron
mis par la cathode. Cette avalanche conduit au claquage du dilectrique, si le nombre
d'lectrons sera suffisamment important, de manire ce que le dilectrique commence
conduire. Comme chaque collision ionisante nat un lectron, cette condition conduit donc
au fait, que le nombre de chocs lectroniques ionisants (nombre de gnrations) soit
suffisamment lev. En considrant certaines hypothses arbitraires, on arrive la conclusion,
qu'il faut 40 gnrations lectroniques dans l'avalanche pour remplir cette condition. C'est de
l que provient le nom de cette thorie: thorie des 40 gnrations ; ce qui correspond
environ 10
12
lectrons (soit 2
40
10
12
). Selon cette thorie :

| |
1
0 0
40 / ln( "

= d E E
n c
o (1.36)
o
E"
c
0
- rigidit dilectrique caractristique d'un dilectrique donn, dpendant de la
temprature T analogue au cas de la rigidit dilectrique d'aprs le mcanisme de claquage
intrinsque.
o
n
- facteur d'ionisation par chocs lectroniques
t
e
l
-
0
0
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2
0
0
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d - paisseur du dilectrique

D'aprs F. Forlani et N. Minnaja (1969) [70], le claquage est provoqu par la
multiplication des missions de courant de la cathode lors de l'volution de l'avalanche. En
supposant que le courant d'mission lectronique de la cathode est dtermin par l'quation de
Fowler Nordheim [71]
] ) 2 ( ) 2 ( 8 exp[
2
3
1
2
1
*
0
| t

= hqE m j j
k
(1.37)
on obtient
2
1
0 0
"

= d E E
c
(1.38)
3.2.2Claquagethermique

En prsence d'un champ lectrique, l'existence de porteurs de charge dans un matriau
isolant implique celle d'un courant de conduction pouvant conduire l'chauffement de cet
isolant par effet joule. A cette source de chaleur, il faut ajouter celle due aux phnomnes de
relaxation prsents dans le dilectrique lorsque ce dernier est soumis un champ alternatif. Ce
qui engendre des mcanismes de pertes qui contribuent leur tour l'chauffement.
Si la quantit de chaleur n'est pas vacue aussi rapidement qu'elle est produite, la
temprature de l'chantillon augmente dans le temps une vitesse plus ou moins grande, selon
que la tension applique est plus ou moins importante. Le claquage thermique a lieu alors
quand une accumulation importante de chaleur se produit et que la temprature du matriau
atteint une valeur critique T
c
, au-del de laquelle le courant crot trs rapidement, entranant sa
rupture totale. Lquilibre entre la dissipation thermique et lnergie prise au champ est dcrit
par lquation diffrentielle suivante :
) (
2
kgradT div
t
T
C E
v

c
c
= o (1.39)
avec o - conductivit lectrique
C
v
- capacit thermique
k - conductivit thermique

Il est difficile d'obtenir une solution gnrale de cette quation vu que o, C
v
et k sont
aussi fonction de la temprature. Cependant, des solutions approximatives et simplifies ont
t proposes par certains auteurs pour la dtermination de la tension de claquage. Celle
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0
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propose par Coelho [72] pour les matriaux de faible paisseur (contrairement aux autres
solutions qui supposent que le matriau est plutt d'paisseur suffisamment grande), parat la
plus proche pour le claquage de film polypropylne (paisseur = 15 m).
Nous retenons les relations:
2
1
0
|
|
.
|
\
|
=
o
e
d
V
c
(1.40)
et
2
1
0
|
.
|
\
|
=
d
e
J
c
o
(1.41)
avec
2
0
kT
V
=
V - nergie d'activation
k - constante de BOLTZMANN
T
0
- temprature ambiante en K
e charge de llectron
V
c
- tension de claquage
J
c
- densit de courant de claquage
d - paisseur de l'chantillon
- coefficient de transfert thermique
o
0
- conductivit champ faible

Le calcul, sur cette base, des rigidits dilectriques des matriaux et la comparaison aux
valeurs exprimentales, constituent gnralement le seul moyen de vrifier si le claquage est
de nature thermique. Il est vident qu'une observation directe de la variation de la temprature
du matriau dans le temps et dans l'espace et celle de son entourage immdiat, sera le meilleur
moyen de le dtecter. Ceci n'est pas facile raliser sur le plan pratique, surtout s'il s'agit de
travailler sur de petits lments. Lutilisation de camras infrarouge permet de suivre
l'volution de la temprature du matriau jusqu'au claquage.
Le claquage thermique dans les polymres est gnralement voqu, quand des essais
sont effectus haute temprature, o la conductivit devient importante. Mais dans ce cas, ce
mcanisme n'est pas toujours simple mettre en vidence, du fait des modifications physiques
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et structurales que peut introduire la temprature sur le matriau, et qui ont une influence
directe sur la rigidit dilectrique.
3.2.3Claquagelectromcanique
Le claquage lectromcanique dpend essentiellement des caractristiques mcaniques

de l'chantillon. Il rsulte de la conjugaison de contraintes mcanique et lectrique. En effet,
quand un matriau est soumis un champ lectrique, la pression lectrostatique due aux
attractions coulombiennes mutuelles des lectrodes tend rduire son paisseur par
dformation mcanique. Si cette pression est suffisante pour causer une dformation
considrable, le champ se trouve renforc et provoque le claquage du matriau. Dans ces
conditions, la pression exerce sur l'chantillon est:

2
0
2
1
|
|
.
|
\
|
=
d
V
P c (1.42)
V tant la tension applique et d
0
l'paisseur initiale de l'chantillon.
A l'quilibre, cette pression sera gale la raction lastique du matriau et on aura :

|
.
|
\
|
=
|
|
.
|
\
|
d
d
Y
d
V
0
2
0
ln
2
1
c (1.43)
d'o

2
1
0
ln
2
|
|
.
|
\
|
|
.
|
\
|
=
d
d
Y d V
c
(1.44)
Y est le module d'YOUNG (ou d'lasticit) du matriau et d son paisseur aprs compression.
Cette relation admet un maximum pour
6 , 0
2
1
exp
0
=
|
.
|
\
|
=
d
d
(1.45)
Au dessus de cette valeur, aucun tat stable ne peut exister et toute augmentation de V conduit
directement une instabilit mcanique qui entrane la rupture de l'chantillon. Dans ces
conditions, le champ critique E
c
et la rigidit apparente E
a
, seront respectivement :

2
1
|
.
|
\
|
= =
c
Y
d
V
E
c
c
(1.46)

2
1
0 0
6 , 0
|
.
|
\
|
= = =
c
Y
E
d
d
d
V
E
c
c
a
(1.47)

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Les caractristiques mcaniques d'un matriau, jouent donc un rle important sur sa rigidit.
De ce fait, pour les polymres et pour l'isolation solide d'une faon gnrale, le claquage
lectromcanique figure parmi les principaux mcanismes susceptibles de conduire au
claquage. Ceci est d'autant plus avanc, quand les essais sont effectus haute temprature,
o la rigidit mcanique du dilectrique devient plus faible.
Les premiers travaux dans ce sens, ont t effectus par Stark et Garton [73] (auxquels
revient d'ailleurs cette thorie) sur du polythylne dont les caractristiques mcaniques ont
t modifies par irradiation.
3.2.4Claquagedudautresphnomnes

Dans la pratique, le claquage dilectrique des isolants solides survient le plus souvent
des valeurs de champ lectrique infrieures celles prvues par les thories prcdentes. Ceci
est d la prsence de dfauts comme les cavits gazeuses o des dcharges partielles
peuvent prendre naissance, les inclusions conductrices et la charge despace pouvant conduire
des renforcements locaux du champ lectrique.
3.2.4.1Dchargespartielles

Il est connu depuis de nombreuses annes que les dcharges partielles affectent
gravement les isolants solides. Elles prennent naissance aux bords des lectrodes ou dans des
inclusions ou cavits gazeuses que peut renfermer le matriau ds que la tension applique
atteint la tension seuil correspondant au minimum de Paschen du gaz en prsence (air ou
autres). Leur action peut conduire des transformations chimiques radicales (scission de la
liaison molculaire sous l'effet du bombardement lectronique et ionique, chauffement local,
cration de radicaux,...) entranant la dgradation du matriau voire sa dfaillance, la suite
de l'un des processus suivants:
- Propagation travers le matriau de canaux microscopiques (arborescence)
- Echauffement cumulatif par les dcharges
- Cheminement superficiel ou contournement.
De nombreux travaux ont t effectus sur les mcanismes de claquage par dcharges court
et long terme. Dans le polythylne, on montre que la surface interne de la cavit est d'abord
rode par les dcharges. La vitesse d'rosion augmente rapidement lorsque le champ
lectrique, suprieur la valeur critique, continue crotre ; les dcharges se concentrent et
forment des creux profonds. Comme les dcharges continuent, les creux atteignent une
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profondeur critique au-del de laquelle des canaux fins partant de ces creux, se propagent
travers le matriau et causent des dfauts. Le mcanisme est tel que l'nergie libre augmente
avec la longueur du canal. Ainsi, la profondeur critique du creux est atteinte quand l'nergie
libre est suffisante pour causer la destruction rapide du matriau. Il arrive que la chaleur
libre par la dcharge soit suffisante pour carboniser le canal, donc le court-circuiter et
empcher ainsi d'autres claquages. Ce cas est plus frquent dans les isolations papier
imprgn que dans les matriaux plastiques.
D'une faon gnrale, la tension d'amorage des dcharges dans les isolants est beaucoup
moins importante que la tension ncessaire pour causer un claquage rapide ; ainsi on pourrait
s'attendre ce que la dure de vie du matriau soit mme d'tre prdite avec assez de
prcision d'aprs des mesures indiquant les taux d'rosion, ou de dtrioration chimique, au
cours d'essais de dure relativement courte.
Remarquons que pour rduire les effets des DP, voire viter leur apparitions, plusieurs
solutions peuvent tre adoptes : imprgnation, moulage et mtallisation, gaz sous pression,...
3.2.4.2Chargedespace
La charge d'espace dans le dilectrique peut tre due diffrents facteurs lors de
l'volution du claquage. L'une des causes peut tre par exemple l'apparition dans le
dilectrique, lors de l'volution de l'avalanche, de trous (charges positives) dont la densit est
importante si l'avalanche est suffisamment grande [60]. La charge d'espace peut galement
apparatre suite au pigeage d'lectrons fournis au dilectrique par la cathode. Les thories
considrant l'influence de la charge d'espace sont nombreuses et trs complexes.
Linfluence de la charge despace a t tudie pour diffrentes formes d'ondes de
tension (continue, alternative, crneaux). La mthode la plus utilise pour crer des charges
d'espace, c'est celle qui consiste appliquer une prcontrainte (continue) au matriau. Il a t
montr (COOPER) [74] que lorsque la contrainte principale est applique par la suite, la
rigidit de l'isolation diminue selon la dure, l'amplitude et la polarit de la prcontrainte.
L'effet des charges d'espace est plus visible surtout quand le matriau est soumis un champ
lectrique divergent (pointe- plan par exemple). Ceci est souvent rencontr dans l'tude
exprimentale des arborescences lectriques en gomtrie pointe-plan ou pointe-pointe, o les
charges d'espace jouent un rle important dans la gnration du mcanisme.
L'application d'un champ lectrique cre souvent des cavits ramifies appeles
"arborescences" (treeing) (Figure 1.20). On distingue deux types d'arborescences [60] :
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- Les arborescences lectriques: Elles rsultent de l'action des D.P. Toute irrgularit
dans l'attaque de la paroi isolante d'une vacuole est instable et tend se dvelopper plus vite.
- Les arborescences lectrochimiques ou "d'eau" (water treeing): On n'observe pas de
D.P., du moins au dbut. Il se forme des cavits ramifies ressemblant des houppes
nombreuses branches. Ces cavits ne sont pas toujours continues, mais souvent des chanes de
petites bulles allonges. Elles poussent dans des champs moyens (~10 kV/mm) sur des
dfauts de l'isolant ou des lectrodes. L'humidit et la prsence d'lectrolytes, favorisent leur
gnration, d'o leur nom. Contrairement aux arborescences lectriques, elles sont spcifiques
certains polymres (polythylne).

Figure 1.20 Exemples d'arborescences lectriques [60]

4Phnomnesdinterface
Ltude des phnomnes de dcharges surfaciques sur un isolateur en prsence de gaz (ou
mlange) est dune importance capitale pour la conception et le dimensionnement des
composants et systmes lectriques comme les buses de disjoncteurs (GIS, GCB, Switchgears
...), les espaceurs (ou cnes) dans les cbles isolation gazeuse, les isolateurs de support et de
traverse dans les appareils (transformateurs et condensateurs de puissance ) et les lignes de
transmission et distribution de lnergie lectrique. Les mcanismes de dcharge surfacique
sont trs complexes. Ils dpendent de plusieurs paramtres comme les proprits physiques et
gomtriques du solide, le type de gaz (ou mlange) et sa pression, la gomtrie des
lectrodes ainsi que la forme, la polarit et lamplitude de la tension applique.
Mme si lon dispose de certaines donnes exprimentales sur ce type de dcharges [75 -
80], il existe trs peu dinterprtations physiques du phnomne. Il est cependant bien connu
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qu'en prsence de ces structures isolantes, plusieurs phnomnes physiques peuvent mener
l'apparition prcoce d'une dcharge dans l'intervalle inter lectrodes. Parmi ces phnomnes,
on peut citer principalement l'interaction (effet combin) dynamique entre la dcharge
glissante et la surface du solide dilectrique [77, 80, 81], l'accumulation de charges lectriques
surfaciques [79,82], la modification des coefficients d'ionisation et d'attachement [83,84] ainsi
que le phnomne de distorsion du champ lectrique [78, 84 - 86].

4.1Influencedutauxd'ionisationeffectif
Une dcharge couronne se produisant sur une surface dilectrique en prsence dair est
plus complexe que celle dans l'air [81, 83, 84, 87]. Les processus physiques fondamentaux
impliqus dans le dveloppement des avalanches dans un gaz en prsence d'une surface
dilectrique sont en effet plus difficiles dterminer. Cette complexit pourrait en partie tre
attribue l'accentuation du phnomne de photo-ionisation provenant du bombardement de
la surface par les ions, lectrons et photons [83,84].
La propagation d'une dcharge lectrique est dpendante du taux net d'ionisations qui lui-
mme est fonction du champ maximal la tte du streamer principal. Dans le cas dun
dilectrique solide en prsence dun gaz, l'avancement du streamer sera aussi fortement li
aux quantits d'ionisation et d'attachement. Celles-ci seraient grandement affectes par la
prsence du dilectrique [83,84]. Selon l'interprtation physique propose par Gallimberti et
al [84], une surface dilectrique peut modifier les coefficients d'ionisation et d'attachement de
deux faons :

en mettant des lectrons sous l'effet du bombardement des photons, des ions positifs
et des lectrons. Cet apport supplmentaire de la surface du solide contribue fournir
davantage d'lectrons germes pour gnrer des avalanches secondaires et favoriser
davantage d'ionisations par collisions la tte du streamer.
en attachant les lectrons dans des piges surfaciques et les ions positifs par attraction
lectrostatique accentuant ainsi l'attachement lectronique dj induit par le gaz
constituant l'interface.

Un autre phnomne qui peut davantage influencer les conditions de contournement dun
solide dilectrique est l'accumulation progressive de charges sa surface. Ces charges dites
surfaciques peuvent affecter de faon notable les proprits de la dcharge notamment ses
paramtres d'initiation et de propagation [80, 83, 88].
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4.2Chargessurfaciques

Les isolants utiliss dans les systmes de puissance sont susceptibles de se charger
lectriquement comme mentionn prcdemment. Dans les conditions relles de
fonctionnement des systmes industriels, il est trs difficile voire impossible d'avoir une
approche thorique parfaite de ces charges du fait de la complexit des phnomnes qui sont
souvent mal dfinis lchelle microscopique. Pour une application bien dfinie, on peut,
dans le meilleur des cas, recourir des estimations de la charge gnre ou susceptible de
l'tre, en utilisant des techniques de mesures exprimentales (force-image) ou de simulation
pour des conditions exprimentales prcises. Dans le prsent travail, nous nous intresserons
plus particulirement au dveloppement des dcharges surfaciques en prsence dun gaz (ou
mlange) et ce jusquau contournement de lisolateur. Les mcanismes qui y sont impliqus
sont largement affects par les charges accumules la surface de lisolateur [79, 82, 89]. A
priori, ces charges surfaciques sont susceptibles de modifier la distribution spatiale du champ
lectrique entre autres le long de l'axe des lectrodes [79, 82, 83, 89, 90]. Elles peuvent
galement augmenter l'nergie interne du dilectrique en introduisant un terme d'nergie
lectrostatique et un terme lectromcanique associs la dformation du rseau atomique
[82]. En consquence, elles peuvent changer les conditions de pr-disruption et crer alors des
conditions de champ favorables l'apparition des couronnes de streamers notamment au
milieu de l'intervalle inter lectrode [88]. La dynamique de la dcharge peut galement tre
influence par lapport nergtique de ces charges surfaciques en amplifiant le taux
d'ionisation effectif pour une disruption prmature [80,88],
4.2.1Gnrationdechargessurfaciques
Considrons le schma ci-dessous reprsentant une interface gaz/solide soumis un

champ lectrique. La composante du champ incident dans le gaz vaut E
o
, et celle dans le
solide dilectrique est E
i
(figure 1.21).

Figure 1.21 Interface solide/gaz soumis un champ lectrique
E
o
, J
o
c
o
, o
o

E
i
, J
i
c
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, o
i

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En appliquant les quations de continuit et de dplacement, on peut crire :

c
o c
= o o
o = c c
t
E E
E E
s
i , n i o , n o
s i , n i o , n o
(1.48)

o E
n
,
o
et E
n
,
i
reprsentent respectivement les composantes normales des vecteurs champs E
o

et E
i
. En recombinant ces deux quations, on obtient :

o , n o o , n
i
i
o
i
i
s s
E E
t
o
o
c
c
=
o
c
o
+
c
o c
(1.49)

lquilibre, soit lorsque co
s
/ct ne varie plus, il sen suit :

(
o
o
c c = o
i
o
i o o , n s
E (1.50)

Sachant que o
o
>o
i
et c
o
< c
i
, alors : c
o
|o
o
< c
i
| o
i
, les charges surfaciques seront gnres aussi
longtemps que E
n,o
=0.

Les charges lectriques (lectrons, ions positifs et ngatifs) accumules la surface d'un
dilectrique plac le long de l'axe des lectrodes sont dites extrinsques ou intrinsques en
fonction de leur origine. Elles sont dites intrinsques lorsqu'elles sont produites initialement
l'intrieur du dilectrique [91] par dissociation [82] ou par ionisation naturelle [92]. La
dissociation peut concerner le dilectrique lui-mme (comme nous lavons vu dans le
paragraphe relatif aux isolants solides), les additifs (couche semi-conductrice, impurets) ou
encore les contaminants (vapeur d'eau, poussire, etc.). L'interaction du dilectrique avec des
rayonnements ionisants (UV, X et ) peut galement conduire une gnration de charges par
ionisation du dilectrique lui mme ou des impurets qu'il peut contenir.
On parle de charges extrinsques lorsqu'elles sont gnres par: (1) injection partir des
lectrodes [82] ; (2) le contact entre la surface libre du dilectrique et un plasma gazeux [82,
92] ; (3) des dcharges partielles [87, 89, 93] ou des missions par effet de champ partir de
la surface des lectrodes [94,95] ; (4) de micro dcharges entre les groupes de particules
prsentes la surface du dilectrique [95,96] ; ou encore (5) des dcharges partielles pouvant
se produire l'interface entre le dilectrique et les lectrodes [97,98]. La figure 1.22 [82]
illustre ces diffrentes sources de charges surfaciques (ou d'espace) et de charges volumiques
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susceptibles dtre transportes vers la surface du dilectrique pour devenir des charges
surfaciques.

Figure 1.22 Mcanismes de gnration de charges dans un dilectrique plac le long
De l'axe des lectrodes [82]

Des travaux effectus sous diffrentes conditions exprimentales [82, 88, 99, 100] laissent
cependant apparatre que l'mission par effet de champ partir des lectrodes tait la source
probable la plus significative de gnration de charges surfaciques. Ce mcanisme est illustr
par la figure 1.23 [82].

Figure 1.23 Injection de charges par effet champ partir des lectrodes [82]

Hormis les paramtres concerns par le solide dilectrique et le gaz, le champ lectrique joue
un rle fondamental. En l'absence de celui-ci, toute charge issue du mtal de llectrode voit
une barrire de potentiel dont la hauteur est telle que son passage vers le dilectrique est trs
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difficile voire improbable. La hauteur de cette barrire dpend de lpaisseur, de l'affinit
lectronique du solide dilectrique et de la nature du contact. En prsence d'un champ
lectrique, la hauteur de la barrire sera rduite d'un facteur AV selon l'expression suivante
[82,92] :
2
1
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2
|
|
.
|
\
|
= A
r
eE e
V
c tc
(1.51)

e tant la charge de l'lectron, E le champ lectrique appliqu, c
o
la permittivit du vide et c
r

la permittivit relative du dilectrique solide dont la valeur devra tre prise dans le domaine
des hautes frquences vu que les phnomnes d'injection impliquent des dplacements de
charges rapides.

La probabilit de franchissement de la barrire augmente donc considrablement avec
l'application de la tension. Comme montr par la figure 1.23, un lectron est susceptible de
franchir une barrire de potentiel selon trois mcanismes diffrents.
Dans le premier mcanisme, connu sous le nom d'effet Schottky, l'lectron (ou le trou induit
par la vacance d'lectron) passe au dessus de la barrire par activation thermique tandis que
pour le second, appel effet Fowler-Nordheim, l'lectron passe travers la barrire de
potentiel par effet tunnel. Le troisime qui est un mcanisme composite, connu sous la
terminologie d'effet tunnel assist thermiquement, consiste en une activation thermique de
l'lectron jusqu' un certain niveau d'nergie infrieur au sommet de la barrire puis en une
injection par effet tunnel [82]. Le courant d'injection Schottky est trs fortement dpendant de
la temprature et n'intervient que pour des champs suprieurs 100 kV/cm. L'effet tunnel par
contre ne peut se manifester que lorsque la longueur d'onde associe l'lectron est plus
grande que la largeur de la barrire franchir. Cela ne devient vrai que pour des valeurs de
champ de l'ordre de 10
8
10
9
V/m. Au-del de ces valeurs, le courant d'injection augmente
fortement mais diminue en dessous de ces valeurs [62, 63, 82].

Il convient tout de mme de noter quil est trs difficile de mettre en vidence, dans les
dilectriques gnralement utiliss en haute tension, les mcanismes d'injection de charges
prcdemment dcrits. Les principales raisons en sont l'paisseur des matriaux utiliss, la
qualit de ltat de surface des dilectriques solides difficilement contrlable l'chelle
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microscopique et le caractre souvent trs complexe de leur structure atomique et de leur
forme. On comprend donc que dans la plupart des cas, il ne soit pas possible de corrler le
courant mesur aux paramtres intervenants dans les modles thoriques d'injection de
charge. Ces mmes difficults sont aussi observes lorsquil sagit des mcanismes de
gnration interne. Comme nous lavons dj mentionn auparavant, le mcanisme de
gnration partir des lectrodes est le plus consquent pour produire des charges [88, 99,
100]. Cependant, dans certaines conditions relevant notamment de linhomognit du
dilectrique, de l'existence d'interfaces gaz/solide dans l'intervalle inter lectrodes et de la
nature du champ appliqu, les mcanismes de gnration interne peuvent produire un effet
positif [88,101]. Les processus d'accumulation que nous allons dcrire dans le prochain
paragraphe tiennent compte des mcanismes de gnration interne et externe.
4.2.2Accumulationdechargessurfaciques

Des connaissances actuelles, on peut distinguer trois mcanismes pouvant conduire
laccumulation de charge la surface dun isolant solide: (1) le transport via le gaz de
remplissage, (2) la conduction surfacique et (3) la conduction l'intrieur du dilectrique [88].
Le mcanisme (1) suggre que les charges produites autour d'une lectrode diffusent dans le
gaz de remplissage travers des lignes de champ pour s'accumuler vers le centre de la surface
du dilectrique [96, 102, 103]. Quant au second (2), il prconise la circulation de charges la
surface du solide par l'effet du courant de fuite [94, 104, 105], alors que le troisime (3) est
bas sur la migration vers l'extrieur de la surface du solide de charges produites l'intrieur
du dilectrique [82,91]. Plusieurs travaux ont rvl que le mcanisme (1) tait le plus
consquent [99,100]. Cependant cela ne signifie pas que les deux autres ne peuvent pas tre
trs efficaces si les conditions leur donnant naissance (caractristique du champ appliqu,
inhomognit du dilectrique) sont accentues.
4.2.3Chargessurfaciquesetchamplectrique
Aprs avoir t gnrs et transports, les porteurs de charges saccumulent la surface

de lisolant solide. Ces charges surfaciques modifient la distribution du champ lectrique
initial [79, 88, 92, 106]. La composante la plus affecte du champ, selon la disposition du
solide, est la composante normale [88]. Les charges accumules agissent sur elle en la
diminuant du ct du gaz tout en l'accentuant du ct du solide dilectrique. Cependant, cette
composante normale ne pourra pas tre inverse mme si elle peut tre largement rduite, ce
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qui signifierait que les pertes dilectriques deviennent nulles [99]. La composante tangentielle
du champ a aussi tendance changer sous leffet des charges surfaciques. Une accumulation
de charges ngatives du ct de l'anode et de charges positives du ct de la cathode, renforce
le champ tangentiel total dans les rgions des lectrodes et laffaiblit dans la zone centrale de
l'intervalle [82,88]. Cette variation est accompagne de la rduction du champ normal jusqu'
ce que le rgime stabilis soit atteint. Dans le cas extrme o le champ normal devient proche
de zro, le champ tangentiel sera constant et gal au champ moyen sur toute la surface du
dilectrique [94]. Etant donn que, durant tout le rgime transitoire, le champ varie avec le
temps avant datteindre cette condition de stabilit, le champ tangentiel sera faible au
voisinage des lectrodes et plus grand que le champ moyen dans la zone centrale de la surface
du dilectrique [88]. Ce phnomne est aussi obtenu lorsque, pour une raison ou une autre, la
variation du champ tangentiel vers le rgime de saturation est stoppe avant que la condition
de stabilit ne soit atteinte. La variation de la composante tangentielle du champ montre que,
tant qu'il n'y a pas dintensification du champ au niveau des lectrodes, le champ lectrique
total est renforc sur surface du dilectrique mi-chemin des lectrodes [82, 88, 107].
Dans le cas du rgime alternatif, l'accumulation de charges est moins svre qu'en
rgime continu car la constante de temps daccumulation est beaucoup plus grande [88]. Cela
est d la variation permanente du champ appliqu en alternatif.

4.3Distorsionduchamplectrique
Le systme le plus simple pour obtenir des dcharges surfaciques est le systme pointe
- plan [108, 109, 110]. La distribution du champ lectrique dans cet espace inter lectrode est
susceptible dtre modifie par la prsence dun matriau dilectrique. Le comportement du
champ, selon que la surface du dilectrique comporte ou non des charges lectriques, nest
pas le mme. Laccumulation de charges la surface du dilectrique peut avoir comme
consquence la distorsion du champ lectrique entre les lectrodes. Les figures 1.24 et 1.25
montrent des rsultats de simulations effectues en configuration pointe - plan pour
dterminer le champ lectrique dans lespace inter lectrode pour de petits intervalles et/ou en
prsence dun dilectrique charg ou non [111,112].

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Figure 1.24 Distribution du champ lectrique dans lespace inter lectrode en prsence dun
dilectrique non charg [112]

Figure 1.25 Distribution du champ lectrique dans lespace inter lectrode en prsence dun
dilectrique charg [112]

En outre, la gnration d'une dcharge glissante la surface dun dilectrique solide en
prsence de gaz (interface gaz/solide) dpend de la condition essentielle de l'existence d'une
composante tangentielle du champ lectrique la surface du dilectrique [88,113]. La figure
1.26 [84] donne une illustration de ce phnomne lorsqu'une surface dilectrique est place
entre deux lectrodes.
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Figure 1.26 Comparaison du champ lectrique autour de l'lectrode haute tension dans l'air
et en prsence de surface dilectrique [84]

(a) : lignes de champ dans un gap d'air
(b) : lignes de champ en prsence d'une surface de PVC (c = 4)
(c) : champ maximal sur une surface de PVC en prsence dair
(d) : champ axial dans l'air en prsence d'une surface de PVC

La distribution du champ est obtenue par simulation numrique pour un systme d'lectrodes
tige plan. On remarque que le dilectrique solide plac paralllement l'axe des lectrodes
peut dformer les lignes de champ en les dirigeant vers sa surface et en accentuant le champ
aux alentours de l'lectrode haute tension [84]. La ligne de champ maximal longe la surface
du dilectrique solide en partant du point de l'lectrode haute tension o le champ est le plus
lev. Par comparaison aux phnomnes se produisant dans lair, la dformation des lignes de
champ en prsence d'un solide dilectrique entrane un champ gomtrique largement
renforc au voisinage de l'lectrode haute tension et brusquement affaibli lorsqu'on s'loigne
de cette zone. Cette distorsion du champ est due au fait que la permittivit du solide
dilectrique est relativement leve par rapport celle de lair. En prsence de la surface
dilectrique, le volume critique, tel que dfini dans le cas de l'air, sera rduit [78,85]. En effet,
l'affaiblissement brutal du champ pour des points loigns de l'lectrode haute tension
placerait le champ critique d'ionisation une distance plus proche de l'lectrode haute tension
qu'il ne le serait dans le cas de l'air.

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Cette rduction du volume critique indiquerait, pour une tension donne, une probabilit de
gnration dlectrons plus faible. Autrement dit, la tension requise pour amorcer une
couronne de streamers en prsence d'un solide dilectrique serait plus grande que celle dans le
cas de l'air seul. Ce rsultat thorique est cependant en contradiction avec ceux rapports par
dautres chercheurs [78, 81, 84 - 86, 114]. Il est donc certain que les mcanismes conduisant
la formation d'une dcharge surfacique en prsence de gaz ne peuvent dpendre uniquement
de la distribution du champ lectrique et de son intensit. Plusieurs autres facteurs telles que
la temprature et la pression, et surtout la nature des deux phases constituant l'interface,
notamment le gaz (ou mlange), la composition et la surface du solide dilectrique, entrent en
jeu [83, 84, 88]. Ces facteurs, ajouts la distribution du champ local, auront naturellement
comme principal effet de modifier les facteurs d'ionisation et d'attachement initiaux de
l'intervalle de gaz. Dans nos recherches, les dilectriques solides que nous utiliserons sont le
verre, le PTFE et la rsine Epoxy en prsence de gaz SF
6
, N
2
et CO
2
et mlanges SF
6
-N
2
et
SF
6
-CO
2
sous diffrentes pressions. Lanalyse que nous venons d'effectuer sur les
mcanismes de gnration et d'accumulation de charges ainsi que sur le phnomne de
distorsion du champ lectrique nous permettra de mieux apprhender les processus de
gnration et de propagation des dcharges aux interfaces solide/gaz (ou mlange).

4.4 Influence dune surface dilectrique sur linitiation et la
propagationdesstreamers
Linitiation et la propagation des streamers en prsence dune surface dilectrique,

comme dans le cas de lair, seront fortement contrles par les coefficients dattachement et
dionisation [84]. Seulement ceux-ci seront grandement affects par la prsence de cette
surface.
Comme dj voqu succinctement dans le paragraphe 4.1, une surface dilectrique modifie
les coefficients dionisation et dattachement de deux faons selon la thorie propose par
Gallimberti et al [84] et mise en vidence par la figure 1.27 ci-dessous :

- elle met des lectrons par leffet du bombardement des photons. Ceci contribue
fournir davantage dlectrons dclencheurs davalanches et favoriser davantage
dionisations collisionnelles par augmentation de la quantit dlectrons prsents
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dans le processus de la dcharge. Cet effet a dailleurs t exprimentalement
dmontr sur les surfaces PTFE en prsence de SF
6
[84].

- Elle peut attacher les lectrons par des piges et les ions positifs par attraction
lectrostatique causant ainsi davantage dattachement en plus de celui dj induit
par le gaz de remplissage de lintervalle inter lectrodes.

Figure 1.27 Processus fondamentaux contribuant aux phnomnes dionisation et
dattachement dans la propagation dun streamer traves une surface dilectrique

(a) : ion positif captur par les forces lectrostatiques
(b) : lectron captur travers les piges surfaciques
(c) : extraction dun photolectron contribuant aux ionisations collisionnelles

(a) (b)
(c)
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La figure 1.28 ci-dessous prsente les coefficients dionisation et dattachement dans le cas de
lair et ceux modifis par la prsence dune surface de PVC.

Figure 1.28 Coefficients dionisation et dattachement de lair respectivement
0
et
0
(traits
en pointills) et ceux favoriss par la prsence dune surface en PVC (traits continus) [84]

Comme le suggre le mcanisme prsent par la figure 1.27, on peut sattendre ce que
linitiation et la propagation des streamers le long dune surface dilectrique soient contrles
par des coefficients dionisation et dattachement plus grands que ceux dans lair. Ceci est de
plus confort par le fait que les recombinaisons des ions positifs sur des surfaces dilectriques
peuvent contribuer extraire des lectrons de celles-ci ou du gaz environnant.

La plus faible nergie requise pour arracher un lectron dun solide est appele fonction
travail, (e). Cette nergie peut se prsenter sous diffrentes formes : thermique (phonons,
kT), photonique (), nergie potentielle des atomes et des ions (eV
*
, eV
i
), nergie cintique
(mV
2
) etc.
4.5Caractrisationoptiquedesdchargesglissantes

Les dcharges surfaciques ont t dcouvertes en 1777 [115], quand Lichtenberg
dcouvre par le fait du hasard, la formation de petites figures de poudre sur une surface
charge dlectricit (figure 1.29). Ces figures dites de Lichtenberg sont aussi appeles aussi
figures de poudre. Elles ont suscit un grand intrt chez beaucoup de physiciens, non
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seulement parce que leurs formes diverses offrent lun des plus beaux spectacles de la nature,
mais aussi parce quelles ont initi la dcouverte des dcharges lectriques et quelles sont
susceptibles de prsenter une dimension fractale.
Pederson [116] a t le premier a avoir tudi les figures dites de Lichtenberg o des
photographies ont t utilises pour ltude des surtensions dans les lignes de transmission
isoles au gaz. Merrill et Von Hippel [117] ont propos une interprtation physique de leur
mcanisme de formation, base sur les thories modernes des dcharges dans les gaz. Puis,
cette technique a t utilise par de nombreux chercheurs pour caractriser les dcharges
surfaciques (ou glissantes). Plusieurs tentatives dexplication du phnomne de ces dcharges
ont galement t proposes [118,119].

Figure 1.29 Figures originales de Lichtenberg 1777 [120]
Les techniques photographiques ont par la suite t utilises par plusieurs auteurs
pour la caractrisation des dcharges [121]. Lune de ces techniques consiste placer du
papier photographique sur un isolant immerg dans un gaz ou liquide dilectrique et de
dvelopper le contenu en utilisant des techniques photographiques ordinaires aprs avoir
soumis la structure une dcharge lectrique. La technique de figures de poudre et du papier
photographique sont des mthodes dobservation statiques puisquelles ne permettent pas
dobserver lvolution temporelle des dcharges glissantes. Nanmoins, elles restent toujours
dactualit parce quelles procurent beaucoup dinformations utiles la caractrisation des
dcharges et ont largement contribu la comprhension de phnomnes lis aux figures de
Lichtenberg.
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Avec le dveloppement des techniques de mesures notamment lamlioration de la
rsolution spatiale et temporelle des systmes optiques, ltude des dcharges surfaciques a
beaucoup progress durant ces trois dernires dcennies. La technique dombroscopie est
parmi les plus utilises [122, 123, 124]. Elle consiste clairer la cellule dessais par un
faisceau lumineux puissant, de courte dure (denviron 1Ps), pendant la propagation de la
dcharge. Les branches de celle-ci, qui ont un indice de rfraction diffrent de celui du fluide
dilectrique, vont alors dvier la lumire dans toutes les directions. Une camra vido place
en dehors du faisceau lumineux permet dobtenir une image par diffraction. Dautres
techniques plus ou moins rcentes permettent dobserver des dcharges surfaciques sur un
matriau solide en prsence de gaz sous pression. La figure 1.30 ci-dessous donne un exemple
de dcharge surfacique obtenue dans le SF
6
0,3 MPa sur un chantillon en verre de 2 mm
dpaisseur.

Figure 1.30 Figure de Lichtenberg observe sur une interface verre/SF
6
pour une impulsion
de tension de 30 kVx1s sous une pression de 0,3 MPa [125]

Le dveloppement et la propagation de la dcharge surfacique peuvent tre galement
suivis si le phnomne lui-mme met de la lumire, ce qui est le plus souvent le cas. La
luminosit du phnomne tant gnralement trs faible et sa vitesse trs grande, on emploie
un tube amplificateur de brillance coupl par fibre optique a une camra CCD qui dlivre une
image permanente ou instantane (temps dexposition: quelques nanosecondes). On utilise
galement des camras balayage de fente (streak cameras) qui permettent de suivre en
permanence le phnomne avec une trs grande vitesse de balayage (1 cm/ns).
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Lutilisation de cette technique facilite lobservation de lvolution temporelle des
dcharges glissantes et le comportement dynamique de ses branches. Cependant, son
utilisation dans le cas des dcharges glissantes sur des solides opaques, pourrait avoir des
limites rduisant ainsi considrablement le champ dinvestigation.

4.6Analysefractaledesdchargesglissantes
Les phnomnes de claquage (ou de contournement) dans les dilectriques gazeux,

solides ou liquides se manifestent le plus souvent par la propagation de dcharges constitues
de multiples canaux formant des arborescences de formes complexes et diverses. La foudre et
les dcharges surfaciques sont les exemples les plus rpandus. Leur structure gnrale montre
une grande similitude entre les diffrents types de dcharge. Cela suggre que la formation
des branches des diffrents types de dcharges serait gouverne par une loi universelle peu
sensible aux dtails physiques du phnomne. Ce type duniversalit peut largement
simplifier la classification et la description du phnomne de la dcharge.
Avec lutilisation de la gomtrie fractale la fin des annes 1970, terme invent par
Mandelbrot [126] pour dsigner la forme des figures alatoires et des figures auto similaires,
la dimension fractale est considre depuis, comme tant une des meilleures descriptions des
figures de dcharges. Les branches et les ramifications, apparemment dsordonnes, peuvent
tre caractrises et classes quantitativement par la gomtrie fractale.
En 1982, Sawada et al [127] ont introduit le modle stochastique pour dcrire les
structures ramifies des dcharges. Ils ont aussi analys les proprits fractales dune structure
alatoire en 2 dimensions obtenue par simulation en utilisant la gomtrie fractale.
Par la suite (en 1984), Niemeyer et al [125] ont utilis lapproche fractale pour
laborer un modle de maille en treillis des dcharges lectriques dans les gaz. Dans ce
modle, appel aussi NPW (Niemeyer, Pietronero et Wiesmann), la probabilit de
propagation des dcharges est explicitement lie au champ lectrique local. Weismann et
Zeller [128] ont ensuite introduit plusieurs paramtres du champ lectrique au modle NPW et
ont effectu des investigations sur le caractre stochastique des dcharges surfaciques (2
dimensions) dveloppant ainsi le modle WZ (Weismann et Zeller). Depuis, de nombreux
travaux de recherches ont concern le modle stochastique et lanalyse fractale des dcharges
obtenues par simulation [129,130].

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4.6.1ModledeSawadaetal

Sawada et al [127] ont tent de simuler le claquage dilectrique en attribuant de
manire arbitraire un facteur de priorit la tte des multiples canaux se propageant sur la
surface dun solide dilectrique. Ce facteur de priorit est dfini comme le rapport entre la
probabilit de propagation dune tte et la probabilit de gnration dune branche latrale. Ce
facteur de priorit joue un rle important dans la formation de ces structures ramifies. Le
modle de Sawada et al est adopt dans une simulation numrique en deux dimensions et la
procdure suivie est la suivante :

La valeur +1 est assigne aux sites de la dcharge et la valeur 1 est assigne au
primtre qui lentoure, c'est-a-dire aux sites qui entourent les sites de la dcharge. La
valeur 0 est assigne aux sites restants.
Lun des sites qui porte la valeur -1 est slectionn pour la dcharge en utilisant un
nombre alatoire et les sites adjacents ayant la valeur 0 sont remplacs par la valeur -1.
Le paramtre utilis dans la simulation est le facteur de priorit de la pointe R.

La dimension fractale D des structures obtenues en fonction du facteur de priorit de la
tte R est illustre par la figure 1.31.

Figure 1.31 Exemples darborescences alatoires obtenues par simulation numrique pour
diffrentes valeurs de R [127]

Elle montre les rsultats de simulation obtenue selon les rgles prcdemment dcrites. La
dimension D estime par la mthode de quadrillage, dpend du facteur de priorit R, ce qui
signifie que R joue un rle important dans le processus de formation de la structure ramifie.
Cependant, ce modle comporte un point fable. En plus de ngliger leffet du champ
(a) (b)
(c)
R =2 R =40 R =150
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lectrique local qui peut en ralit tre trs important, les structures obtenues ne ressemblent
pas aux dcharges lectriques obtenues exprimentalement et le sens physique du modle
nest pas trs bien soutenu.
4.6.2ModledeNiemeyeretal(NPW)

Le modle NPW [125] de Niemeyer et al associe une probabilit de progression des
streamers la surface du solide dilectrique en introduisant la relation :

o i et k sont les indices des points appartenant la dcharge lectrique (c'est-a-dire au
potentiel = 1) et i,et k sont les indices des points susceptibles dtre amorcs pour une
branche de la dcharge lectrique. Le dominateur reprsente tous les processus de progression
possibles partir dun point donn de la dcharge. Le paramtre tient compte de
linhomognit de certains systmes (solide, gaz, liquide, etc.). Ils considrent que la relation
entre la probabilit de progression et le champ lectrique local sont mieux dcrits par une
fonction non linaire [125].
La figure 1.32 donne une illustration des rsultats obtenus par le modle NPW pour
des dcharges radiales. Leur dimension fractale correspondante est D = 1.75 0.02.

Figure 1.32 (a) Dcharge surfacique en treillis obtenue par le modle de Niemeyer ; et (b)
arborescence gnre par simulation numrique [125]

a b
(1.52)
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Dans le cas de la simulation des dcharges deux dimensions, quand = 0, la
probabilit P ne dpend pas du champ lectrique local, ce qui signifie que la progression de la
dcharge est homogne et sa dimension fractale est D = 2 (quivalent la dimension
euclidienne). Dans ce cas, la dcharge remplit tout lespace dans lequel elle volue.
4.6.3ModledeVicenteetal

A partir du modle de Niemeyer et al [125], Vicente, Razzitte et Mola [131] en ont
dvelopp un autre. Dans ce modle, le processus de propagation de la dcharge lectrique
volue de la manire suivante : la tte de chaque branche peut amorcer les points environnants
en (i, j1) ou (i1, j) ainsi que les points se situant en diagonal, c'est-a-dire en (i1, j1). La
figure 1.33 donne une illustration des dcharges simules laide de ce modle.

Figure 1.33 Dcharges simules avec le modle de Vicente et al [131]

La mme probabilit de propagation que dans le modle de Niemeyer a t associe. Lorsque
varie de la valeur minimale la valeur maximale, la dimension fractale varie de 1 (cas
linique) 2 (plan). Cette variation de a permis de tester le comportement de la dimension
fractale dans un modle maillage carr avec des liaisons en diagonal.

Dans nos travaux de recherche, les modles que nous utiliserons auront la particularit de
calculer la dimension fractale D des dcharges radiales obtenues partir dimages relles de
dcharges issues de nos essais exprimentaux. Le principe consiste binariser les images de
dcharges afin davoir accs aux donnes numriques avant de procder la dtermination de
la dimension fractale. Cette mthode a pour avantage dobtenir une estimation plus raliste de
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D et dtre calcule partir dimages prises lors de nos essais exprimentaux. Nous dcrirons
en dtail cette mthode dans le chapitre 5.

5Conclusion

Il ressort de cette analyse bibliographique que les mcanismes impliqus dans le
dveloppement des dcharges se propageant aux interfaces gaz/solide (dcharges glissantes)
sont trs complexes. Leurs caractristiques (morphologie, longueur, courant, vitesse )
dpendent de plusieurs paramtres. Il sagit principalement des proprits physiques et
gomtriques de lisolateur (dilectrique solide), du type de gaz (ou mlange) et de sa
pression, de la forme, de lamplitude et de la polarit de la tension. Les phnomnes de
polarisation influent galement sur le comportement dilectrique de la structure isolante
puisquils contribuent par relaxation lchauffement du dilectrique solide. La distribution
du champ lectrique et la prsence de charges surfaciques jouent galement un rle important
dans les phases de propagation et de gnration.

Parmi les gaz (mlanges) dits cologiques, le c-C
4
F
8
a une rigidit suprieure celle du
SF
6
de 1,25 1,31 fois mais sa temprature de liqufaction est trs leve. La tension de
claquage du mlange c-C
4
F
8
- N
2
augmente avec la pression de gaz et sature partir dune
certaine valeur de cette pression, quelle que soit la polarit de la tension. Pour les gaz C
3
F
8
et
C
2
F
6
mlangs au CO
2
et au N
2
, cest le mlange 20%C
3
F
8
- 80%N
2
qui montre les meilleures
performances. Il permet non seulement de diminuer de 1/10 le PEG mais aussi dobtenir de
bonnes proprits dilectriques comparables celles du 20%SF
6
- 80%N
2
la pression de
0,79 MPa. Le CF
3
I a un PEG infrieur 5 et une rigidit dilectrique de 1,2 fois plus grande
que celle du SF
6
. Cependant, il est impossible de lutiliser des pressions de 5 6 bars
cause de sa temprature de liqufaction assez leve. Lune des mthodes pour abaisser sa
temprature de liqufaction est de le mlanger avec lazote. Enfin le CF
3
I et ses mlanges
semblent trs prometteurs pour remplacer le SF
6
.

Quant aux dcharges lectriques (surfaciques) aux interfaces solide/gaz, les modles
proposs permettent de dcrire les dcharges surfaciques par une approche fractale.
Cependant, les dcharges glissantes ne prsentent pas toutes un aspect radial. En consquence,
elles peuvent ou non admettre une dimension fractale.
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Chapitre2
Dispositifexprimentalet
modesopratoires
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Chapitre2Dispositifexprimentaletmodesopratoires
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1Introduction
Tout matriel lectrique est expos diffrents types de contraintes: lectriques,

mcaniques, thermiques et environnementales. Dans notre travail, nous nous intressons plus
particulirement aux contraintes lectriques. Selon lintensit du champ lectrique aux
diffrents points (ou zones) de la structure isolante considre, des dcharges partielles
peuvent prendre naissance la surface ou dans le volume de la structure (en gnral dans des
dfauts) et conduire au contournement ou au claquage respectivement. Lissue peut tre fatale
pour linstallation. Aussi et malgr les progrs normes de modlisation et les outils de
simulation dont on dispose actuellement et qui ont permis de faire des conomies
considrables en temps et en essais exprimentaux, des validations et donnes exprimentales
sont ncessaires avant la finalisation dun produit (matriel).
Dans ce chapitre, nous prsentons les dispositifs exprimentaux utiliss dans notre tude
pour lanalyse des caractristiques optiques et lectriques des dcharges se dveloppant dans
les gaz et mlanges ainsi quaux interfaces solide/gaz (mlange) considrs.
Deux groupes de dispositifs sont utiliss. Le premier est ddi la mesure de la tenue
dilectrique des gaz et mlanges pour les diffrentes formes de tension alors que le second
permet la caractrisation optique et lectrique des dcharges surfaciques :
Le systme de mesure de la tenue dilectrique comporte la source de tension
(gnrateur de choc de foudre, transformateur HT et gnratrice courant continu), la cellule
dessais contenant les systmes dlectrodes et un systme de rgulateurs permettant de
contrler ladmission et la pression des gaz.

Le systme de caractrisation optique et lectrique est constitu essentiellement dun
gnrateur de choc de foudre 200 kV 2 kJ, dune camra CCD monochrome relie par une
interface un moniteur (ordinateur de contrle), dun oscilloscope mmoire et de la cellule
dessais relie au systme de robinets.
2Sourcesdetension
Trois sources de tension sont utilises :

- Un gnrateur de chocs HAEFELY srie E (1MV - 50 kJ) permettant de gnrer des
ondes de foudre 1,2/50 s (Annexe 6) jusqu 1MV et des ondes de manuvre 250/2500 s
(Annexe 7) jusqu 850 kV ainsi quun deuxime gnrateur de choc, de moindre puissance,
HAEFELY srie S (200 kV 2 kJ).
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- Un transformateur de marque HIPOTRONICS 200 kV - 50 Hz - 60 kVA avec diviseur
de mesure associ de rfrence BER 1423/1212-A314, 0,01 F/100 pF - 200 kV.
- Une gnratrice DC SPELLMAN (200 kV - 400 W - 2 mA) de polarit positive et une
gnratrice DC SAMES (150 kV 225 W - 1,5 mA) de polarit ngative.

3Systmesdlectrodes

Les systmes dlectrodes utiliss sont les systmes pointe - plan, sphre - plan, sphre -
sphre et plan - plan. Ltat de surface et les rayons de courbure des lectrodes sont
contrls ; celles-ci sont changes ds quune dissymtrie ou dpt, susceptible de modifier le
champ inter lectrodes, est dtecte.
La configuration pointe - plan (figure 2.1) est utilise pour se placer dans les conditions
de champs non uniformes. Lexpression du champ axial (suivant laxe Z de la pointe) en
approximation hyperbolode est donne par lexpression [132] :

) / 4 ln( ) (
2
R d z R
U
E
Z
+
= (2.1)

U reprsente la tension applique aux lectrodes, d la distance inter lectrodes et R le
rayon de courbure de la pointe. Plus R est faible, plus le champ local la pointe ( 0 = z ) est
lev et sa distribution inhomogne. Cette inhomognit est caractrise par le facteur de
non uniformit | ou son inverse appel facteur dutilisation du champ et not q; ce dernier
est dfini comme tant le rapport entre le champ moyen dans lespace inter lectrodes et le
champ maximal (cest--dire le champ au niveau de llectrode acre (lectrode de plus
faible rayon de courbure)). Si E
max
est la valeur maximale du champ dans lintervalle, le
facteur dutilisation du champ (not q) est gal :

d E
U
E
d U
E
E
moy
max max max
= = = q (2.2)
et
| q 1 =

q est compris entre 0 et 1. Plus q est proche de 1, plus le champ sera uniforme. Cest ce vers
quoi essaye de tendre lindustriel. En pratique, on est toujours trs loin de la valeur maximale
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de q. A titre dexemple, dans le cas dun poste blind usuel 420 kV, le facteur dutilisation
est de lordre de 0,5. Notons que q est aussi appel facteur de forme de Schwaiger.
Lorsque le champ est suffisamment htrogne, une dcharge de type couronne apparat.
Par convention, on appelle situation champ non homogne les configurations pour
lesquelles, sous certaines conditions de pression, un effet couronne est susceptible
dapparatre. En revanche, les situations pour lesquelles le claquage apparat directement, sans
effet couronne, sont appeles configurations champ quasi homogne. Ces configurations
dpendent non seulement du facteur dutilisation du champ, mais aussi de la nature du gaz
isolant lui-mme. Dans le SF
6
, la limite entre ces deux situations correspond un facteur de
lordre de 0,4.
Lorsque le facteur dutilisation du champ est suffisamment bas, le champ lectrique au
voisinage de llectrode acre est trs grand. Lamplification de lavalanche critique peut
devenir trs importante et, contrairement au cas dun champ uniforme, une propagation de la
dcharge par un mcanisme de type streamers peut se manifester mme en labsence de
surtension. La zone dans laquelle le champ lectrique est lev (et o une trs forte
multiplication des lectrons se produit) coexiste la plupart du temps (gomtries pointe - plan,
fil - cylindre, etc.) avec une zone dans laquelle le champ lectrique est trs faible o les
diffrentes particules charges drivent lentement soit vers llectrode la plus proche, soit vers
la zone de multiplication. La nature trs diffrente des phnomnes physiques qui
apparaissent dans lune ou lautre zone conditionne en grande partie la structure des dcharges
qui sont susceptibles dapparatre.
Dans le dispositif utilis pour ltude de la tenue dilectrique des gaz (mlanges), le
rayon de courbure de la pointe est de 10,0 0,5 m. Il faut cependant garder lesprit que
cette valeur est susceptible de varier lgrement avec la succession des essais (usure de la
pointe). La pointe est remplace ds que son profil devient diffrent de celui de dpart. Sa
hauteur est de 18 mm.
Quant llectrode plane, elle a la forme dun disque plan dont les bords sont profils
selon Rogowski. Ce disque a un diamtre de 49 mm, une paisseur de 6 mm avec un pourtour
de rayon de courbure 3 mm.
Pour ce qui et de llectrode sphre, elle a la mme hauteur que llectrode pointe avec
un rayon de 5 mm.
Dans chaque configuration, les deux lectrodes en regard sont axisymtriques. La figure
2.2 illustre les diffrentes configurations dlectrodes utilises dans cette tude.
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Z (mm)
10 mm
4 mm
R= 9,46 m
-18
-13
0
10
16
r = 3 mm
11,37 mm
49,5 mm
4 mm
d
sphre - plan
sphre - sphre plan - plan pointe - plan

Figure 2.1 Systme dlectrodes pointe - plan avec une distance inter lectrode de 10 mm

Figure 2.2 Configurations dlectrodes utilises

Pour le calcul du champ dans un systme asymtrique dlectrodes sphre sphre
(figure 2.3) de mme diamtre (une des lectrodes connecte la masse) comme dans notre
tude, on introduit le facteur p :
p =
r
r d +
(2.3)
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Figure 2.3 Electrode sphre - sphre

Pour les trois distances inter lectrodes d utiliss dans notre tude savoir 5, 10 et 20 mm, p
vaut respectivement 2, 3 et 5. La valeur de p nous permet de dterminer sur un abaque le
coefficient dutilisation du champ pour chaque distance. Ainsi pour :

d = 5 mm, q = 0,65
d = 10 mm, q = 0,42
d = 20 mm, q = 0,25

- Dans un systme dlectrodes sphre - plan (figure 2.4), le calcul se fait de la mme
manire que prcdemment.

Figure 2.4 Electrode sphre - plan

Les valeurs de q tant calcules laide de graphes donnant le coefficient dutilisation du
champ en fonction des valeurs de p, les rsultats obtenus sont des valeurs approximatives.

Pour les configurations sphre - sphre et sphre - plan, la figure 2.5 [133] ci - dessous permet
de dterminer les valeurs du facteur dutilisation du champ laide de p.

d
HT
r=5mm r=5mm
d
HT
r=5mm
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Figure 2.5 Courbes donnant le facteur dutilisation pour diffrentes configurations en
fonction de p et q [133]

- Dans le cas dun systme pointe - plan (figure 2.6), le coefficient dutilisation en
approximation hyperbolode est calcul partir de la relation suivante :

( )
) 1 (
1 ln
+
=
p p
p p
q (2.4)

Figure 2.6 Electrode pointe - plan

p se calcule de la mme manire que dans les autres cas. Le tableau 2.1 rcapitule les valeurs
du coefficient dutilisation et de non uniformit du champ pour les diffrentes configurations
utilises.

HT
d
r
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sphre - sphre sphre - plan plan - plan pointe - plan
d
(mm)
p
q
|
d
(mm)
p
q
|
d
(mm)
p
q
|
d
(mm)
p
q
|
5 2 0.65 1.54 5 2 0.55 1.82 5 -
1

1
5 530 0.00723 138.31
10 3 0.42 2.38 10 3 0.37 2.70 10 - 10 1058 0.00394 253.8
20 5 0.25 4 20 5 0.22 4.55 20 - 20 2115 0.00214 467.29

Tableau 2.1 Coefficient duniformit et de non uniformit du champ pour diffrentes
configurations dlectrodes
4Gazutiliss

4.1Azote(N
2
)

Le tableau 2.2 (Encyclopdie des gaz de AIR LIQUIDE pages 1019 1051) donne les
principales proprits de lazote gazeux que nous avons utilis.

- N
2
ALPHAGAZ-1
- Emballage B 50
- Pression 15 C : 200 bars
- Charge : 9, 4 m
3

- Masse molaire (g/mole) : 28,0134
- Masse volumique 15 C et 1,013 bar abs. (Kg/m3) : 1,185
- Densit par rapport l'air : 0,97
Equivalent gaz / liquide (l gaz/l liquide) : 691

Gaz
Impurets (ppm mole) Puret
(%)
Approvisionnement
H
2
O O
2
CnHn CO H
2
N
2
Autres Type Pression
(bar)
Quantit
(m
3
)
Gamme internationale
APHAGAZ 1
Spcifications
produits
3 2 0,5
)
99,999
B 11
B 50
PC
200
200
200
2,1
9,4
85

Tableau 2.2 Proprits de lazote gazeux

Dautres proprits de lazote sont donnes en annexe (cf. A1) [134] :

4.2Dioxydedecarbone(CO
2
)

Les proprits du CO
2
sont donnes dans le tableau 2.3 (Encyclopdie des gaz de AIR
LIQUIDE pages 333 368)
- CO
2
N 45
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- Emballage B50
- Pression 15 C : 49,5 bars
- Charge : 20 m
3

- Densit par rapport l'air : 1,52

Gaz
(%)
Approvisionnement
H
2
O O
2
CnHn CO H
2
N
2
Autres Type Pression
(bar)
Quantit
(m
3
et kg)
Spcifications produits
CO
2

N 45

7 10 5 2 1 25
)
99,995
B 50

49,5

20 et 37

Tableau 2.3 Proprits du dioxyde de carbone gazeux

Des proprits supplmentaires du CO
2
sont galement numres en annexe (cf. A2) [134] :

4.3 Hexafluorure de soufre (SF
6
)

Les proprits du SF
6
sont

illustres par le tableau 2.4 (Encyclopdie des gaz de AIR
LIQUIDE pages 861 866)

- SF
6
N 30
- Emballage B 50
- Pression 15 C : 17,5 bars
- Charge 8 m
3

- Densit par rapport l'air : 5

Gaz
(%)
Approvisionnement
H
2
O O
2
N
2
CF
4
CO CO
2
Huiles Autres Type Pression
(bar)
Quantit
(m
3
et kg)
Spcifications produits
SF
6
N 30

15 500 10
) 99,9
B 50

17,5

8 et 50

O2 + N2 < 500
Acidit (HF) < 0,3
Fluorure (HF) hydrolysable < 1
Toxicit : conforme aux specs IEC standard 316A

Tableau 2.4 Proprits de lhexafluorure de soufre
Quelques proprits supplmentaires du SF

6
sont donnes en annexe (cf. A 3) [134] :
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Des mlanges de ces trois gaz (SF

6
, CO
2
et N
2
) ont t galement tudis. Pour raliser
ces mlanges, nous avons utilis des lois thermodynamiques bases sur les pressions partielles
des gaz.

5Techniquederalisationdesmlanges

Du point de vue thermodynamique, les gaz traits ne sont pas des gaz parfaits surtout
aux pressions leves. La constitution du mlange doit donc prendre en compte cette
caractristique et ne saurait se baser sur la seule considration des pressions partielles. Parmi
les mthodes de ralisation des mlanges, notre choix sest port sur celle de Dalton qui prend
en compte le coefficient de compressibilit Z des gaz rels [135].
Daprs la loi de Dalton, dans un mlange gazeux, chaque gaz se comporte comme s'il
occupait seul tout le volume. La pression totale d'un mlange gazeux est gale la somme des
pressions partielles de ses composants. Le principe de cette loi stipule quun gaz occupe
toujours tout le volume offert. Si ce volume augmente, sa pression diminue (Loi de Mariotte).
Plac dans un volume donn, chaque gaz aura une pression proportionnelle la quantit
prsente. Si l'on mlange plusieurs gaz dans un mme volume, on dit de chaque gaz qu'il est
un composant du mlange et l'on qualifie sa pression de pression partielle (P
i
) par rapport la
pression totale (P
t
) du mlange :
P
t
(mlange)

= Somme des P
i
des composants
La pression partielle dun gaz composant un mlange est proportionnelle la quantit de gaz
prsente dans le mlange. Lair, par exemple, est compos environ 80 % dazote (N
2
) et 20
% doxygne (O
2
). Lorsque lair est comprim la pression totale de 0,5 MPa, la pression
partielle du N
2
sera de 0,5*80 % soit 0,4 MPa et celle du O
2
de 0,5*20 % soit 0,1 MPa.
Le tableau 2.5 ci - dessous traite les cas de figure dun mlange SF
6
- N
2
et SF
6
- CO
2
contenant 10 % de SF
6
avec une pression totale de 0,3 et 0,4 MPa. Les coefficients de
compressibilit des gaz Z
i
, qui sont fonction de la pression (pi) et de la temprature (T), sont
tirs de lencyclopdie des gaz [134]. Pour des gaz parfaits, on aurait pi(SF
6
) = 0,03 MPa et
pi(CO
2
) = 0,27 MPa dans le cas du mlange SF
6
- CO
2
P
t
= 0,3 MPa. Le calcul donne, pour
des gaz rels (non parfaits) : pi(SF
6
) = 0,297 bar et pi(CO2) = 0,2703 MPa. Pour les
pourcentages et les pressions traits, lapplication de cette mthode montre que les gaz utiliss
(SF
6
, N
2
et CO
2
) peuvent tre considrs comme quasiment parfaits. Cependant, la prcision
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(1/1000 bar) des manomtres (capteur de pression) utiliss nous permet de respecter les
valeurs obtenues par cette mthode.

Pression totale (pt) : 3 bars
N
Itration SF
6
CO
2

1
Titret
i

Pression partielleP
i
(bars)
Coef. de comp. (1,013 bar, 15C)..Z
i

Z du mlangeZ
m
=
i i
t Z .
0,10 (10%)
0,1
*
3 = 0,3
0,982
0,90 (90%)
0,9
*
3 = 2,7
0,994
(0,982
*
0,1) + (0,994
*
0,9) =
0,9928
2
p
i
= t
i
.p
t
. (Z
i
/Z
m
)
Z
i

Z
m

0,297
0,982
2,703
0,994
0,9928
La convergence est obtenue aprs ces deux itrations avec pi invariable
Pressions partielles pour dautres titres

SF
6
- 0,05 (05%) 0,95 (95%) - N
2
0,15 0,148 2,85 2,853

0,10 (10%) 0,90 (90%) 0,3 0,297 2,7 2,703

0,15 (15%) 0,85 (85%) 0,45 0,445 2,55 2,553

0,20 (20%) 0,80 (80%) 0,6 0,593 2,4 2,403

Pression totale (pt) : 4 bars
N
Itration SF
6
N
2

1
Titret
i

Pression partielleP
i
(bars)
Coef. de comp. (1,013 bar, 15C)..Z
i

Z du mlangeZ
m
=
i i
t Z .
0,10 (10%)
0,1
*
4 = 0,4
0,982
0,90 (90%)
0,9
*
4 = 3,6
0,996
(0,982
*
0,1) + (0,996
*
0,9) =
0,995
2
p
i
= t
i
.p
t
. (Z
i
/Z
m
)
Z
i

Z
m

0,3944
0,982
3,603
0,996
0,995
La convergence est obtenue aprs ces deux itrations avec pi invariable
Pressions partielles pour dautres titres

SF
6
- 0,05 (05%) 0,95 (95%) - N
2
0,2 0,1973 3,8 3,804

0,10 (10%) 0,90 (90%) 0,4 0,3944 3,6 3,603

0,15 (15%) 0,85 (85%) 0,6 0,5922 3,4 3,403

0,20 (20%) 0,80 (80%) 0,8 0,7895 3,2 3,203

Tableau 2.5 Calculs des pressions partielles selon la mthode de Dalton pour un mlange
SF
6
- N
2
et SF
6
- CO
2
la pression totale de 3 et 4 bars
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Ladmission des gaz dans lenceinte commence par lazote ou le CO
2
selon quil sagisse
dun mlange SF
6
- N
2
ou SF
6
- CO
2
jusqu une pression P
1
denviron 0,1 MPa. Le SF
6
est
ensuite ajout jusqu une pression totale intermdiaire P
2
= P
1
+ pi(SF
6
) et enfin, lenceinte
est remplie avec de lazote jusqu la pression totale finale. La procdure dessai reste
identique celle des premiers essais. Ce remplissage final se fait dabord grand dbit afin
dacclrer la mixture des gaz, puis trs lentement. Par ailleurs, il est noter que le temps de
stabilisation observ avant les essais est un peu plus long que lors des essais avec les gaz purs.
Ladmission du gaz se faisant par le bas de la cellule, on peut supposer que la mixture est
presque immdiate. Toutefois, comme avec les gaz purs, nous avons not quune pause de
quelques minutes (4 8 mn) aprs le remplissage tait souhaitable afin dviter un claquage
prmatur lors de lapplication de la tension. Des temps homognisation du mlange de
plusieurs heures nont pas montr une influence notable.

6Mesuredelatenuedilectrique

La tenue dilectrique est mesure pour les trois formes de tension (DC, AC et
impulsionnelle) en utilisant diffrentes configurations dlectrodes et diffrents gaz et
mlanges (SF
6
, N
2
, CO
2
, SF
6
-N
2
et SF
6
-CO
2
). Les tests en tension continue et impulsionnelle
ont t effectus en polarit ngative et positive.
Sous tension alternative et continue, les essais sont excuts quasiment de la mme
manire en vidant et en remplissant au pralable la cellule avec le gaz (ou mlange) tester
la pression atmosphrique (rinage) ; le gaz est ensuite introduit dans la cellule la pression
dsire avant daugmenter progressivement la tension par paliers (le temps de maintien sur
chaque tension est denviron 1 minute) laide dun curseur la vitesse rglable de 0.5 kV/s
20% jusqu la disruption du milieu dilectrique sous test selon la norme ASTM-D-2477-
2005 (American Standards for Testing and materials).
Pour les essais en tension impulsionnelle (1,230%/5020% s), les chocs sont appliqus
au gaz sous pression par paliers (nombre de paliers 4). Le nombre de chocs sur chaque
palier est au moins de 10 jusqu obtenir la tension de rupture (claquage) selon la norme CEI-
60-1-1989 et CEI-60660-1999 (Commission Electrotechnique Internationale) ; celle-ci
(tension) est visualise laide dun cran afficheur connect la sortie du pont diviseur 1440
pF/1000kV. Un oscilloscope est galement utilis pour relever ces tensions de claquage et
vrifier la concordance des rsultats avec ceux de lcran afficheur.
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CELLULE DESSAIS
HT
Masse
Mcanisme de rglage
de la distance d
Corps de la cellule
en PMMA
d
Admission du gaz
Electrode sphre
Electrode plane
Gaz ou Mlange
Couvercle suprieur
Couvercle infrieur
A
Avant chaque srie dessais nous effectuons le vide dans la cellule au moyen dune
pompe vide dont la pression maximale est de lordre de 10 millibars et procdons au
rinage complet selon ASTM-D-2477-2005 (remplissage suivi de la vidange avec le gaz
tester) de lenceinte dessais. Les pressions dans la cellule sont imposes par pas de 0,05 MPa.
La cellule est entirement dmonte et nettoye au bout dun certain nombre de sries et les
lectrodes traites (nettoyage et affutage de la pointe si ncessaire). Durant toute ltude, un
dtecteur de gaz halogne nous permet de prvenir et/ou remdier aux ventuelles fuites. Le
contrle de la pression dadmission/vidange est assur par un systme de robinets, quip
dun manomtre, reli aux bouteilles de gaz laide de tuyaux en polyurthane. La figure 2.7
donne le schma simplifi du dispositif exprimental.

Figure 2.7.a Cellule dessais

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Figure 2.7.b Systme de rgulateurs permettant de grer la pression des gaz

Notons que chaque point de claquage obtenu sous les trois formes de tensions est la
moyenne dau moins cinq sries dessais afin de sassurer de leur reproductibilit.

7Systmedecaractrisationoptiqueetlectrique

Linstallation exprimentale ralise pour ltude est reprsente sur les figures 2.8 et 2.9.
La cellule dessais, contenant la structure isolante considre (gaz/solide) et le systme
d'lectrodes pointe - plan, est constitue d'un corps cylindrique de 90 millimtres de haut, 110
millimtres de diamtre intrieur et de deux couvercles circulaires. Le couvercle suprieur est en
matriau transparent PMMA (poly mthacrylate de mthyle ou plexiglas) permettant de
visualiser les dcharges et de soutenir l'lectrode pointe. Le couvercle infrieur, constituant
galement l'lectrode plane, est un disque plan circulaire en laiton de 250 millimtres de
diamtre et de 15 millimtres d'paisseur. L'lectrode pointe, dont le rayon de courbure est de
10 m, a t ralise dans du tungstne thori 2%.
Les chantillons solides (verre, diffrentes nuances de PTFE (Alumine de cobalt,
sulfure de molybdne, oxyde de silicium et du fluorure de calcium) et la rsine Epoxy avec
peau de moulage) insrs entre les lectrodes, en prsence des gaz et mlanges indiqus plus
B
Manomtre
Evacuation
Gaz
SF6
N2 CO2
Manomtre
numrique
Pompe
Vide
CONTROLE DE LA PRESSION DES GAZ
BOUTEILLES DE GAZ
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haut, sont des disques plans de 2, 4, et 6millimtres d'paisseur. Leurs diamtres varient de
50 100 millimtres. Un systme de rgulateurs (robinets) identique celui de la prcdente
installation (figure 2.8.b) permet de remplir la cellule d'essais et grer la pression des gaz (ou
mlanges).
Lutilisation du tungstne (point de fusion : 3460 C) pour la pointe permet deffectuer
un trs grand nombre dessais sans trop roder la tte de la pointe et davoir un champ local
de gnration de dcharges relativement constant. L'observation optique des dcharges est
base sur lintgration des images captures l'aide dune camra CCD monochrome relie
une carte dacquisition vido haute performance pilote par un logiciel MATROX Inspector
4. La camera CCD monochrome de type SONY XC-RH58 de rsolution leve SVGA
(767x580 Pixels) dont la capture dimages, contrle par ordinateur, a une vitesse de 50
images/seconde. Elle permet denregistrer 900 images avant l'arrt.

La tension est applique pendant l'enregistrement des images. Grce la camera CCD et
la carte vido (Mtore-II/multicanal) laquelle elle est relie, nous obtenons l'image de la
dcharge dans son extension maximale. Un oscilloscope mmoire (2 canaux) de haute
rsolution temporelle Type Tectronix DSA 601 A 1 GSa/s (Digitizing Signal Analyser)
permet de mesurer les courants associs aux dcharges travers une rsistance non inductive
de 50 5% connecte en srie avec la cellule. La charge lectrique est obtenue par
intgration du courant. Les gaz considrs sont le SF
6
, N
2
et CO
2
et leurs mlanges (SF
6
-CO
2

et SF
6
-N
2
). Les diffrents taux de mlange sont calculs suivant la loi des pressions partielles
de Dalton la temprature de 15 - 20 C de la mme manire que prcdemment. La source
de tension utilise est le gnrateur de choc de foudre (type Marx) 200 kV
1,230%/5020% s cit plus haut. Les essais sont galement raliss selon la norme CEI-
60-1-1989 et CEI-60660-1999.

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Figure 2.8 Schma de lensemble du dispositif exprimental

Figure 2.9 Schma dtaill de la cellule dessais avec la structure isolante

Gaz ou
Mlange
Electrode pointe
Electrode plane
Isolant solide
Dcharges glissantes
H T
(a)
(b)
Echantillon solide

a
Electrode pointe
Electrode plane
GENERATEUR
Oscilloscope
PC
R
PUPITRE
DE COMMANDE
Afficheur

Pont
diviseur
Cellule
dessais
HT
Camra
CDD
(A)
Gaz ou
Mlange
Sonde de
courant
Manomtre
analogique
Evacuation
Gaz
SF
6

Manomtre
numrique
Pompe
Vide
CONTROLE DE LA PRESSION DES GAZ
(A)
BOUTEILLES DE GAZ
b
N
2
CO
2

50
5%
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1. Couvercle transparent (plexiglas) 4. Corps cylindrique (Tflon) 7. Cylindre transparent (plexiglas)
2. Admission gaz/mlange 5. Tige en PVC 8. Electrode plane (laiton)
3. Electrode pointe 6. Echantillon solide 9. Manomtre

Avant le dbut de chaque srie, on effectue un vide complet dans la cellule (cf. ASTM-
D-2477-2005) laide dune pompe vide dont la capacit maximale est de lordre de 10
mbar. Les essais sont excuts en imposant des pressions dans la cellule par pas de 0,5 ou 1
bar. La valeur crte de limpulsion de tension est pralablement rgle une valeur dsire
(cf. CEI-60-1-1989 et CEI-60660-1999) avant dtre applique la structure isolante sous
pression de manire quasi simultane avec le dclenchement de lenregistrement de la
dcharge laide de la camra. Pour chaque palier de pression et de tension applique,
lvolution de la propagation de la dcharge ainsi que les courants associs sont mesurs
respectivement au moyen du logiciel de contrle de la carte dacquisition et de loscilloscope
mmoire. Un cran afficheur connect la sortie du pont diviseur travers le pupitre de
commande permet de visualiser la tension applique. Chaque fois que lon change
dinterface, on effectue un rinage complet (remplissage suivi de la vidange avec le gaz/solide
tester) de lenceinte dessais. La cellule est entirement dmonte et nettoye aprs chaque
srie dessais. Il en est de mme si pendant une srie dessais des traces de dcharges sont
observes la surface de lisolant ou lorsque les dcharges ont tendance suivre des
trajectoires semblables. Les lectrodes (surtout la pointe) sont galement contrles et traites
si cela savre ncessaire. La distance entre llectrode pointe et lisolant solide est denviron
1 mm (presque au contact) pour viter le phnomne du point triple et par consquent la
destruction du matriau solide. Le contrle de la pression dadmission / vidange est assur par
le systme de robinets, quip de deux manomtres (lun analogique et lautre numrique),
reli aux bouteilles de gaz, la cellule dessais et la pompe vide laide de tuyaux
rsistant des pressions leves.

8Dilectriquessolidesutiliss

Les caractristiques des solides isolants utiliss sont donnes dans le tableau 2.6. Ces
matriaux ont, pour la plupart, t choisis pour leurs bonnes proprits dilectriques. Parmi
ceux-ci, le Tflon et la rsine Epoxy sont trs utiliss pour la fabrication de certaines pices
des disjoncteurs haute tension.

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Matriauxisolants Constantedilectrique
(c
r
)
Rigiditdilectrique
(kV/mm)

Verre 57 10
PTFE(Tflon) 2,1 17
RsineEpoxy
3,43,7 1522
Gaz 1

Tableau 2. 6 Proprits dilectriques des matriaux 50Hz 100 MHz
dans les CNTP

8.1PTFE(Tflon)
Le Tflon, dcouvert par Roy J. Plunkett (1910 - 1994), est une marque dpose de
Dupont (E.I. du Pont de Nemours et compagnie), une entreprise amricaine fonde en 1802
dans le Delaware par Eleuthre Irne du Pont de Nemours. Le Tflon est le nom commercial
du PTFE (Polyttrafluorothylne). Cest un polymre fluor doux, facilement dformable,
semi - cristallin, semi - opaque et blanc. Cet aspect peut changer en fonction de la charge
introduite. Son allongement est facile et sa rsistance aux contraintes et aux radiations est
faible. Il prsente une remarquable rsistance la plupart des produits chimiques, un
coefficient de friction trs bas et reste stable temprature relativement leve (327 C). Ces
proprits inhabituelles lui confrent une grande qualit pour des applications multiples.
Dans l'industrie, il est utilis dans les roulements, les joints, l'isolation lectrique haute
tension et hautes tempratures, les revtements et garnitures non adhsives pour les cuves,
etc. Dans la vie courante, il constitue le revtement de certains ustensiles de cuisine et s'utilise
galement sous forme de ruban afin d'assurer l'tanchit de montages filets.
En lectricit et en lectronique, particulirement dans le domaine micro - onde, le
Tflon est utilis comme substrat. Il possde en effet un angle de perte trs faible et un fort
point de claquage. Malheureusement, sa rigidit mcanique nest pas trs bonne (matriau
souple). Pour compenser ce dfaut, les fabricants de substrats, noient souvent une ou deux
paisseurs de fibre de verre l'intrieur du substrat, ce qui rigidifie la plaque sans trop altrer
ses performances dilectriques. Son angle de perte trs faible fait de lui un isolant de choix
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dans les cbles HF haute performance. Sa rigidit dilectrique leve en fait un lment de
choix dans la ralisation de pices isolantes dans de nombreux domaines de l'lectricit,
comme par exemple le fil de cblage haute tension ou les buses de disjoncteurs haute tension.
La prparation du Tflon seffectue par une mthode de frittage par poudre car il ne peut pas
tre transform par fusion. Le frittage est un traitement mtallurgique permettant dassembler
des matriaux (en poudre) par chauffage et compression de manire leur confrer de bonnes
qualits de rigidit et homognit).
Dans notre tude, nous considrerons des chantillons de PTFE avec diffrents types de
charges (Alumine de cobalt, sulfure de molybdne, oxyde de silicium et du fluorure de
calcium) que nous appellerons A, B, C, D, E, F et G.

8.2RsineEpoxy
La rsine poxy (ou poxyde, ou encore thoxyde) a t dcouverte peu avant la

deuxime guerre mondiale par un dentiste suisse qui a vendu son brevet la firme bloise
Ciba. Le mot poxy est une abrviation de poxyde. L'poxyde (de la famille des matriaux
composites) est un groupement chimique, comprenant un atome doxygne reli deux
atomes de carbone en formant un pont, qui donne son nom des molcules ou monomres
poxydes puis par extension aux polymres polypoxydes. Ces derniers sont couramment
utiliss comme colle ou peinture. La rsine poxy peut contenir des charges minrales (silice,
talc, ardoise, mica, kaolin, graphite, fibres de verre, charges mtalliques, baryte et, dans
certains cas, farine de bois) allant jusqu 200% de son poids.
Elle trouve son application dans beaucoup de domaines comme lindustrie lectrique,
alimentaire et la construction grce ses bonnes proprits de solidit, dlasticit,
dadhsivit, de rsistance aux contraintes chimiques et mcaniques et leur qualit disolant
lectrique. Elle est aussi employe pour raliser des circuits imprims en lectronique. Les
rsines utilises dans les applications lectriques (cnes GIS par exemple) sont en gnral
durcies sous laction de polyanhydrides en prsence de catalyseurs spciaux qui sont
gnralement des amines tertiaires ou des aminophnols.
9Conclusion
Nous avons prsent dans ce chapitre les diffrentes installations et quipements utiliss
dans nos investigations exprimentales ainsi que les modes opratoires pour la mesure de
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tenue des gaz et mlanges, et la dtermination des paramtres d'apparition et de propagation
des dcharges linterface gaz/solide. Le systme denregistrement des phnomnes
dapparition et de propagation de la dcharge constitue un des lments essentiels des
quipements utiliss.
Il apparat que le processus d'enregistrement d'images de qualit requiert un grand soin
dans la mise en opration des quipements. Les tests dans le cas d'une interface gaz/solide
n'tant rgis jusqu'ici que par trs peu de normes (standards), nous nous baserons sur la mme
approche exprimentale utilise dans le cas des barrires dilectriques en prsence dun gaz
dune manire gnrale.
Les paramtres qui seront tudis dans le cas des gaz et mlanges sont la tension
d'apparition des streamers dans les deux polarits, la tension de claquage ainsi que le champ
appliqu correspondant. Pour la caractrisation des dcharges surfaciques (ou lectriques),
nous tudierons la morphologie des dcharges, leurs longueur finale L
f
et leur vitesse de
propagation ainsi que le courant et la charge lectrique associs en fonction du type
dinterface, c'est--dire des proprits physiques et gomtriques de lisolateur (solide
dilectrique), du type et de la pression des gaz/mlanges. Une modlisation par lments finis
utilisant loutil de calcul Flux2D/3D sera galement effectu afin dapprcier leffet de
variation de la permittivit des matriaux sur le champ et les seuils dapparition des
dcharges.
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Chapitre3
Caractrisationdilectriquedes
gazetmlangessousdiffrentes
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Chapitre3Caractrisationdilectriquedesgazetmlanges

Page103
1Introduction

Les isolants gazeux jouent un rle fondamental dans les systmes lectriques haute et
moyenne tensions. Le plus utilis de tous les temps est lair. Mais vu les niveaux de tension de
plus en plus levs et les exigences au niveau encombrement tendant rduire les dimensions
des quipements lectriques, dautres gaz et plus particulirement lhexafluorure de soufre
(SF
6
) ont fait leur apparition au niveau industriel, il y a plus dune trentaine dannes. A 0,1
MPa, la tenue dilectrique du SF
6
est pratiquement le triple de celle de lair, ce qui permet de
rduire considrablement les dimensions de lappareillage. Par consquent, la caractrisation
exprimentale de ces gaz et leur comportement selon les conditions exprimentales (densit,
gomtrie des lectrodes, tension ) et leur application sont dune importance capitale.
Dans ce chapitre, nous prsentons et analysons les rsultats exprimentaux de mesure de
tenue dilectrique des gaz et mlanges pour diffrentes configurations dlectrodes. Les gaz et
mlanges considrs sont le SF
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, N
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, CO
2
et mlanges SF
6
- N
2
et SF
6
- CO
2
. Linfluence de
divers paramtres sur le comportement de ces gaz (mlanges) sera galement aborde.

2Tenuedilectriquedesgaz

Les essais ont dabord t effectus avec lazote, le dioxyde de carbone puis avec
lhexafluorure de soufre pour viter que les ventuelles traces subsistantes de SF
6
, malgr le
rinage, ne puissent influer sur la tenue dilectrique de lazote et du CO
2
. Le type de
reprsentation choisi pour les rsultats quantitatifs obtenus est la courbe des tensions
disruptives en fonction de la pression de gaz avec la distance entre les lectrodes comme
paramtre pour chaque courbe.
2.1Tensionalternative

Dune manire gnrale, les phnomnes conduisant au claquage dans le cas dune
tension alternative sont trs complexes. Cette complexit est due linfluence, pendant
chaque alternance, des charges despace cres durant lalternance prcdente. La tension
disruptive dans ce cas sera relativement assez faible. En gnral, aux pressions intermdiaires,
la dcharge correspondant la tension disruptive la plus basse est celle mesure en polarit
positive ; dans ce cas, le claquage sous tension alternative apparait donc principalement
pendant lalternance positive.
t
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S
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Page104
Les figures 3.1 et 3.2 illustrent la tension et le champ lectrique de rupture des gaz SF
6
,
N
2
et CO
2
en fonction de la pression des gaz et de la distance inter lectrode respectivement
pour une configuration pointe - plan et sphre - sphre. Notons que le champ de rupture a t
calcul en utilisant lquation 2.2, la Figure 2.5 ainsi que le Tableau 2.1 du chapitre 2.

Figure 3.1.a Tenue en tension alternative des gaz pour une configuration pointe - plan
0
5
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0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
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V
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)
Pression (bar)
Tenue de l' azot e en alt ernat if
pointe-plan
N2 d =05 mm
N2 d =10 mm
N2 d =20 mm
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)
Pression (bar)
Tenue du CO2 en alt ernat if
point e-plan
CO2 d =05 mm
CO2 d =10 mm
CO2 d =20 mm
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0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
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k
V
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e
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)
Pression (bar)
Tenue du SF6 en alt ernat if
point e-plan
SF6 d =05 mm
SF6 d =10 mm
SF6 d =20 mm
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Figure 3.1.b Champ de rupture des gaz en alternatif pour une configuration pointe-plan

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m
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Pression (bar)
E max de l' azot e en alt ernat if
point e-plan
N2 d =05 mm
N2 d =10 mm
N2 d =20 mm
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0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
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Pression (bar)
E max du CO2 en alt ernat if
point e-plan
CO2 d =05 mm
CO2 d =10 mm
CO2 d =20 mm
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E

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m
m
)
-
V
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Pression (bar)
E max du SF6 en alt ernat if
point e-plan
SF6 d =05 mm
SF6 d =10 mm
SF6 d =20 mm
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Figure 3.2.a Tenue en tension alternative des gaz pour une configuration sphre - sphre

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)
Pression (bar)
Tenue de l' azot e en alt ernat if
sphere-sphere
N2 d =05 mm
N2 d =10 mm
N2 d =20 mm
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k
V
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c
a
c
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)
Pression (bar)
Tenue du CO2 en alternat if
sphere-sphere
CO2 d =05 mm
CO2 d =10 mm
CO2 d =20 mm
0
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0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
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)
Pression (bar)
Tenue du SF6 en alt ernat if
sphere-sphere
SF6 d =05 mm
SF6 d =10 mm
SF6 d =20 mm
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Figure 3.2.b Champ de rupture des gaz en alternatif pour une configuration sphre - sphre

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0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
E

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k
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m
m
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-
V
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Pression (bar)
E max de l' azot e en alt ernat if
sphre-sphre
N2 d =05 mm
N2 d =10 mm
N2 d =20 mm
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0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
E

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m
m
)
-
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.

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Pression (bar)
E max du CO2 en alt ernat if
sphre-sphre
CO2 d =05 mm
CO2 d =10 mm
CO2 d =20 mm
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0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
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k
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/
m
m
)
-
V
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.

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Pression (bar)
E max du SF6 en alt ernat if
sphre-sphre
SF6 d =05 mm
SF6 d =10 mm
SF6 d =20 mm
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Page108
Il ressort de ces caractristiques que la tension disruptive ainsi que le champ lectrique de
claquage correspondant du SF
6
, N
2
et CO
2
augmentent quasi linairement avec la pression et
la distance inter lectrode d pour les configurations dlectrodes pointe - plan et sphere -
sphere. Ce phnomne pourrait sexpliquer par extrapolation par la loi de Paschen sachant que
celle-ci a t tablie pour des champs uniformes sous tension continue. La tenue du SF
6
reste
la plus leve devant celle du N
2
et du CO
2
cause de ses meilleures performances disolation
notamment son caractre lectrongatif et la taille importante de sa molcule. Les tensions de
rupture du N
2
et du CO
2
sont en moyenne assez proches. Cette tendance est galement
confirme par les courbes dites de Paschen [3]. Dans dautres configurations dlectrodes
telles que sphre - plan ou plan - plan, une augmentation quasi linaire de la tension en
fonction de la pression a galement t observe. Le plus faible seuil de claquage, parmi les
systmes dlectrodes utiliss, a t obtenu avec la configuration pointe - plan (champ
fortement divergent).
Par ailleurs, en tension alternative, la dcharge couronne peut tre dcompose en une
succession de dcharges positives et ngatives, spares par des intervalles de temps pendant
lesquels la tension applique est infrieure aux tensions seuils de leffet couronne dans lune
et lautre des polarits.
Selon les valeurs respectives de la tension applique et des tensions seuils, le temps
effectif de la dcharge reprsente une fraction plus ou moins importante du temps de maintien
sous tension [136]. A la frquence de 50 Hz, on peut considrer que les dcharges
conscutives sont indpendantes cest--dire que lune nest pas perturbe par les charges
despace cres lors de la prcdente, les charges ayant eu le temps de se relaxer pendant
lintervalle de temps sparant deux dcharges successives [137]. La dure de vie des ions
(quelques centaines de secondes) produits par les dcharges streamer tant plus grande que le
temps de passage de la tension lalternance suivante (quelques millisecondes), ces ions nont
pas deffet sur la dcharge dans cette alternance.

2.2Tensioncontinue
Sous tension continue, le comportement dilectrique des gaz peut changer selon la
polarit de la tension.
Dans une configuration pointe ngative - plan, la dcharge est constitue dun courant
continu de faible amplitude sur lequel se superposent des impulsions de Trichel dont la
frquence trs leve et trs rgulire est comprise entre 2 et 50 MHz. Lorsque lon augmente
la tension, lintensit du courant continu et lamplitude des impulsions augmentent
t
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Page109
galement ; le courant correspondant aux impulsions de Trichel est de lordre de 1 mA. Dans
le cas de lhexafluorure de soufre, des rgimes de dcharge sensiblement identiques se
produisent. Toutefois, les impulsions de Trichel sont beaucoup plus irrgulires que dans lair
(cf. Chapitre 1) ; elles dpendent de la nature des lectrodes ainsi que du pourcentage de
vapeur deau lintrieur du gaz. Les tenues des gaz sont illustres par les figures 3.3 et .34.

Figure 3.3.a Tenue en tension continue (-) des gaz pour une configuration pointe plan
Tenue du N2 cont inu ( - )
point e-plan
0
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0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
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(
k
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)
N2 d =05 mm
N2 d =10 mm
N2 d =20 mm
Tenue du CO2 cont inu ( - )
point e-plan
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0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
T
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k
V
)
CO2 d =05 mm
CO2 d =10 mm
CO2 d =20 mm
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k
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)
Pression (bar)
Tenue du SF6 continu ( - )
pointe-plan
SF6 d=05 mm
SF6 d =10 mm
SF6 d =20 mm
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Figure 3.3.b Champ de rupture en continu (-) des gaz pour une configuration pointe plan

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/
m
m
)
Pression (bar)
Emax du CO2 cont inu ( - )
pointe-plan
CO2 d =05 mm
CO2 d =10 mm
CO2 d =20 mm
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3500
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0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
E

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k
V
/
m
m
)
Pression (bar)
E max du SF6 en cont inu (-)
point e-plan
SF6 d =05 mm
SF6 d =10 mm
SF6 d =20 mm
0
500
1000
1500
2000
2500
3000
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
E

(
k
V
/
m
m
)
Pression (bar)
E max de l' azot e en cont inu ( - )
point e-plan
N2 d =05 mm
N2 d =10 mm
N2 d =20 mm
t
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Figure 3.4.a Tenue en tension continue (+) des gaz pour une configuration pointe - plan

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0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
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k
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)
Pression (bar)
Tenue de l' azot e en cont inu (+)
point e-plan
N2 d =05 mm
N2 d =10 mm
N2 d =20 mm
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k
V
)
Pression (bar)
Tenue du CO2 en cont inu (+)
point e-plan
CO2 d =05 mm
CO2 d =10 mm
CO2 d =20 mm
0
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0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
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(
k
V
)
Pression (bar)
Tenue du SF6 en cont inu (+)
point e-plan
SF6 d =05 mm
SF6 d =10 mm
SF6 d =20 mm
t
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Page112

Figure 3.4.b Champ de rupture en continu (+) des gaz pour une configuration pointe - plan

En polarit ngative, les ions positifs sont transports vers la pointe (cathode) et vont, par impact,
librer des lectrons dans une zone o le champ lectrique est trs lev. Ces lectrons
secondaires accumuls prs de la pointe, peuvent tre lorigine dune nouvelle dcharge. Les
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m
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)
Pression (bar)
E max de l' azot e en cont inu (+)
pointe-plan
N2 d =05 mm
N2 d =10 mm
N2 d =20 mm
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1500
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0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
E

(
k
V
/
m
m
)
Pression (bar)
E max du CO2 en cont inu (+)
point e-plan
CO2 d =05 mm
CO2 d =10 mm
CO2 d =20 mm
0
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2000
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0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
E

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k
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/
m
m
)
Pression (bar)
E max du SF6 en cont inu (+)
point e-plan
SF6 d =05 mm
SF6 d =10 mm
SF6 d =20 mm
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Page113
ions ngatifs transports vers le plan, vont eux aussi crer des lectrons qui vont tre
immdiatement absorbs par le plan inhibant ainsi tout amorage de nouvelle dcharge.
Dans le cas dune configuration pointe (positive) plan pour les gaz lectrongatifs, les
ions ngatifs sont transports vers la pointe et crent, par impact ionique, des lectrons qui
sont immdiatement absorbs par lanode limitant ainsi la gnration de nouvelles dcharges
partielles par impact dions ngatifs sur la pointe. Les ions positifs, qui sont transports vers le
plan (cathode) peuvent crer, en bombardant llectrode, des lectrons secondaires. Comme le
champ lectrique est faible du ct de la cathode, ces lectrons auront plutt tendance
disparatre par attachement lectronique puisque lefficacit de ce processus est dautant plus
leve que le champ lectrique est faible. En somme, dans le cas de la polarit positive,
lamorage dune nouvelle dcharge partielle est peu probable partir des lectrons
secondaires crs soit par impact des ions ngatifs sur la pointe soit par impact des ions
positifs sur le plan. Une nouvelle dcharge ne peut donc dmarrer que sil existe proximit
de la pointe de nouveaux lectrons germes provenant du volume et non de la surface.
Par ailleurs, les figures 3.3 et 3.4 montrent que la tenue en polarit positive est plus
contraignante (tension de claquage plus basse) que celle en polarit ngative en configuration
pointe - plan. Le CO
2
et le N
2
prsentent toujours des valeurs de tenue assez proches et restent
inferieures celles du SF
6
quelle que soit la polarit de la tension. Lutilisation des
configurations dlectrodes autre que pointe - plan (sphre - plan, sphre - sphre, plan - plan)
a permis de constater des phnomnes similaires.

- Comparaisondestenuesenpolaritpositiveetngative
Nous avons prcdemment montr que la polarit positive, en configuration pointe -

plan, est la plus contraignante. Ce fait est galement confirm par la figure 3.5.

t
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Figure 3.5.a Comparaison des tensions de claquage en continu (+ et -), pointe - plan

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Pression (bar)
N2 en cont inu (+ et - ) d = 10 mm
point e-plan
Polarit ( - )
Polarit ( +)
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)
Pression (bar)
CO2 en cont inu (+ et - ) d = 10 mm
point e-plan
Polarit ( - )
Polarit ( +)
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k
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)
Pression (bar)
SF6 en cont inu (+ et - ) d = 10 mm
point e-plan
Polarit ( - )
Polarit ( +)
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Page115

Figure 3.5.b Comparaison des champs de rupture en continu (+ et -), pointe - plan

En dautres termes, la tenue en polarit ngative est gnralement plus leve que celle en
polarit positive, raison pour laquelle la plupart des essais de tenue en tension sont raliss en
positif. Lanalyse des courbes en fonction de la polarit que nous avons obtenues confirme
galement cette constatation.
De faon gnrale, pour les faibles distances, les phnomnes pr disruptifs dans les
milieux dilectriques gazeux soumis un champ lectrique de forte intensit, consistent en
des phases de streamers (dcharges sous forme de canaux ioniss). La propagation dun
streamer ngatif ncessite un champ appliqu plus intense que le champ ncessaire la
propagation du streamer positif. Quelle que soit la polarit considre, le dclenchement des
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Pression (bar)
N2 en cont inu (+ et -) d = 10 mm
point e-plan
Polarit (-)
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E

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k
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)
Pression (bar)
CO2 en cont inu (+ et -) d = 10 mm
point e-plan
Polarit (-)
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3500
4000
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
E

(
k
V
/
m
m
)
Pression (bar)
SF6 en cont inu (+ et -) d = 10 mm
point e-plan
Polarit (-)
Polarit (+)
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
e
r
s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page116
processus dionisation, responsables de la rupture dilectrique du gaz, est li aux mmes
conditions, c'est--dire la prsence dun lectron germe convenablement situ et capable
damorcer une avalanche lectronique de taille importante. E. POLI [138] a men une tude
permettant de comparer, dans les mmes conditions exprimentales, les paramtres lis
lapparition des premires couronnes en polarit positive et ngative. La premire observation
qui ressort de cette statistique est que le temps de retard minimum lapparition de la
premire couronne est indpendant de la polarit. En dautres termes, le niveau de tension
seuil, qui permet une avalanche lectronique de se dvelopper dans lintervalle et datteindre
une taille critique, est le mme quelle que soit la polarit. Cependant, dans le cas de la polarit
ngative, le temps de retard statistique est en moyenne plus faible et prsente une dispersion
moindre. Ce rsultat est attribu au fait que lorigine de llectron germe nest plus la mme.
Ce dernier ne semble pas provenir uniquement des ions ngatifs prsents dans le gaz comme
en polarit positive. Des tudes menes par N. L. Allen et al [139] montrent que le champ
lectrique, la surface de la cathode, ne semble pas tre suffisant pour arracher des lectrons
du mtal de la pointe. Mais, au voisinage de la pointe, la valeur leve du champ peut
produire un effet de "bombardement" des ions positifs sur la cathode qui devient alors une
source dlectrons germes. Ces ions positifs proviennent, soit de lair ambiant, soit
davalanches prliminaires. Il a t montr que la premire thorie semble la plus probable
[139]. Bien que la dcharge ngative soit plus complexe que la positive, on peut trouver des
similitudes entre elles [140].

2.3Tensionimpulsionnelle(1,2/50s)

De faon gnrale, on observe que lcart entre la tension de claquage et la tension
dapparition de leffet couronne est plus grand pour une onde dite lente (onde de manuvre -
250/2500 s) que pour une onde courte (onde de foudre - 1,2/50 s) comme nous lavons
indiqu dans le chapitre 1. Ce phnomne sexplique par leffet stabilisant de la dcharge
couronne. Cet effet est plus important quand le temps de monte de londe est lent puisque la
charge despace a davantage le temps de se former que dans le cas dune onde rapide dont la
dure est plus faible ou du mme ordre de grandeur que le temps de transit des ions.
Lapplication dune impulsion de tension peut conduire, dans certains cas, une
augmentation anormale de la tension disruptive (figures 3.6 et 3.7). Par exemple, dans un
mlange SF
6
-air, avec seulement 1 % de SF
6
dans le mlange, la tension disruptive du
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
e
r
s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page117
mlange est suprieure, partir dune certaine valeur de la pression, la tension disruptive du
SF
6
pur correspondant la mme impulsion de tension [18].

Figure 3.6.a Tenue en tension impulsionnelle (+) des gaz pour une configuration
pointe plan
0
10
20
30
40
50
60
70
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
T
e
n
s
i
o
n

(
k
V
)
Pression (bar)
Tenue de l' azot e en impulsionnel (+)
point e-plan
N2 d =05 mm
N2 d =10 mm
N2 d =20 mm
0
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
T
e
n
s
i
o
n

(
k
V
)
Pression (bar)
Tenue du CO2 en impulsionnel (+)
point e-plan
CO2 d =05 mm
CO2 d =10 mm
CO2 d =20 mm
0
20
40
60
80
100
120
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
T
e
n
s
i
o
n

(
k
V
)
Presssion (bar)
Tenue du SF6 en impulsionnel (+)
point e-plan
SF6 d =05 mm
SF6 d =10 mm
SF6 d =20 mm
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
e
r
s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page118

Figure 3.6.b Champ de rupture en impulsionnel (+) des gaz pour une configuration
pointe plan

0
200
400
600
800
1000
1200
1400
1600
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
E

(
k
V
/
m
m
)
Pression (bar)
E max de l' azot e en Impulsionnel (+)
point e-plan
N2 d =05 mm
N2 d =10 mm
N2 d =20 mm
0
200
400
600
800
1000
1200
1400
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
E

(
k
V
/
m
m
)
Pression (bar)
E max du CO2 en impulsionnel (+)
point e-plan
CO2 d =05 mm
CO2 d =10 mm
CO2 d =10 mm
0
500
1000
1500
2000
2500
3000
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
E

(
k
V
/
m
m
)
Pression (bar)
E max du SF6 en Impulsionnel (+)
point e-plan
SF6 d =05 mm
SF6 d =10 mm
SF6 d =20 mm
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
e
r
s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page119

Figure 3.7.a Tenue en tension impulsionnelle (+) des gaz pour une configuration
sphre - plan

Tenue de l' azot e en impulsionnel (+)
sphr e-plan
0
20
40
60
80
100
120
140
160
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
T
e
n
s
i
o
n

(
k
V
)
N2 d =05 mm
N2 d =10 mm
N2 d =20 mm
Tenue du CO2 en impulsionnel (+)
sphr e-plan
0
20
40
60
80
100
120
140
160
180
200
220
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
T
e
n
s
i
o
n

(
k
V
)
CO2 d =05 mm
CO2 d =10 mm
CO2 d =20 mm
0
50
100
150
200
250
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
T
e
n
s
i
o
n

(
k
V
)
Pression (bar)
Tenue du SF6 en impulsionnel (+)
sphre-plan
SF6 d =05 mm
SF6 d =10 mm
SF6 d =20 mm
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
e
r
s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page120

Figure 3.7.b Champ de rupture en impulsionnel (+) des gaz pour une configuration
sphre plan

E max de l' azot e en impulsionnel (+)
sphr e-plan
0
5
10
15
20
25
30
35
40
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
E

(
k
V
/
m
m
)
N2 d =05 mm
N2 d =10 mm
N2 d =20 mm
E max du CO2 en Impulsionnel (+)
sphr e-plan
0
10
20
30
40
50
60
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
E

(
k
V
/
m
m
)
CO2 d =05 mm
CO2 d =10 mm
CO2 d =20 mm
E max du SF6 en Impulsionnel (+)
sphr e-plan
0
10
20
30
40
50
60
70
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
E

(
k
V
/
m
m
)
SF6 d =05 mm
SF6 d =10 mm
SF6 d =20 mm
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
e
r
s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page121
Cela est dautant plus surprenant que la tension disruptive du mlange est infrieure celle
du SF
6
pur dans le cas o une tension continue serait applique. Leffet stabilisant de la
dcharge couronne (plus important dans le mlange que dans le gaz pur [18]) doit nouveau
tre voqu pour expliquer ce phnomne. Les figures 3.6 et 3.7 nous permettent galement
de constater dimportantes dispersions de la tension de claquage en impulsionnel notamment
dans le cas de lazote. Les dispersions les plus importantes ont t surtout observes en
polarit positive. Des essais raliss avec dautres configurations dlectrodes nont pas
montr de diffrence majeure.

2.4Comparaisondestenuesenfonctiondelaformedelatension

Les figures 3.8 et 3.9 donnent une illustration de linfluence de la forme de la tension
sur la tension et le champ de rupture des gaz considrs pour une configuration sphre
sphre avec une distance inter lectrode de 10 mm.

t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
e
r
s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page122

Figure 3.8.a Tension de claquage du CO
2,
N
2
et SF
6
pour une configuration
sphre - sphre (d = 10 mm)

0
20
40
60
80
100
120
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
T
e
n
s
i
o
n

(
k
V
)
Pression (bar)
CO2, N2 et SF6 en cont inu(-) d = 10 mm
sphere-sphere
N2
CO2
SF6
0
20
40
60
80
100
120
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
T
e
n
s
i
o
n

(
k
V
-
e
f
f
i
c
a
c
e
)
Pression (bar)
CO2, N2 et SF6 en alternatif (ef f) d = 10 mm
sphere-sphere
CO2
N2
SF6
0
50
100
150
200
250
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
T
e
n
s
i
o
n

(
k
V
)
Pression (bar)
CO2, N2 et SF6 en ipulsionnel (+) d = 10 mm
sphre-sphre
CO2
N2
SF6
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
e
r
s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page123

Figure 3.8.b Champ de rupture du CO
2,
N
2
et SF
6

CO2, N2 et SF6 en alt er nat if (ef f ) d = 10 mm
sphr e-sphr e
0
5
10
15
20
25
30
35
40
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
E

(
k
V
/
m
m
)
-
V
a
l
.

e
f
f
i
c
a
c
eN2
CO2
SF6
CO2, N2 et SF6 en cont inu (-) d = 10 mm
sphr e-sphr e
0
10
20
30
40
50
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
E

(
k
V
/
m
m
)
N2
CO2
SF6
CO2, N2 et SF6 en impulsionnel (+) d = 10 mm
sphr e-sphr e
0
10
20
30
40
50
60
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
E

(
k
V
/
m
m
)
CO2
N2
SF6
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
e
r
s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page124

Figure 3.9.a Tension de claquage du CO
2,
N
2
et SF
6

Tenue du CO2 d = 10 mm
sphr e-sphr e
0
20
40
60
80
100
120
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
T
e
n
s
i
o
n

(
k
V
)
CO2 Alternatif - eff
CO2 Continu (-)
CO2 Impulsionnel (+)
Tenue de l' azote d = 10 mm
sphr e-sphr e
0
20
40
60
80
100
120
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
T
e
n
s
i
o
n

(
k
V
)
N2 Altenatif - eff
N2 Continu (-)
N2 Impulsionnel (+)
Tenue du SF6 d = 10 mm
sphr e-sphr e
0
50
100
150
200
250
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
T
e
n
s
i
o
n

(
k
V
)
SF6 Alternatif - eff
SF6 Continu (-)
SF6 Impulsionnel (+)
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
e
r
s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page125

Figure 3.9.b Champ de rupture du CO
2,
N
2
et SF
6

E max de l' azote d = 10 mm
sphr e-sphr e
0
5
10
15
20
25
30
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
E

(
k
V
/
m
m
)
N2 Alternatif - eff
N2 Continu (-)
N2 Impulsionnel (+)
E max du CO2 d = 10 mm
sphr e-sphr e
0
5
10
15
20
25
30
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
Pr ession (bar )
E

(
k
V
/
m
m
)
CO2 Alternatif - eff
CO2 Continu (-)
CO2 Impulsionnel (+)
0
10
20
30
40
50
60
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4
E

(
k
V
/
m
m
)
Pression (bar)
E max du SF6 d = 10 mm
sphre-sphre
SF6 Alternatif -eff
SF6 Continu (-)
SF6 Impulsionnel (+)
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
e
r
s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page126
La figure figure 3.8 montre que la tenue du SF
6
reste toujours la plus leve indpendamment
du type de la tension. Par contre, les tenues de lazote et du CO
2
sont quasiment les mmes
avec, dans certains cas, celles de lazote lgrement plus leves. Ce dernier cas est surtout
observ en alternatif et continu.
Dans le cas des tenues sous les trois formes de tension (figure 3.9), on remarque que la
tension de claquage des trois gaz est la moins leve sous tension alternative. Pour le cas de
lazote et du CO
2
, les tenues en continu sont plus basses quen impulsionnel ; elles deviennent
suprieures celles sous tension impulsionnelle partir de 2,5 et 3 bars respectivement.
Comme on pouvait sy attendre, la tenue du SF
6
en tension impulsionnelle est meilleure que
celle en tension continue. Cela est du au temps trs bref de londe de choc par rapport celui
de la tension continue. En consquence, lapport en nergie de londe de choc est moins lev
que pour le cas de la tension continue.

3TenuedilectriquedesmlangesSF
6
N
2
etSF
6
CO
2

Les essais ont t effectus en gomtrie sphre - sphre dont laxe est vertical pour se
placer dans les conditions de champ quasi-uniforme. Les sphres ont un diamtre de 10 mm et
la distance inter lectrodes d utilise est de 10 mm. La figure 3.10 donne une reprsentation
schmatique de la configuration des lectrodes.

Figure 3.10 Configuration sphre - sphre

3.1Mlangeoptimal

Les rsultats obtenus avec les gaz purs montrent une diffrence significative entre le
comportement du systme avec le SF
6
et les deux autres gaz (N
2
et CO
2
). Pour la suite, on
4
10
d
18
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
e
r
s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page127
prendra comme rfrence le cas du mlange SF
6
- N
2
qui est susceptible dtre extrapol pour
le mlange SF
6
- CO
2
. Afin dattnuer les diffrences constates entre les tensions de rupture
de lazote et du SF
6
, il est ncessaire dadopter un mlange des deux gaz. En plus de
lamlioration de la tenue et de la compacit des systmes, laddition du SF
6
lazote permet
galement de dtecter les ventuelles fuites, ce qui nest pas vident pour le cas de lazote pur,
composant majoritaire de lair atmosphrique.

Dans les mlanges de gaz binaires, les paramtres microscopiques de collisions des gaz
purs restent invariants. Quant aux paramtres de transport dans le mlange (mobilit,
ionisation, attachement..), ils dpendent des conditions du mlange. Toutefois, certaines de
ces caractristiques ne peuvent tre values quaux pressions prsentant peu dintrt
pratique [141]. Daprs cette rfrence, qui synthtise plusieurs tudes portant sur les
mlanges SF
6
- N
2
, lapproximation de Weiland (interpolation en fonction des pressions
partielles) nest pas approprie pour la dtermination de la rigidit dilectrique, ni pour celle
du coefficient dionisation. Linterpolation linaire en fonction des titres ( x ) ou des pressions
partielles (pi) de ses constituants stablit selon la relation :

=
+ =
i
i
i i
ml
ml
p
p
x x
*
*
*
2
*
1
*
) 1 (
o
o
o o o
(2.1)

Lapplication de cette formulation empirique, valable pour certains paramtres physico-
chimiques, est cependant trs conteste pour le coefficient dionisation [142]. Elle ne tient pas
compte de lventualit de leffet de synergie (tenue du mlange suprieure celle de chacun
de ses constituants). Lorsque cet effet existe, le coefficient dionisation effectif du mlange est
infrieur celui des gaz qui le composent. Dans la pratique, leffet de synergie est plus
prononc aux faibles pressions et aux pourcentages intermdiaires (50 50 %). Compte tenu
des pourcentages de SF
6
(5 - 20 %) utiliss dans nos mlanges, cet effet a trs peu de chance
dintervenir. Lapproche thorique la plus fidle aux rsultats exprimentaux reste celle qui
utilise les paramtres microscopiques des deux gaz [143]. Les rsultats issus des travaux
effectus Liu et al [142] permettent de tracer la caractristique du champ critique dans les
mlanges SF
6
- N
2
en fonction du pourcentage de SF
6
(figure 3.11).

t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
e
r
s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page128

Figure 3.11 Champ critique rduit en fonction de la teneur de SF
6
dans le mlange

Ladjonction du SF
6
lazote peut amliorer certains paramtres physico-chimiques comme la
conductivit thermique [5]. Dans une optique exprimentale, lvaluation des pressions
partielles pour la constitution du mlange fera appel aux facteurs de compressibilit du SF
6
,
de lazote et du CO
2
.
Le mlange optimal consisterait raliser le meilleur compromis entre la quantit de SF
6
dans
le mlange et la pression totale du mlange. La rfrence tant la tenue du systme avec
environ 0.4 0.5 MPa de SF
6
en polarit positive, les essais ont t raliss avec des pressions
totales allant de 0,2 0,4 MPa en utilisant des pourcentages minimums de SF
6
. La procdure
exprimentale dessai reste invariante, exception faite du moment de la mise sous pression du
mlange qui correspond la phase de constitution du mlange.

3.2EtudedunmlangeSF
6
N
2
quivalent0,4MPadeSF
6

Dans cette tude, nous nous sommes fixs la limite de 15 % de SF
6
dans le mlange.
Toutefois, des essais ont t effectus avec 20 % de SF
6
titre indicatif. Au-del de ce
pourcentage, la quantit de SF
6
devient assez importante, ce qui peut remettre en cause le gain
conomique obtenu avec lazote et/ou le CO
2
ainsi que le facteur cologique. Le critre
dquivalence sera vrifi avec le SF
6
0,4 MPa si la tension en polarit positive ou ngative
est suprieure ou gale 590 kV [144]. Le tableau 3.1 et la figure 3.12 rsument les valeurs
rpondant la condition de tenue quivalente celle de 0,4 MPa de SF
6
pur. Les tensions (en
Champ cri ti que du ml ange SF6-N2
0
20
40
60
80
100
0 20 40 60 80 100
Pourcentage de SF6 (%)
C
h
a
m
p

c
r
i
t
i
q
u
e

r
d
u
i
t

(
k
V
/
c
m
.
b
a
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)
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l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

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s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page129
polarit positive et ngative) sont obtenues en ajustant la pression pour avoir une tenue de
rfrence de 590 kV. Cette figure reprsente le cas le plus contraignant en considrant la
pression totale.

Pression partielle et
% de SF
6

Ptotale
(MPa)
U
50
[kV]
Polarit (-) Polarit (+)
0 0 1,8 > 630 630
0,17 1 1,7 > 630 620
0,75 5 1,5 630 580
1,20 10 1,2 610 630
1,50 15 1,0 590 630
4 100 0,4 590 630

Tableau 3.1 Correspondance entre le pourcentage de SF
6
et la pression totale [144]

Figure 3.12 Pourcentages et pressions quivalent la tenue du SF
6
0,4 MPa pour le cas
dfavorable (polarit +, V
rf
= 630 kV)

Remarquons que cette courbe dquivalence porte sur des essais en choc de foudre donnant
lieu des tensions de contournement [144]. Cependant, il peut exister quelques carts entre
nos rsultats dus la diffrence entre notre cellule et celle des auteurs suscits. En analysant
ces rsultats, on observe que pour les mlanges contenant environ 10 % de SF
6
, la tension de
contournement est quilibre selon les polarits (U
50
[+] ~U
50
[-] ). A ce mme pourcentage, il
est possible dobtenir 48 % des performances dilectriques du systme isol avec du SF
6
pur.
A titre de comparaison, il a t rapport [145] que pour un systme coaxial, 72 % de la tenue
du SF
6
peuvent tre raliss avec 23 % de SF
6
en volume dans le mlange.

0
5
10
15
20
0 5 10 15 20
P
r
e
s
s
i
o
n

(
b
a
r
)
Pourcentage de SF6
Courbe d' equivalence en polarit +
t
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-
0
0
4
1
9
9
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7
,

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0
0
9

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3.3Tenuedesmlangessousdiffrentesformesdetension

Les essais ont t raliss sous tensions alternative, continue et impulsionnelle et les gaz
utiliss de qualit commerciale dont les caractristiques sont identiques ceux utiliss dans
les prcdents paragraphes. Avant dadmettre le gaz dans lenceinte, celle-ci est vide la
capacit maximale de la pompe (environ 10 mbar), puis rince. Le rinage se fait chaque
fois quon change de gaz. Le remplissage de la cellule est effectu par la suite avec les gaz
selon la procdure dcrite dans le chapitre 2. Ensuite, un temps darrt est observ pour
permettre une ventuelle homognisation et mixture des gaz lintrieur de la cellule. Entre
chaque essai, il est ncessaire de faire le vide. Compte tenu du caractre quelque peu alatoire
du claquage surtout en impulsionnel, malgr toutes les prcautions prises lors du
montage/dmontage et nettoyage de la cellule, ainsi que des impratifs industriels, chaque
rsultat prsent ci-dessous est la synthse de plusieurs sries dessais. Cette constatation
imposait de confirmer, autant de fois que ncessaire, chaque valeur. Dans une large mesure,
cette mthodologie nous permet entre autres de rester dans la gamme des recommandations en
vigueur et davoir de rsultats exploitables. Les figures 3.13 3.15 donnent une illustration de
la tension de claquage des mlanges en fonction du pourcentage de SF
6
une pression donne
pour diffrentes formes de tension.

Figure 3.13 Comparaison SF
6
- N
2
et SF
6
- CO
2
en alternatif

0
10
20
30
40
50
60
70
80
5 10 15 20
T
e
n
s
i
o
n

(
k
V
-
e
f
f
i
c
a
c
e
)
Pourcent age de SF6 (%)
SF6-N2 et SF6-CO2 en alternatif d = 10 mm
P = 0,2 MPa
sphre-sphre
SF6-N2
SF6-CO2
0
2
4
6
8
10
12
14
16
18
5 10 15 20
E

(
k
V
/
m
m
)
-
V
a
l
.
e
f
f
i
c
a
c
e
SF6-N2 et SF6-CO2 en alt ernat if d = 10 mm
P = 0,2 MPa
sphre-sphre
SF6-N2
SF6-CO2
t
e
l
-
0
0
4
1
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9
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,

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0
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Figure 3.14.a Comparaison SF
6
-N
2
et SF
6
-CO
2
en continu

Figure 3.14.b SF
6
-N
2
en continu (-) sous 0.4, 0.3 et 0.2 MPa

Figure 3.15 Comparaison SF
6
-N
2
et SF
6
-CO
2
en impulsion (+)
0
20
40
60
80
100
120
5 10 15 20
T
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n
s
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n

(
k
V
)
SF6-N2 et SF6-CO2 en cont inu (-) d =10 mm
P = 0,2 MPa
sphre-sphre
SF6-N2
SF6-CO2
0
5
10
15
20
25
30
5 10 15 20
E

(
k
V
/
m
m
)
SF6-N2 et SF6-CO2 en cont inu (-) d = 10 mm
P = 0,2 MPa
sphre-sphre
SF6-N2
SF6-CO2
0
20
40
60
80
100
120
140
5 10 15 20
T
e
n
s
i
o
n

(
k
V
)
SF6-N2 et SF6-CO2 impulsionnel (+) d =1 0mm
P = 0,2 MPa
sphre-sphre
SF6-N2
SF6-CO2
0
5
10
15
20
25
30
35
5 10 15 20
E

(
k
V
/
m
m
)
Pourcent age du SF6 (%)
SF6-N2 et SF6-CO2 impulsionnel (+) d=10 mm
P = 0,2 MPa
sphre-sphre
SF6-N2
SF6-CO2
SF6-N2 en cont inu (-) d = 10 mm
sphr e-sphr e
0
10
20
30
40
5 10 15 20
Pour cent age de SF6 (%)
E

(
k
V
/
m
m
)
4 bars
3 bars
2 bars
0
20
40
60
80
100
120
140
160
5 10 15 20
T
e
n
s
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n

(
k
V
)
pourcentage de SF6 (%)
Mlage SF6-N2 en cont inu ( - ) d = 10 mm
sphre-sphre
4 bars
3 bars
2 bars
t
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0
0
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0
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Page132
Ces illustrations montrent que les tensions et champ de rupture des mlanges SF
6
- N
2
et SF
6
-
CO
2
sont trs proches, comme il a t constat dans le cas des gaz purs, quelle que soit la
forme de la tension utilise. Cependant, ladjonction dune faible quantit de SF6 ces gaz
(CO
2
et N
2
) permet damliorer leurs performances dilectriques.
Nous avons observ une amlioration, dans le cas de lazote, de 44 % (soit une tension
de 103,74 kV au lieu de 58 kV) pour une addition de 5 % de SF
6
et 46 % (58 107,97 kV)
pour 10 % de SF
6
.
Pour le CO
2
, on a une amlioration de la tenue de 25 % (73 97,27 kV) pour 5 % de
SF
6
et 20 % (73 91,69 kV) avec 10 % de SF
6
(cf. SF
6
pur = 125,9 kV). Nous remarquons ici
quune addition de 10 % de SF
6
au CO
2
provoque une amlioration (20 %) plus faible de la
tenue du mlange (SF
6
-CO
2
) que celle (25 %) engendre par 5 % de SF
6,
ce qui parait
premire vue absurde. Ce phnomne pourrait sexpliquer par leffet stabilisant de la dcharge
couronne (plus important dans le mlange) en tension impulsionnelle. Nous avons galement
remarqu dans ltude des gaz purs sous tension impulsionnelle des phnomnes similaires o
la tenue en tension 0,1 MPa par exemple est plus leve que celle 0,15 MPa. Des
dispersions sont galement observes dans les mesures surtout dans le cas de lazote et ses
mlanges.
4Conclusion

Les essais exprimentaux que nous avons raliss montrent que, quelle que soit la forme
de la tension (alternative, continue ou impulsionnelle), la tenue du SF
6
reste la plus leve
devant celles de lazote et du CO
2
. Les tensions de rupture de lazote et du CO
2
sont en
moyenne assez proches. Pour la configuration dlectrodes pointe - plan, la tenue en polarit
ngative sest toujours rvle suprieure celle mesure en polarit positive sous tension
continue. Notons que pour toutes les courbes, la dispersion des valeurs par rapport la
moyenne (cart-type) est de lordre de 1,5 3 % exception faite du cas impulsionnel. Les
dispersions les plus importantes ont t observes pour ltude sous onde impulsionnelle.
Parmi les trois gaz tudis, lazote et ses mlanges prsentent le cas de dispersions le plus
important devant le CO
2
et le SF
6
. Pour les mlanges SF
6
- N
2
et SF
6
- CO
2
0,2 MPa, on
constate quils ont peu prs la mme tenue dilectrique, sous les trois formes de tension
tudies, pour un pourcentage de SF
6
variant de 5 20 %. On remarque galement que
laddition du SF
6
lazote et au CO
2
, sous une pression de 0,2 MPa en configuration sphre -
t
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0
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sphre,

permet damliorer leurs tenues dilectriques selon le pourcentage de SF
6
utilis. Cela
est valable pour les trois formes de tension utilises dans notre tude.
- Sous tension alternative, laddition de 5 % de SF
6
lazote permet de relever la tenue
de ce dernier denviron 12 % (48 54,33 kV). Lorsque le pourcentage de SF
6
passe 10 %,
lamlioration est denviron 18 % (48 58,5 kV). Sagissant du mlange SF
6
- CO
2
, la tenue
du CO
2
est augmente denviron 15 % (42,4 50,33 kV) pour 5 % de SF
6
et 25 % (42,4
56,66 kV) pour 10 % de SF
6
(cf. SF
6
pur = 94,25 kV).

- Sous tension continue ngative, laddition du SF
6
lazote permet galement
damliorer les performances dilectriques de lazote : de 18 % (69,5 85,157 kV) pour 5 %
de SF
6
et de 22 % (69,5 89,154 kV) pour un pourcentage de SF
6
gal 10 %. Pour le CO
2
,
les valeurs sont de 20 % (66,745 83,03 kV) pour une teneur en SF
6
de 5 % contre 29 %
(66,745 94,42 kV) pour 10 % de SF
6
(cf. SF
6
pur = 114,77 kV).

- Sous tension impulsionnelle, nous avons observ une amlioration pour le N
2
de 44
% (58 103,74 kV) pour 5 % de SF
6
et 46 % (58 107,97 kV) pour 10 % de SF
6
. Pour le
CO
2
, on a 25 % (73 97,27 kV) pour 5 % de SF
6
et 20 % (73 91,69 kV) avec 10 % de SF
6

(cf. SF
6
pur = 125,9 kV). Nous remarquons ici quune addition de 10 % de SF
6
au CO
2
provoque une amlioration (20 %) plus faible de la tenue du mlange (SF
6
-CO
2
) que celle (25
%) engendre par 5 % de SF
6,
ce qui parait premire vue absurde. Ce phnomne pourrait
sexpliquer par leffet stabilisant de la dcharge couronne (plus important dans le mlange)
en tension impulsionnelle. Nous avons galement remarqu dans ltude des gaz purs sous
tension impulsionnelle des phnomnes similaires o la tenue en tension 0,1 MPa par
exemple est plus leve que celle 0,15 MPa. Ltude en onde impulsionnelle permet
difficilement de tirer une conclusion dfinitive surtout dans le cas de lazote et ses mlanges.
Notons, cependant, que ces valeurs sont propres nos conditions exprimentales.

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Chapitre4
Dchargesglissantes
auxinterfacesgaz/solidesous
tensionimpulsionnelle
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Chapitre4Dchargesglissantesauxinterfacesgaz/solidesoustensionimpulsionnelle

Page137
1Introduction

La connaissance des caractristiques optiques et lectriques des dcharges surfaciques est
dun grand intrt pour les applications industrielles. Ces caractristiques sont ncessaires
pour la conception et le dimensionnement des structures isolantes. En effet, outre laspect
conomique (cot), le choix des constituants dune structure isolante mixte (cest dire dun
gaz et dun matriau solide) se fait en fonction de la tension de contournement. tension
dinitiation des dcharges similaires, la meilleure structure serait celle o les dcharges
surfaciques se dvelopperaient le moins, c'est--dire celle o la longueur finale des dcharges
serait la plus courte.
Dans ce chapitre, nous prsentons les rsultats dune tude exprimentale systmatique
des caractristiques optiques et lectriques des dcharges glissantes (surfaciques) se
dveloppant sur diffrents types de dilectriques solides immergs dans divers gaz (mlange).
Nous tudions en particulier la morphologie de ces dcharges et leur longueur finale sous
tension de foudre 1,2/50 s dans une configuration dlectrodes pointe plan, en fonction du
type de matriaux solide et de son paisseur, du type de gaz (mlange) et de sa pression, de la
polarit et de lamplitude de la tension applique. Les isolants solides utiliss sont le verre,
diffrentes nuances de PTFE (charg de diffrents lments : Alumine de cobalt, sulfure de
molybdne, oxyde de silicium et du fluorure de calcium) et la rsine Epoxy avec peau de
moulage. Les gaz sont le N
2
, SF
6
, CO
2
ainsi que les mlanges SF
6
- N
2
et SF
6
- CO
2
.
2Etudemorphologiqueetlongueurfinale
2.1VerreetPTFE
2.1.1Morphologiedesdcharges

La morphologie des dcharges, leurs longueurs finales L
f
et la tension seuil
dapparition U
s
de ces dcharges dpendent principalement des constituants de l'interface,
cest dire de la nature et de la gomtrie de l'isolateur, du gaz (ou du mlange gazeux), de
l'amplitude et de la polarit de la tension applique, de la pression du gaz ainsi que de la
concentration des diffrents constituants des mlanges. Pour un solide et une pression de gaz
(ou mlange gazeux) donns, U
s
est le plus lev dans le SF
6
. Avec le CO
2
et le N
2
, les
valeurs sont assez proches ; c'est galement le cas avec les mlanges SF
6
- CO
2
et SF
6
- N
2
. U
s

serait plus lev en ngatif quen positif. Lorsque la tension applique est suprieure U
s
, les
dcharges (streamers) se propagent la surface de lisolateur par bonds comme cela a t
t
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observ par Shibutani et al [146], dcrivant un contour circulaire autour de l'lectrode pointe.
Les dcharges ne sont pas forcment radiales comme rapport dans la littrature [125].
Pour une pression de gaz et une interface donnes, la longueur finale des dcharges est
plus importante avec une pointe positive qu'avec une pointe ngative (figure 4.1). Comme le
montre les figures 4.2 4.4, l'augmentation de la pression provoque la diminution de la
longueur finale des dcharges. Aux basses pressions et pour une polarit donne (figure 4.1),
nous n'avons pas observ une diffrence significative entre les formes des dcharges dans le
SF
6
(figure 4.1). Cependant, les formes des dcharges sont nettement diffrentes d'une
polarit l'autre. Pour des pressions relativement leves et un gaz donn, la forme des
dcharges en ngatif (pointe ngative) semble tre diffrente. Cela ne signifie pas
ncessairement que les formes des dcharges sont vraiment diffrentes. Cela est probablement
d au fait quaux basses pressions, les dcharges ne sont pas totalement en contact avec
l'isolateur. Le rglage optique en 2D ne nous permet pas d'observer les filaments des branches
qui ne sont pas dans le mme plan. Plus la pression augmente, plus les dcharges ont tendance
se coller l'isolateur permettant ainsi un meilleur rglage optique et donc lobservation la
totalit de la dcharge.

Figure 4.1 Influence de la polarit de la tension et de la pression du gaz sur la longueur
finale des dcharges se propageant sur une interface verre/SF
6

- 22 kV SF6
0.05 MPa
0.05 MPa
0.1 MPa
0.1 MPa
- 24 kV SF6
+ 24 kV SF6
+22 kV SF6
50 mm
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Figure 4.2 Influence de la pression du gaz et de la polarit de la tension sur la longueur
finale des dcharges sur une interface verre/SF
6

Figure 4.3.a Influence de la pression du gaz et de la polarit de la tension sur la longueur
finale des dcharges sur une interface verre/CO
2

+23 kV SF6
0.1 MPa
+23 kV SF6
+23 kV SF6
0.05 MPa
0.15 MPa
- 28 kV SF6
0.1 MPa
- 28 kV SF6
0.05 MPa
- 28 kV SF6
0.15 MPa
50 mm
0.1 MPa
0.3 MPa
0.5 MPa
+ 20 kV CO2
+ 20 kV CO2
+ 20 kV CO2 - 30 kV CO2
0.3 MPa
0.2 MPa
0.1 MPa
- 30 kV CO2
- 30 kV CO2
50 mm
(a)
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Figure 4.3.b Influence de la concentration de SF
6
dans le mlange SF
6
-CO
2
et SF
6
-N
2
sur la
longueur finale des dcharges sur le verre

Figure 4.4 Influence de la pression du gaz et de la polarit de la tension sur la longueur
finale des dcharges sur une interface verre/N
2
+ 20 kV N2
+ 20 kV N2
+ 20 kV N2
0.1MPa
0.2 MPa
0.4 MPa
- 28 kV N2
- 28 kV N2
- 28 kV N2
0.2 MPa
0.4 MPa
0.5 MPa
50 mm
- 36.6 kV 5%SF6-95%CO2
- 36.6 kV 10%SF6-90%CO2
- 36.6 kV 15%SF6-85%CO2
0.3 MPa
0.3 MPa
0.3 MPa
- 28 kV 5%SF6-95%N2
0.3 MPa
- 28 kV 15%SF6-85%N2
- 28 kV 10%SF6-90%N2
0.3 MPa
0.3 MPa
50 mm
(b)
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L'effet de la pression est plus marqu dans le mlange SF
6
- N
2
que dans le mlange SF
6
- CO
2

(figure 4.3.b). La morphologie des dcharges est trs diffrente dans les deux mlanges.

Les figures 4.5 et 4.6 donnent quelques exemples de dcharges observes sur le PTFE-A

et le PTFE-B pour une paisseur de 2 mm. La longueur finale des dcharges observes sur ce
dernier est plus courte, bien que son diamtre soit plus faible (lisolateur en PTFE-A [100
mm] a un diamtre plus grand que celui du PTFE-B [50 mm]).

Figure 4.5.a Influence de lamplitude de la tension sur la longueur finale des dcharges pour
une interface SF
6
/PTFE-A

+ 44 kV - SF6
0.05 MPa
+ 46 kV - SF6
0.05 MPa
0.05 MPa
+ 48 kV - SF6
- 56 kV - SF6
0.05 MPa
0.05 MPa
0.05 MPa
- 58 kV - SF6
- 60 kV - SF6
(a)
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0
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Page142

Figure 4.5.b Influence de la pression du gaz sur la longueur finale des dcharges pour une
interface CO
2
/PTFE-A

Figure 4.6 Influence de lamplitude de la tension sur la longueur finale des dcharges pour
une interface SF
6
/PTFE-B
+ 40 kV - CO2
0.3 MPa
+ 40 kV CO2
+ 40 kV CO2
0.5 MPa
0.4 MPa
+ 37 kV - CO2
0.2 MPa
+ 37 kV - CO2
+ 37 kV - CO2
0.3 MPa
0.4 MPa
(b)
- 56 kV - SF6
0.2 MPa
- 57 kV - SF6
- 58 kV - SF6
- 56 kV - SF6
- 57 kV - SF6
- 58 kV - SF6
0.2 MPa
0.2 MPa
0.15 MPa
0.15 MPa
0.15 MPa
- 50 kV - SF6
0.15 MPa 0.2 MPa
- 50 kV - SF6
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
e
r
s
i
o
n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page143
2.1.2Longueurfinaledesdcharges

Les longueurs finales L
f
des dcharges augmentent quasi linairement avec la tension et
diminuent quand la pression du gaz (resp. mlange) est augmente comme illustre sur les
figures 4.7 et 4.8. L
f
est plus long avec le CO
2
et le N
2
qu'avec le SF
6
. Par consquent, les
tensions de contournement sont infrieures dans le CO
2
et le N
2
que dans le SF
6
confirmant
ainsi les proprits dilectriques connues (tenue dilectrique) de ce dernier par rapport au CO
2

et au N
2
(cf. chapitre 2). Notons que dans le N
2
, nous avons observ une dispersion importante
des rsultats et plus particulirement en polarit positive. De telles observations ont t faites
sur les mesures de la tenue dilectrique du N
2
sous tension impulsionnelle. Pour les faibles
pressions, les formes de dcharges observes dans le SF
6
et le CO
2
sont semblables.
L'augmentation de la concentration de SF
6
dans les mlanges SF
6
- CO
2
ou SF
6
- N
2
provoque
une diminution de la longueur finale (figure 4.7). Cependant l'effet n'est pas trs marqu avec
10% et 15% de SF
6
dans le mlange SF
6
- CO
2
. Ceci pourrait tre d l'existence d'une
concentration optimale de SF
6
au dessus de laquelle l'effet de la pression est peu influent.
Notons galement que dans lazote pur, nous avons observ une dispersion importante des
valeurs de L
f
et en prsence du mlange SF
6
- N
2
pour diffrentes concentrations de SF
6
.

Figure 4.7 volution de la longueur finale en fonction de la tension dans le SF
6
pour les
deux polarits et pour diffrentes pressions et les mlanges SF
6
-CO
2
et SF
6
- N
2

SF6+Gl as s - Negat i v e
0
5
10
15
20
25
30
35
40
45
18 20 22 24 26 28 30 32 34 36
A ppl i ed v o l t age ( k V)
F
i
n
a
l

l
e
n
g
t
h

(
m
m
)
0,05 MPa
0.1MPa
0.15 MPa
0.2 MPa
SF6+Gl as s - P o s i t i v e
0
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
16 18 20 22 24 26 28 30
F
i
n
a
l

l
e
n
g
t
h

(
m
m
)
0,05 MPa
0,1MPa
0.15 MPa
0.2 MPa
SF6- CO2 - 0,3 M pa ( - )
0
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
25 27 29 31 33 35 37 39
A p p l i ed vo l t ag e ( kV )
F
i
n
a
l

l
e
n
g
t
h

(
m
m
)
05%SF6
10%SF6
15 %SF6
SF6- N2 - 0,3 M pa ( - )
0
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
20 22 24 26 28 30 32
F
i
n
a
l

l
e
n
g
t
h

(
m
m
)
05%SF6
10%SF6
15%SF6
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
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n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

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N2+Ver r e- P o s i t i f
0
10
20
30
40
50
60
19 20 21 22 23 24 25 26
Tension (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
0.05 MPa
0.1MPa
0.15 MPa
0.2 MPa
N2+Ver r e- Ngat i f
0
10
20
30
40
50
22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32
Tension (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
0.05 MPa
0.1MPa
0.15 MPa
0.2 MPa

Figure 4.8 volution de la longueur finale en fonction de la tension dans le CO
2
pour les
deux polarits et pour diffrentes pressions
La figure 4.9 donne la longueur finale des dcharges en fonction de la tension pour lazote en
polarit positive et ngative.

Figure 4.9 Longueur finale des dcharges surfaciques en fonction de la tension dans lazote
pour les deux polarits
CO2+Gl as s - P o s i t i v e
0
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
16 18 20 22 24 26
F
i
n
a
l

l
e
n
g
t
h

(
m
m
)
0,1MPa
0,2 MPa
0,3 MPa
0,4 MPa
0,5 MPa
CO2+Gl as s - Negat i v e
0
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
22 24 26 28 30 32 34 36 38 40 42 44
F
i
n
a
l

l
e
n
g
t
h

(
m
m
)
0,1MPa
0,2 MPa
0,3 MPa
0,4 MPa
0,5 MPa
t
e
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-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

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1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
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Page145
Sur cette courbe, nous observons des dispersions importantes dans les mesures surtout en
polarit positive comme indiqu plus haut. Lorsquon augmente la pression ou la tension, la
longueur finale des dcharges peut augmenter ou diminuer de faon alatoire.

Les rsultats obtenus avec les deux types de Tflon (PTFE-A ou PTFE-B) rvlent galement
des dispersions dans les mesures quel que soit le type de gaz ou mlange de gaz utilis.
Cependant, la tendance daugmentation de la longueur finale des dcharges lorsque la tension
augmente (valeur de crte), ou la diminution de L
f
lorsque la pression du gaz ou du
pourcentage de SF
6
dans le mlange augmente est confirme comme le montre les figures
4.10 et 4.11.

Figure 4.10 Evolution de la longueur finale des dcharges en fonction de la pression sur des
interfaces SF
6
/PTFE-A, CO
2
/PTFE-A et N
2
/PTFE-A

SF6/ PTFE-A - Posi t i f
0
10
20
30
40
30 35 40 45 50 55 60
Tensi on (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
0,05 MPa
0,1MPa
0,15 MPa
0,2 MPa
SF6/ PTFE-A - Ngat i f
0
5
10
15
20
25
30
25 30 35 40 45 50 55 60 65 70
Tension (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
0,05 MPa
0,1MPa
0,15 MPa
0,2 MPa
CO2/ PTFE-A - Posi t i f
0
10
20
30
40
50
25 27 29 31 33 35 37 39 41 43 45
Tensi on (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
0,1MPa
0,2 MPa
0,3 MPa
0,4 MPa
0,5 MPa
N2/ PTFE-A - Posi t i f
0
10
20
30
40
50
28 30 32 34 36 38 40
Tension (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
0,1MPa
0,2 MPa
0,3 MPa
0,4 MPa
0,5 MPa
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

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1

-

2
5

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e
p

2
0
0
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Page146

Figure 4.11 Evolution de la longueur finale des dcharges en fonction de la pression sur des
interfaces SF
6
-CO
2
/PTFE-A et SF
6
-N
2
/PTFE-A

2.2RsineEpoxy
2.2.1Morphologieetlongueurdesdcharges

Les rsultats obtenus avec la rsine Epoxy (avec peau de moulage) montrent que la
morphologie des dcharges ainsi que leurs longueurs finales L
f
dpendent principalement des
mmes paramtres que les matriaux prcdemment tudis. Comme indiqu sur les figures
4.12 4.15, des effets similaires sont constats. Laddition dune faible quantit de SF
6
dans
ces mlanges permet en consquence damliorer la tenue de la structure isolante. Notons que
toujours dans le cas du mlange SF
6
- N
2
, des dispersions importantes constates dans les
mesures montrent que leffet (pas trs stable) de la teneur en SF
6
peut tre lorigine de
laugmentation ou de la diminution de L
f
.

SF6-N2/ PTFE-A - 0,3 MPa (+)
0
10
20
30
40
50
26 28 30 32 34 36 38 40 42
Tension (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
05%SF6
10%SF6
15%SF6
SF 6- CO2/ P TF E- A - 0,3 M P a ( +)
0
10
20
30
40
50
30 32 34 36 38 40 42
Tension (k V)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
05%SF6
10%SF6
15%SF6
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
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7
,

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1

-

2
5

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e
p

2
0
0
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Figure 4.12 Influence de la teneur en SF
6
sur la longueur finale des dcharges pour une
interface SF
6
- CO
2
/Epoxy + moulage (e = 2mm) en polarit (+) et (-)

Figure 4.13 Influence de la teneur en SF
6
sur la longueur finale des dcharges pour une
interface SF
6
- N
2
/Epoxy + moulage (e = 2mm) en polarit (-)
- 46 kV 5% SF
6
- CO
2

0.3 MPa
- 46 kV 10% SF
6
- CO
2

0.3 MPa
0.3 MPa
- 46 kV 15% SF
6
- CO
2

+ 32 kV 5% SF
6
- CO
2

0.3 MPa
0.3 MPa
0.3 MPa
+ 32 kV 10% SF
6
- CO
2

+ 32 kV 15% SF
6
- CO
2

- 35 kV 5% SF
6
- N
2

0.3 MPa
0.3 MPa
- 35 kV 10% SF
6
- N
2

t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
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1

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2
5

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p

2
0
0
9

Page148

Figure 4.14 Evolution de la longueur finale des dcharges en fonction du pourcentage de SF
6

en polarit positive et ngative pour une interface SF
6
- CO
2
/Epoxy + Moulage

Figure 4.15 Evolution de la longueur finale des dcharges en fonction du pourcentage de SF
6

en polarit ngative pour une interface SF
6
- N
2

SF6-CO2/Epoxy+Moul age 0.3 MPa (+)
0
5
10
15
20
25
30
35
40
24 26 28 30 32 34
Tensi on (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
05%SF6
10%SF6
15%SF6
SF6-CO2/Epoxy+Moul age 0.3 MPa (-)
0
5
10
15
20
25
30
35
38 40 42 44 46 48 50
Tensi on (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
05%SF6
10%SF6
15%SF6
SF6-N2/Epoxy+Moul age (-)
0
10
20
30
40
50
26 28 30 32 34 36 38
Tensi on (kV)
L
o
n
g
u
e
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
05%SF6
10%SF6
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

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1

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2
5

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2
0
0
9

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La longueur finale des dcharges dans le cas des interfaces SF
6
/Epoxy + moulage, CO
2
/Epoxy
+ moulage et N
2
/Epoxy + moulage prsente une extension maximale relativement plus longue
que celles obtenues avec le Tflon (PTFE-A et PTFE-B) dans les mmes conditions de
pression dessais.

Les longueurs finales L
f
augmentent avec la tension et diminuent quand la pression augmente.
Les formes de dcharges observes dune manire gnrale prsentent dans certains cas des
ressemblances lorsquil sagit de la mme polarit. Les figures 4.16 4.18 et 4.19 4.22
prsentent respectivement quelques exemples de dcharges observes sur un isolateur en
Epoxy avec peau de moulage pour les trois gaz et lvolution de la longueur finale en fonction
de la tension pour diffrentes pressions.

Figure 4.16 Influence de la tension sur la longueur finale des dcharges pur une interface
SF
6
/Epoxy + moulage (e = 2mm) en polarit positive et ngative

+ 30 kV - SF
6

+ 35 kV - SF
6

+ 37 kV - SF
6

0.2 MPa
0.2 MPa
0.2 MPa
- 40 kV - SF
6

- 46 kV - SF
6

- 50 kV - SF
6

0.2 MPa
0.2 MPa
0.2 MPa
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

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1

-

2
5

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p

2
0
0
9

Page150

Figure 4.17 Influence de la tension sur la longueur finale des dcharges pour une interface
CO
2
/Epoxy + moulage (e = 2mm) en polarit positive et ngative

Figure 4.18 Influence de la tension sur la longueur finale des dcharges pour une interface
N
2
/Epoxy + moulage (e = 2 mm) en polarit positive et ngative
+ 25 kV N
2

0.5 MPa
+ 29 kV - N
2

+ 32 kV - N
2

- 32 kV - N
2

- 36 kV - N
2

- 38 kV - N
2

0.5 MPa
0.5 MPa
0.5 MPa
0.5 MPa
0.5 MPa
+ 29 kV CO
2

0.5 MPa
+ 32 kV CO
2

+ 34 kV CO
2

- 46 kV CO
2

- 54 kV CO
2

- 56 kV CO
2

0.5 MPa
0.5 MPa
0.5 MPa
0.5 MPa
0.5 MPa
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

v
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r
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i
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n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page151

Figure 4.19 Evolution de la longueur finale des dcharges en fonction de la tension pour une
interface SF
6
/Epoxy + Moulage en polarit positive et ngative

interface CO
2
SF6/Epoxy+Moulage (-)
0
4
8
12
16
20
26 29 32 35 38 41 44 47 50 53
Tension (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
0.05 MPa
0.1 MPa
0.15 MPa
0.2 MPa
SF6/Epoxy+Moulage (+)
0
4
8
12
16
20
24
28
26 28 30 32 34 36 38
Tension (kV)
L
o
n
n
g
u
e
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
0.05 MPa
0.1 MPa
0.15 MPa
0.2 MPa
CO2/Epoxy+Moulage (+)
0
6
12
18
24
30
36
42
18 20 22 24 26 28 30 32 34 36
Tension (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
0.1 MPa
0.2 MPa
0.3 MPa
0.4 MPa
0.5 MPa
CO2/Epoxy+Moulage (-)
0
6
12
18
24
30
36
35 37 39 41 43 45 47 49 51 53 55 57
Tension (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
0.1 MPa
0.2 MPa
0.3 MPa
0.4 MPa
0.5 MPa
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

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n

1

-

2
5

S
e
p

2
0
0
9

Page152

interface N
2

interface CO
2
/PTFE-B en polarit positive et ngative
N2/Epoxy+Moul age (+)
0
5
10
15
20
25
30
35
40
18 20 22 24 26 28 30 32
Tensi on (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
0.1 MPa
0.2 MPa
0.3 MPa
0.4 MPa
0.5 MPa
N2/Epoxy+Moul age (-)
0
5
10
15
20
25
30
35
40
45
22 24 26 28 30 32 34 36 38 40
Tensi on (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
0.1 MPa
0.2 MPa
0.3 MPa
0.4 MPa
0.5 MPa
CO2/PTFE-B Polarit (-)
0
2
4
6
8
10
12
14
16
18
40 42 44 46 48 50 52 54 56
Tension (kV)
L
o
n
g
u
e
u
r

f
i
n
a
l
e

(
m
m
)
0.1 MPa
0.2 MPa
0.3 MPa
t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
6
7
,

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-

2
5

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2
0
0
9

Page153
Les longueurs finales des dcharges mesures sur le PTFE-B et PTFE-A sont plus courtes que
elles obtenues avec le matriau en Epoxy avec peau de moulage.
Dautre part, la longueur finale des dcharges est plus importante avec une pointe positive
qu'avec une pointe ngative comme pour le cas des prcdents matriaux. Cela sexplique par
le fait que les processus physiques impliqus dans la propagation de la dcharge ne sont pas
les mmes selon la polarit.
Cette diffrence entre les polarits peut sexpliquer par linfluence de la charge
despace. Lorsque la tension atteint le seuil dionisation du gaz au voisinage de la pointe, une
charge despace positive prend naissance, indpendamment de la polarit des lectrodes. La
prsence de cette charge despace influe sur la composante normale ( lisolant solide) du
champ lectrique de faon tout fait diffrente selon la polarit des lectrodes.
Quand llectrode pointe est positive, la charge despace positive rduit lintensit du
champ au voisinage de la pointe ; le processus de dveloppement des dcharges partielles
ralentit mais lintensit du champ en direction de lautre lectrode, et donc dans la direction
de la propagation des dcharges surfaciques, se renforce. Le dveloppement des streamers est
alors facilit ; ils peuvent se dvelopper sous des tensions plus basses que celles ncessaires
dans le cas sans charge despace.
En polarit ngative, la situation au voisinage de la pointe, se dveloppe de faon
oppose. La charge despace positive renforce le champ prs de la pointe et laffaiblit dans la
direction de llectrode oppose. Les streamers se trouvent donc ralentis et la tension
ncessaire leur dveloppement sera plus leve que celles dans le cas sans charge despace.
2.2.2Influencedelpaisseurdumatriau

Lpaisseur du matriau de lisolateur influe normment sur la longueur finale des
dcharges. Plus le matriau est mince, plus la longueur finale des dcharges se propageant
sa surface est longue et moins leve est la tension de contournement. Les figures 4.23 et 4.24
donnent quelques exemples de dcharges observes sur un isolateur de 4 et 6 mm en Epoxy
avec peau de moulage en prsence de SF
6
et de CO
2
. Pour des tensions et des pressions
identiques, la longueur finale des dcharges est plus importante pour un chantillon de 4 mm
que pour un chantillon de 6 mm. Ce rsultat indiquerait limplication deffets capacitifs
[147]. Lorsque lpaisseur (e) du matriau augmente, la capacit du condensateur constitu
par lisolateur insr entre les lectrodes (pointe et plan) diminue. Cette observation est
valide par le concept de capacit diffrentielle AC [148,149] :

t
e
l
-
0
0
4
1
9
9
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7
,

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n

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( ) ( )
s s
2
r o
s
s
l l
1
R
e
R
e
ln
f 2
l
dl
dC
C A o = A
(
+
c tc
= A = A (2.1)

o c
r
reprsente la permittivit relative du matriau, Al
s
et R respectivement lallongement
diffrentiel et le rayon diffus du canal de la dcharge, et f le facteur de forme de lintervalle.
En considrant d constant, lallongement devient directement proportionnel la capacit.
En consquence, L
f
diminue et la tension de contournement augmente. La longueur
finale des dcharges augmente quasi linairement pour les diffrentes paisseurs utilises avec
des dispersions plus ou moins importantes selon le type de gaz ou de mlange ou de la
polarit de la tension.

Figure 4.23 Influence de la variation de lpaisseur sur la longueur finale des dcharges
pour une interface SF
6
/Epoxy + moulage en polarit ngative

- 36 kV SF
6

- 46 kV SF
6

- 50 kV SF
6

0.1 MPa
0.1 MPa
0.1 MPa
- 36 kV SF
6

e = 4 e = 6
0.1 MPa
- 46 kV SF
6

0.1 MPa
- 50 kV SF
6

0.1 MPa
t
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0
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0
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Figure 4.24 Influence de la variation de lpaisseur sur la longueur finale des dcharges
pour une interface SF
6
/Epoxy + moulage en polarit ngative

Les figures 4.25 4.27 donnent les variations L
f
= f(U) pour des chantillons de diffrentes
paisseurs issus du mme matriau. Nous remarquons quen prsence de SF
6
et de CO
2
,
lvolution est quasi linaire except pour une paisseur de 6 mm dans le SF
6
. Les pentes de
ces droites sont dcales les unes par rapport aux autres suivant lpaisseur. La tension de
gnration de ces dcharges peut tre estime par extrapolation L
f
= 0 ; celle-ci est
diffrente selon le type de gaz (ou mlange) ou de matriaux. En prsence de N
2
, la variation
de L
f
est plus que linaire au del dune certaine tension. Notons cependant que les tensions
de gnration des dcharges dans notre tude ont t dtermines exprimentalement en
augmentant la tension jusqu la dtection de la premire impulsion de courant et
lobservation de la toute premire dcharge.

0.1 MPa
0.1 MPa
0.1 MPa
- 36 kV CO
2

- 42 kV CO
2

- 45 kV CO
2

- 36 kV CO
2

0.1 MPa
- 42 kV CO
2

0.1 MPa
0.1 MPa
e = 4 mm
e = 6 mm
- 45 kV CO
2

t
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Figure 4.25 Comparaison des longueurs finales des dcharges glissantes en fonction de leur
paisseur sur une interface SF
6
/Epoxy + moulage pour une pression de 0.1 MPa

paisseur sur une interface CO
2
/Epoxy + moulage pour une pression de 0.1 MPa

SF6/Epoxy+Moulage 0.1 MPa (-)
0
2
4
6
8
10
12
14
16
18
20
34 38 42 46 50 54 58
Tension (kV)
L
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g
u
e
u
r

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a
l
e

(
m
m
)
e =2 mm
e =4 mm
e =6 mm
CO2/Epoxy+Moul age 0.1 MPa (-)
0
5
10
15
20
25
30
35
34 36 38 40 42 44 46 48 50
Tensi on (kV)
L
o
n
g
u
e
u
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a
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e

(
m
m
)
e =2 mm
e =4 mm
e =6 mm
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paisseur pour une interface N
2
/Epoxy + moulage la pression de 0,1 MPa
3Dterminationduchampparlmentsfinis(Flux2D/3D)

Afin de mettre davantage en vidence linfluence de la gomtrie et du type de matriau
(permittivit dilectrique) sur les tensions de gnration des dcharges ainsi que sur leurs
longueurs finales, nous avons procd au calcul du champ lectrique au voisinage de
llectrode pointe par des codes de calcul utilisant les lments finis (Flux2D/3D).
La figure 4.28 donne un aperu du maillage pour la gomtrie considre. Les caractristiques
du maillage utilis sont les suivantes : Nuds : 1680 ; Elments surfaciques : 782 ; lments
liniques : 114. Toutes les simulations ont t faites avec une tension de 15 kV.
Les rsultats de simulation obtenus avec un chantillon en verre sont reprsents sur les
figures 4.29 4.31. Quelque soit le matriau utilis, le renforcement du champ est plus intense
au niveau de la pointe.

Figure 4.28 Schma de la gomtrie maille pour un chantillon en verre de 100 mm de
diamtre et 6 mm dpaisseur
N2/Epoxy+Moul age 0.1 MPa (-)
0
5
10
15
20
25
30
35
40
45
24 29 34 39 44 49
Tensi on (kV)
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(
m
m
)
e =2 mm
e =4 mm
e =6 mm
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Figure 4.29 Distribution des vecteurs champ au voisinage de la pointe pour un chantillon
en verre de 100 mm de diamtre et 6 mm dpaisseur (E
max
= 0,04 MV/cm)

Figure 4.30 Distribution du champ et du potentiel dans les diffrentes rgions de la
gomtrie pour un chantillon en verre de 100 mm de diamtre et 6 mm dpaisseur

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Figure 4.31 Evolution du champ la surface dun un chantillon en verre de 100 mm de
Les rsultats pour un chantillon en Tflon dans les mmes conditions de maillage et de
tension que lchantillon en verre sont donns sur les figures 4.32 4.34. La distribution et la
localisation du champ maximal linterface y sont reprsentes.

Figure 4.32 Distribution des vecteurs champ au voisinage de la pointe pour un chantillon en
Tflon de 100 mm de diamtre et 6 mm dpaisseur (E
max
= 0,03 MV/cm)
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Figure 4.33 Distribution du champ et du potentiel dans les diffrentes rgions de la
gomtrie pour un chantillon en Tflon de 100 mm de diamtre et 6 mm dpaisseur

Figure 4.34 Evolution du champ la surface dun un chantillon en Tflon de 100 mm de
diamtre et 6mm dpaisseur

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Dans la disposition horizontale, de lchantillon solide, que nous avons utilise pour
cette tude, la composante normale du champ linterface est lgrement suprieure la
composante tangentielle (en valeur absolue).
Quelques simulations effectues en 3D (figure 4.35 et 4.36) avec un chantillon en PTFE de
100 mm de diamtre et 6 mm dpaisseur donnent des rsultats concordants avec ceux
obtenus en 2D (0,03 MV/cm en 2D et 0,0275 MV/cm en 3D)

Figure 4.35 Distribution du champ en 3D au voisinage de la pointe et la surface de
lisolant pour un chantillon en Tflon de 100 mm de diamtre et 6 mm dpaisseur
(E
max
= 0,0275 MV/cm)

Figure 4.36 Evolution du champ en 3D la surface dun chantillon en Tflon de 100 mm de
Surface_Isolant Modle_3D
E (V/m)
d (m)
(a)
(c)
(b)
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(a) : Composante suivant laxe (x) ou composante tangentielle, max autour de 0.06 MV/cm
(b) : Composante suivant laxe (y) ou composante normale (y), max autour de - 0.075 MV/cm
(c) : Composante suivant laxe (z) ou composante normale (z), max autour de - 0.075 MV/cm

Il ressort de ces rsultats que la tension dinitiation ainsi que la longueur finale des
dcharges sont tributaires du type de matriau utilis. La dtermination de la distribution du
champ lectrique au niveau de la structure isolante montre linfluence considrable de la
permittivit dilectrique sur la variation des composantes normale et tangentielle du champ.
Les rsultats de simulation obtenus pour une tension applique (U
crte
) de 15 kV
montrent que la valeur maximale du champ dans le cas dun chantillon en verre (c
r
= 5) est
de 0,04 MV/cm alors quavec un chantillon en Tflon (c
r
= 2,1), elle est de 0,03 MV/cm. Le
rayon de courbure de la pointe tant constant (10 m), le seuil U
s
de gnration dpend alors
de lpaisseur et de la nature du solide. En effet, les tensions de gnration des dcharges U
s

sont plus leves avec le PTFE (Tflon) quavec le verre. Ce phnomne est d au
renforcement du champ au voisinage de llectrode pointe. Ce renforcement est dautant plus
lev que la diffrence entre les constantes dilectriques du solide isolant et du gaz (c
r
= 1) est
leve.

4Etudecomparative

Afin de raliser une tude comparative du comportement des diffrents types de PTFE
(Alumine de cobalt, sulfure de molybdne, oxyde de silicium et du fluorure de calcium) que
nous avons utiliss, des essais complmentaires ont t effectus. Il sagit entre autres
dtudier linfluence de la charge contenue dans le PTFE sur la longueur finale des dcharges.
Les matriaux utiliss ont 2 mm dpaisseur et 100 mm de diamtre.
Il ressort de ces rsultats que la charge du PTFE influe considrablement sur la
propagation des dcharges sa surface (figures 4.37 et 4.38). En prsence de SF
6
, la longueur
finale mesure sur le PTFE-E apparait comme la plus longue ; elle est trs proche de celle
mesure sur le PTFE-G. La plus courte longueur finale a t obtenue avec le PTFE-C et le
PTFE-D. Ces derniers prsentent galement des longueurs finales et des tensions de claquage
assez proches. Entre ces deux groupes de matriaux (PTFE-E - PTFE-G et PTFE-C -PTFE-D)
se situe le PTFE-F. En consquence, les PTFE-C et PTFE-D apparaissent comme ayant les
meilleures caractristiques disolation. Ainsi, la tension de contournement et dapparition des
dcharges pour ces matriaux seront plus leves. Notons que des tendances similaires ont t
t
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observes pour les diffrents types de PTFE en prsence de CO
2
et de mlange 10%SF
6
-CO
2

sous une pression de 0,5 MPa.

Figure 4.37 Comparaison de la longueur finale des dcharges en fonction de la tension dans
le SF
6
pour diffrents types de PTFE en polarit ngative

Figure 4.38 Evolution de la longueur finale des dcharges en fonction de la tension dans le
SF
6
pour diffrents types de PTFE en polarit ngative
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5Analysedelasurfacedelisolateur
Au bout de plusieurs sries dessais sur un mme isolateur, sa surface peut se dgrader.
En effet, les dcharges peuvent laisser des traces sur leurs surfaces, crant ainsi des chemins
prfrentiels (voire des sillons conducteurs) pour les dcharges suivantes (figure 4.39). Les
longueurs finales seront alors plus importantes que sur des surfaces vierges. La multiplication
des dcharges sur le mme isolant solide conduit au contournement de ce dernier pour des
valeurs de tension relativement basses. Toutefois, la dgradation de la surface dpend
fortement du nombre de dcharges, de lamplitude de la tension applique, du nombre de
contournements subi ainsi que des proprits intrinsques du matriau isolant solide.

Figure 4.39 Exemples de dcharges observes sur un chantillon ayant subi plusieurs
sries dessais
Lexamen microscopique de la surface de lchantillon rvle lexistence dune
multitude de canaux, plus ou moins larges, creuss sa surface ainsi que des microfissures
non dtectables lil nu (cf. figure 4.40). Cette dgradation, au stade de canaux et de
microfissures, est irrversible et constitue un facteur qui contribue la dispersion des rsultats
de mesure de la longueur finale en fonction de lamplitude de la tension. Pour minimiser ces
dispersions et afin dobtenir des rsultats aussi fiables que possible, lchantillon solide est
remplac ds quun signe de dgradation est constat.

Figure 4.40 Vues microscopiques dun chantillon en verre de 2 mm dpaisseur aprs
plusieurs sries dessais
Microfissures
au centre de
lchantillon
Canaux creuss
la surface de
lchantillon
6.5 m
(A)
24.9 m
(B)
-39 kV - SF
6

0.15 MPa
-38 kV - SF
6

0.15 MPa
-37 kV - SF
6

0.15 MPa
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Les photographies (cf. figure 4.41) de quelques chantillons en Tflon (PTFE-A)
montrent galement que limpact de la dcharge peut laisser des traces irrversibles la
surface de lchantillon.

Figure 4.41 Photographie dchantillons en Tflon (PTFE-A) de 2 mm dpaisseur avant et
aprs plusieurs sries dessais
6Conclusion
Dans ce chapitre, la morphologie et la longueur finale des dcharges ont t analyses

en utilisant plusieurs types de matriaux disolateur et plusieurs types de gaz.

Nous avons montr que la morphologie et la longueur finale des dcharges glissantes
dpendent de plusieurs paramtres tels que lamplitude et la polarit de la tension, le type et la
pression du gaz ou de mlange de gaz, le type du matriau isolant solide, le taux de SF
6

contenu dans le mlange. Pour un solide et un gaz donns, L
f
augmente quasi linairement
avec la tension et diminue quand la pression du gaz augmente. Les dcharges ne prsentent
pas forcment une structure radiale comme cela a t rapport dans la littrature. Pour une
tension et une pression donnes, L
f
est plus lev en polarit positive quen polarit ngative,
ce qui indique que la polarit la plus contraignante est la polarit positive.
La longueur finale des dcharges L
f
est plus courte dans le SF
6
que dans le CO
2
ou N
2
.
L'augmentation du pourcentage de SF
6
dans le mlange SF
6
- CO
2
provoque une diminution
significative de la longueur finale des dcharges, ce qui est dun grand intrt pour le
Echantillon
vierge
Avantessais Aprsessais
Impactdes
dcharges
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dimensionnement et loptimisation de l'appareillage lectrique isolation gazeuse. Dans le N
2

et le mlange SF
6
- N
2
, les valeurs des longueurs finales prsentent une dispersion importante
d'un choc l'autre (tension impulsionnelle). Ceci constitue un srieux problme si on lon
veut utiliser le N
2
ou le mlange SF
6
- N
2
dans lappareillage haute tension. Cependant, la
tendance laugmentation de la longueur finale des dcharges avec lamplitude de la tension
et la diminution de la longueur finale des dcharges avec laugmentation de la pression du gaz
ou du pourcentage SF
6
dans le mlange sont souvent respectes.
Les PTFE-C et PTFE-D apparaissent comme ayant les meilleures caractristiques
disolation. En consquence, la tension de contournement et dapparition des dcharges pour
ces matriaux sont plus leves.

Les calculs de champs par lments finis (Flux 2D/3D) montrent que la constante
dilectrique (c
r
) des matriaux a une influence considrable sur la tension de gnration des
dcharges indpendamment du type de gaz. La constante (c
r
) des gaz tant gale lunit, le
renforcement du champ au voisinage de la pointe est dautant plus important que la diffrence
entre la constante dilectrique du matriau et celle du gaz est grande.

Lorsque lpaisseur (e) du matriau augmente, la capacit du condensateur constitu par
lisolateur insr entre les lectrodes (pointe et plan) diminue. En consquence, L
f
diminue et
la tension de contournement augmente. Pour un matriau et une paisseur donns, la longueur
finale de la dcharge ainsi que lamplitude du courant et la charge associs, augmentent avec
la tension.

La longueur finale des dcharges dans le cas dun chantillon en Epoxy avec peau de
moulage est plus longue que celle voluant sur un chantillon en Tflon (PTFE-A ou PTFE-
B).
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Chapitre5
Analysefractaleet
courantsassocisaux
dcharges
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Chapitre5Analysefractaleetcourantsassocisauxdcharges

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1Introduction
Laspect morphologique des dcharges glissantes a fait lobjet dtudes diverses et

varies depuis trs longtemps. Cest dans les annes 1970 que le terme de "gomtrie fractale"
a t invent par Mandelbrot pour designer la forme des figures alatoires. Cette mthode de
description des dcharges glissantes a depuis t considre comme lune des meilleures.
Celle-ci a permis de caractriser et de classifier dun point de vue quantitatif les branches et
ramifications des dcharges, qui premire vue paraissent dsordonnes. Plusieurs chercheurs
dont Sawada [127] ont par la suite men des investigations sur les arborescences de type
fractal. Cependant, la plupart des travaux publis sur la morphologie des dcharges portent sur
la gnration numrique par ordinateur darborescences de dcharges et non sur lanalyse
directe darborescences de dcharges observes exprimentalement. Les investigations de
Niemeyer et al [125] sont parmi les rares qui ont port sur le comptage visuel des branches
des dcharges en fonction de leurs rayons.
Dans ce chapitre, nous effectuons une analyse fractale des dcharges radiales issues de
nos exprimentations. Nous nous intresserons particulirement linfluence des proprits
des matriaux sur la morphologie de ces dcharges dans le but dtablir une relation
ventuelle entre la dimension fractale des dcharges obtenues en prsence de gaz (mlange) et
les proprits de ces matriaux. Dans nos travaux, lanalyse et le comptage des branches des
dcharges sont effectus laide dun programme informatique conu cet effet afin de
rduire au minimum les erreurs et dobtenir des rsultats fiables. Dans ce chapitre, nous
tudions galement les courants associs aux dcharges.

2Techniquesdedterminationdeladimensionfractale

Diffrentes mthodes de calcul de la dimension fractale existent [150]. Les mthodes les
plus adaptes au cas des dcharges radiales surfaciques sont la mthode de quadrillage et la
mthode des relations de mesure fractale. Chacune de ces deux mthodes est base sur
lanalyse directe dimages binaires de dcharges radiales.

2.1Mthodedequadrillage
Les techniques danalyse fractale bases sur le comptage visuel du nombre de branches
constituant la dcharge (utilises par Niemeyer et al) sont trs laborieuses et la marge
derreurs dans ce cas peut tre leve. Pour cette raison, nous avons utilis un programme
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informatique, capable deffectuer le comptage des branches partir de photographies
numriques de dcharges transformes en binaire. Cette dmarche a principalement t
motive par le souci de minimiser les erreurs de comptage et dobtenir ainsi des rsultats
fiables avec un gain de temps optimal.

Dans la mthode de quadrillage, encore appele Box-counting method (mthode des
botes), la dimension fractale D de la dcharge est estime en utilisant des botes. Cette
mthode consiste couvrir entirement toutes les arborescences de la dcharge dun maillage
botes de taille l, puis de compter le nombre de carrs (ou botes) N contenant nimporte
quelle partie de la dcharge. La taille des mailles est change chaque tape de la procdure
laquelle est rpte plusieurs fois. La relation donnant le nombre de botes en fonction de la
taille des boites N(l) permet de dterminer la dimension fractale D des dcharges daprs les
expressions suivantes :
D
l l N

~ ) ( (5.1)

do

l
l N
D
l
log
) ( log
lim
0
= (5.2)

2.2Mthodedesrelationsdemesurefractale
La mesure de la dimension fractale D seffectue en fonction de la longueur totale de

toutes les branches constituant la dcharge L(R) contenues dans un cercle de rayon R pour
diffrentes valeurs de R. Lexpression de la dimension fractale D est [129] :

(5.3)

Lexpression de D est
(5.4)

avec d
e
la dimension Euclidienne et (r) la densit radiale de branches sur un cercle de rayon
r. Notons cependant que d
e
= 2 pour les dcharges surfaciques.

(r) est donne par la relation :
t
e
l
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0
0
4
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0
0
9

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(5.5)

(5.6)

Le programme de calcul de cette mthode consiste dterminer les coordonnes du
centre de la dcharge correspondant au point de dpart de toutes les branches. A partir de ce
centre, le programme trace des cercles virtuels concentriques autour du point de rfrence. Le
rayon des cercles crot de lunit jusqu la valeur de la longueur finale des branches couvrant
ainsi toute la surface de la dcharge. Les figures 5.1 et 5.2 obtenues par Kebbabi et Beroual
[147] pour des interfaces solide/liquide illustrent la variation du nombre de branches par
rapport au rayon de la dcharge et le diagramme du niveau de gris sur le contour de lun des
cercles virtuels de rayon r
j
. Les pics observs sur ce dernier correspondent au nombre de
branches n
j
(r
j
) correspondant au rayon r
j
.

Figure 5.1 Variation du nombre de branches en fonction du rayon de propagation de la
dcharge [147]

t
e
l
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0
0
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Figure 5.2 Diagramme du Niveau du gris en fonction de langle thta reprsentant lintensit
lumineuse le long dun contour circulaire de rayon R [147]

Aprs avoir rpt cette opration pour toutes les valeurs de r. Ils ont obtenu le nombre
de branches pour les valeurs ascendantes de r. A partir de la valeur n(r), la densit radiale des
branches (r), la distance moyenne entre deux branches voisines (r), et la longueur totale de
toutes les branches qui constituent la dcharge L(R), contenues dans un cercle de rayon r sont
obtenues. Le trac de L(R) = f (R) en coordonnes bi-logarithmiques leur a permis dobtenir
une estimation de la dimension fractale D qui reprsente la pente de la partie linaire de la
courbe.
Lavantage de cette mthode est quelle ne ncessite aucune transformation de limage
originale qui peut provoquer une perte dinformation ; son inconvnient est dobtenir, quel
que soit le cas tudi, une dimension fractale D gale la dimension Euclidienne D ~ 2. Cela
est d linvariance de la densit radiale des branches par rapport au rayon R [147]. Compte
tenu de cette limite, nous avons donc choisi dutiliser la mthode de quadrillage pour analyser
linfluence de lpaisseur du matriau et de la pression du gaz sur la dimension fractale des
dcharges.

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0
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3Analysefractaledesdchargesradialesparlamthode
desbotes

3.1Conversiondimages
Pour analyser la dimension fractale D des dcharges glissantes, nous avons considr
des dcharges de 44 mm et 46 mm de longueur finale pour valuer respectivement linfluence
de lpaisseur du matriau et de la pression du gaz. Les tableaux 5.1 et 5.2 donnent les valeurs
de tensions moyennes ncessaires pour obtenir une dcharge de 44 et 46 mm de longueur
finale pour diffrents matriaux en fonction de lpaisseur et de la pression du gaz.
Pour lanalyse de linfluence de lpaisseur du matriau, la tension applique pour
chaque paisseur est progressivement augmente jusqu lobtention dune dcharge de
longueur finale L
f
= 44 mm tandis que pour celle de la pression du gaz, la tension applique
pour chaque pression est progressivement augmente jusqu obtenir une longueur finale de L
f

= 46 mm. Les figures 5.3 et 5.4 donnent quelques exemples dimages permettant danalyser le
comportement fractal des dcharges.

Matriau e=2mm e=4mm e=6mm
PTFE(c
r
=2,1) 33,6kV 35,5kV 38kV
Epoxy(c
r
=3,4) 32kV 34 35,5kV
Verre(c
r
=5) 24kV 27kV 31kV

Tableau 5.1 Tension ncessaire lobtention dune dcharge de 44 mm de longueur finale
pour des matriaux dpaisseurs diffrentes en prsence de SF
6
sous 0,1 MPa

Matriau P=0,15MPa P=0,3MPa P=0,5MPa
PTFE(c
r
=2,1) 35kV 36,8kV 41kV
Epoxy(c
r
=3,4) 33,4kV 35.6 37kV
Verre(c
r
=5) 25kV 28kV 30,2kV

Tableau 5.2 Tension ncessaire lobtention dune dcharge de 46 mm de longueur finale
pour diffrents matriaux de 2 mm dpaisseur en prsence de SF
6
sous diffrentes pressions

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Figure 5.3 Dcharges glissantes se propageant sur des chantillons de Tflon (PTFE-E)
dpaisseurs diffrentes sous tension impulsionnelle en polarit positive : (a) image originale
et (b) image binarise correspondante

e=2mm
e=4mm
e=6mm
0.1MPa
0.1MPa
0.1MPa
+34kVSF
6
+35kVSF
6
+38kVSF
6
(a)
(b)
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Figure 5.4 Dcharges glissantes se propageant sur des chantillons de Tflon (PTFE-E) pour
diffrentes pressions sous tension impulsionnelle en polarit positive : (a) image originale et
(b) image binarise correspondante
(a)
(b)
+35kVSF
6
e=2mm 0,15MPa
+37kVSF
6
e=2mm
0,3MPa
+40kVSF
6
e=2mm
0,5MPa
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(a)
(b)
(c)
(d)
3.2Codedecalculinformatique
Le calcul consiste dans une premire tape transformer les images originales des
dcharges en binaire (noir et blanc) comme illustr par les figures 5.1a et 5.2a. Les
informations contenues dans limage de la dcharge sont transformes en une matrice de
580x780 lments. Les lments de la matrice sont des entiers dont la valeur est comprise
entre 1 (reprsente le noir) et 255 (reprsente le blanc) reprsentant les donnes relatives la
couleur de chaque pixel de limage. Les valeurs intermdiaires entre 1 et 255 reprsentent les
nuances de gris. Ces images sont ensuite traites par un code de calcul conu cet effet sous
Matlab. Une illustration de la mthode de quadrillage est donne par la figure 5.5.

Figure 5.5 Principe de la mthode de quadrillage appliqu une dcharge se propageant sur
un chantillon de PTFE-E de 2 mm dpaisseur : (a) image originale, (b) image en binaire
correspondante, (c) image couverte par un maillage carr de cot l = 45 pixels et (d) image
couverte par un maillage de cot l = 15 pixels
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0
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Son principe consiste gnrer un maillage carr de cot l couvrant totalement la
dcharge. Le nombre de carrs (ou boites) du maillage contenant une branche, aussi minime
soit elle, de la dcharge N(l) est compt pour chaque valeur de l. Aprs cette opration, la
caractristique N = f (l) est trace dans un systme logarithmique de coordonnes. La pente de
la partie linaire de chaque caractristique trace permet de dduire la valeur de la dimension
fractale D correspondante de la charge.

3.3Influencedelpaisseurdumatriau
Les rsultats de lanalyse fractale effectue en utilisant la mthode de quadrillage sont

illustrs par les figures 5.6, 5.7 et 5.8. La dimension fractale D pour chaque cas est la pente
dduite de la caractristique reprsentant le nombre de botes en fonction de la taille des
botes N = f ( l ). Ces courbes permettent dobserver que, quelle soit le type de dilectrique
solide utilis (verre, Epoxy ou PTFE), plus lpaisseur du solide est leve, plus la dimension
fractale D est faible. Par ailleurs, pour un matriau dpaisseur donne, la dimension fractale
D augmente avec la constante dilectrique c
r
du solide isolant. Pour les chantillons en verre
(c
r
=5), la dimension D est plus leve que pour la rsine poxy (c
r
=3,4) et le PTFE (c
r
=2,1).
Les dimensions fractales les plus faibles ont t obtenues avec les chantillons en PTFE.
En consquence, nous pouvons donc voquer lexistence dune relation entre lpaisseur
e et la permittivit relative c
r
de lisolant solide, et la dimension fractale D des dcharges
glissantes radiales en prsence dun gaz. D reprsente le degr de ramification de la dcharge.

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Tai ll e des boi tes l (Pi xel)
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N
e =2 mm
e =4 mm
e =6 mm
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t
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s

N
e =2 mm
e =4 mm
e =6 mm

Figure 5.6 Caractristiques reprsentant le nombre de boites N en fonction de la taille des
boites l pour des dcharges se propageant sur des chantillons en verre dpaisseurs
diffrentes sous 0,1 MPa ; D 1.77, 1.70, 1.65 respectivement pour (e = 2 mm, +24 kV), (e
= 4 mm, +27 kV) et (e = 6 mm, +31 kV)

boites l pour des dcharges se propageant sur des chantillons en rsine poxy dpaisseurs
diffrentes sous 0,1 MPa ; D 1.64, 1.58, 1.53 respectivement pour ( e = 2 mm, +31 kV), (e
= 4 mm, +33,6 kV) et (e = 6 mm, +36 kV)
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N
e =2 mm
e =4 mm
e =6 mm

boites l pour des dcharges se propageant sur des chantillons en Tflon (PTFE-E)
dpaisseurs diffrentes sous 0.1 MPa ; D 1.51, 1.45, 1.41 respectivement pour (e = 2
mm, +34 kV), (e = 4 mm, 35 kV) et e = 6 mm, +38 kV)
3.4Influencedelapressiondugaz

Nous avons montr dans le chapitre 4 que la longueur finale des dcharges dpend de la
pression du gaz pour une tension et un matriau dpaisseur donns. Plus la pression
augmente, plus la longueur finale des dcharges ainsi que la densit des branches diminuent
[151]. Dans cette partie, nous nous intresserons plus particulirement linfluence de la
pression du gaz sur la dimension fractale D des dcharges dans le but dtablir une relation
ventuelle entre P et D. Pour cela, nous maintenons lpaisseur e des matriaux constante et
augmentons progressivement la valeur crte de la tension jusqu obtenir des dcharges de 46
mm de longueur finale pour 0.15, 0.3 et 0.5 MPa. Les figures 5.9, 5.10 et 5.11 reprsentent les
rsultats de lanalyse fractale obtenus par la mthode de quadrillage. La dimension D est la
pente dduite de la caractristique reprsentant le nombre de botes en fonction de la taille des
botes N = f ( l ). Nous pouvons constater travers ces caractristiques que quelle que la
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P =0.15 MPa
P =0.3 MPa
P =0.5 MPa
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N
P =0.15 MPa
P =0.3 MPa
P =0.5 MPa
nature du matriau isolant solide utilis (verre, Epoxy ou PTFE), la dimension fractale D
augmente lorsque la pression diminue.

boites l pour des dcharges se propageant sur des chantillons en verre de 2 mm dpaisseur;
D 1.78, 1.74, 1.66 respectivement pour (P = 0.15 MPa, +26 kV), (P = 0.3 MPa, 27.8 kV)
et (P = 0.5 MPa, +32 kV)

boites l pour des dcharges se propageant sur des chantillons en rsine poxy de 2 mm
dpaisseur; D 1.62, 1.58, 1.52 respectivement pour (P = 0.15 MPa, +33,6 kV), (P = 0.3
MPa, +35,6 kV) et (P = 0.5 MPa, +37 kV)
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N
P =0.15 MPa
P =0.3 MPa
P =0.5 MPa

boites l pour des dcharges se propageant sur des chantillons en Tflon (PTFE-E) de 2 mm
dpaisseur ; D 1.53, 1.52, 1.40 respectivement pour (P = 0.15 MPa, +35 kV), (P = 0.3
MPa, +37 kV) et (P = 0.5 MPa, +40 kV)

En dautres termes, plus la pression est faible, plus la dcharge est ramifie. Par
consquent, la dimension fractale des dcharges radiales en prsence dun gaz semble
dpendre de la pression du gaz indpendamment de la tension applique et de lpaisseur du
solide. Dautre part, D augmente avec la constante dilectrique du matriau. Elle est plus
leve avec le verre quavec la rsine Epoxy et le PTFE.

4Courantsassocisauxdcharges
Les mesures de courants associs ont t simultanment effectues avec

lenregistrement de la dcharge en polarit positive et ngative laide dune sonde non
inductive de 50 5% connecte en srie avec la cellule. La procdure exprimentale a t
dcrite dans le chapitre 2.

4.1Courantsassocisauxdchargespositives

En polarit positive, le courant associ la dcharge mesur sur un chantillon de PTFE
(PTFE-E) de 2 mm dpaisseur en prsence de SF
6
sous 0,03 MPa est constitu de plusieurs
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pics discrets (figure 5.12) dont lamplitude maximale dpend de la tension applique. Les pics
observs peuvent tre assimils une propagation par bonds de la dcharge. Les impulsions
ont une amplitude importante au dbut de lenregistrement et une dure brve correspondant
au front de monte de la tension de foudre.

Figure 5.12 Courants associs aux dcharges positives pour un chantillon de Tflon (PTFE-
E) de 2 mm dpaisseur en prsence de SF
6
sous une pression de 0,03 MPa : (a) 7 kV, (b) 12
kV et (c) 17 kV)

(c)
(a)
(b)
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4.2Courantsassocisauxdchargesngatives
Les enregistrements de courants de dcharges mesurs en polarit ngative sont illustrs

par la figure 5.13. Ils ont galement t obtenus avec le mme matriau et dans les mmes
conditions exprimentales que dans le cas de la polarit positive.

Figure 5.13 Courants associs aux dcharges ngatives pour un chantillon de Tflon
6
sous une pression de 0,03 MPa : (a) 7 kV,
(b) 12 kV et (c) 17 kV)
(a) (a)
(b)
(c)
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SF60.1MPae=2mm(+)
0
200
400
600
800
1000
1200
1400
1600
1800
2000
12 16 20 24 28 32
Tension(kV)
V
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n
n
e
(
k
m
/
s
)
Verre
PTFEE
Le courant est constitu de plusieurs impulsions discrtes (figures 5.12 et 5.13) dont
lamplitude crot avec la tension applique. Le courant commence circuler juste aprs
lapplication de la tension 1,2/50 s avant de sattnuer et devenir nul au bout de quelques
secondes. La propagation de la dcharge (streamer) est stoppe ds quil atteint la valeur zro
[152]. La figure 5.13 nous permet galement de constater que les pics constituant le courant
diminuent avec le temps. Ce phnomne est aussi observ dans le cas positif. Des rsultats
similaires ont t obtenus par Nishi et al [152]. Notons, cependant, que pour les mmes
valeurs (crte) de tension, lamplitude des courants ainsi que la longueur finale des dcharges
sont plus importantes en polarit positive quen polarit ngative. Ainsi, les pics de courants
associs aux dcharges diminuent avec laugmentation du temps de propagation de la
dcharge quelle que soit la polarit de la tension.

4.3Vitessemoyennedesdcharges
La vitesse moyenne de propagation des dcharges peut tre estime partir de la

longueur finale L
f
et le temps de propagation T
f
des dcharges (V = L
f
/ T
f
). T
f
est le temps
final correspondant approximativement larrt de la propagation de la dcharge .La figure
5.14 montre une volution de la vitesse des dcharges sur deux matriaux diffrents (Verre et
PTFE) en prsence de SF
6
. Les vitesses obtenues sont de lordre de 10
8
cm/s comparables
celles obtenues par dautres chercheurs [153, 154]. Une lgre augmentation de la vitesse a
t galement rapporte par Okubo et al [124]. Dautre part, une propagation plus rapide sur
le verre par rapport au PTFE a t observe, ce qui indique que la vitesse dpend du type de
matriau.

Figure 5.14 Evolution de la vitesse moyenne des dcharges en fonction de la tension positive
applique pour le verre et le PTFE de 2 mm dpaisseur en prsence de SF
6
sous une pression
de 0,1 MPa
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Cela pourrait sexpliquer par la diffrence entre la rigidit dilectrique (champ critique,
permittivit relative etc.) ainsi que le potentiel dionisation des deux matriaux. Plus le
potentiel dionisation du matriau est faible, plus les dcharges ont tendance se propager
plus rapidement sa surface. En effet, le potentiel dionisation du PTFE (9,8 eV) est
suprieur celui du verre (5 6 eV) [155,156].

4.4Dchargessecondaires

Sur une base (chelle) de temps relativement large, les enregistrements de courants
associs aux dcharges rvlent lexistence dune dcharge secondaire qui se manifeste
approximativement autour de 50 60 s aprs lapparition de la dcharge principale. Le
courant correspondant la dcharge secondaire est damplitude moindre et de signe oppos
celui de la tension applique. En dautres termes, il est positif pour une tension ngative et
vice versa avec une amplitude plus faible. Ce phnomne a t observ pour les deux
polarits. Une illustration des dcharges secondaires est donne par les figures 5.15 et 5.16.
Cela pourrait sexpliquer par laccumulation de charges surfaciques la surface du
dilectrique solide. Notons que le temps dapparition des dcharges secondaires pourrait
varier en fonction du caractre alatoire des charges surfaciques.

Figure 5.15 Illustration dune dcharge secondaire de signe oppos celui de la dcharge
principale rvle par un enregistrement de courant effectu sur un chantillon en Tflon
6
sous 0,03 MPa et une tension (crte)
positive de 13 kV
Dchargesecondairengative
Dchargeprincipalepositive
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Figure 5.16 Illustration dune dcharge secondaire de signe oppos celui de la dcharge
principale rvle par un enregistrement de courant effectu sur un chantillon en PTFE
6
sous 0,03 MPa et une tension (crte)
ngative de 26 kV

Pour une tension applique de polarit positive, la prsence dune dcharge ngative
peut, du premier coup, sembler absurde. Cependant, cela pourrait sexpliquer par leffet de la
charge dpose la surface (charge surfacique) du solide sur lvolution de la tension et par
consquent du champ lectrique au voisinage de la pointe. Pour mieux tudier ce phnomne,
nous avons calcul la charge corrle la tension et au courant en utilisant la mthode des
charges quivalentes [157]. Cette mthode consiste remplacer un systme de conducteurs
par des charges fictives en utilisant une configuration gomtrique simple permettant de crer
une distribution de potentiel et du champ quivalente celle des lectrodes relles. A cet effet,
nous allons remplacer notre configuration dlectrodes pointe - plan par un systme constitu
dune sphre isole correspondant llectrode pointe et un disque uniformment charg
reprsentant la charge surfacique dpose. La figure 5.17 est une illustration synoptique du
systme considr.

Dchargesecondairepositive
Dchargeprincipalengative
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Figure 5.17 Illustration de la configuration permettant de remplacer le systme
dlectrodes pointe - plan

Ainsi, le potentiel la surface de la pointe, reprsentant en mme temps la tension applique
U, sexprime comme suit :

q Q
V V Q P + = =
(5.7)

o V
Q
et

Vq sont respectivement le potentiel cr par le disque charg uniformment et celui
cr par la charge induite la pointe. Ces potentiels sont donns par les relations [158] :

(5.8)

(5.9)

R est le rayon du disque charg uniformment (reprsentant la longueur finale de la dcharge
L
f
= 33 mm), d la distance sparant la tte de la pointe et la surface du dilectrique solide (d
- - - - - - - - - - - -
Chargeqinduitelapointe
Disquecharg
uniformment
D=2R
Potentiellasurface
delapointe
q
-
P
r
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est quasiment nul dans notre cas environ 1 mm pour viter le phnomne du point triple) et
r
o
le rayon de courbure de la pointe.

En remplaant les quations (5.8) et (5.9) par leurs expressions dans lquation (5.7), on aura :
(5.10)

En appliquant le thorme de Gauss, le champ lectrique au point P, rgi par la charge induite,
est donn par lexpression :

(5.11)

Lvolution temporelle de la charge corrle avec la tension et le courant est donne par la
figure 5.18. La charge obtenue est calcule partir de donnes exprimentales issues dune
dcharge positive se propageant sur un chantillon en PTFE (PTFE-E) de 2 mm dpaisseur
sous une tension de 20 kV.
Lanalyse de la figure 5.18 permet dobserver une phase de propagation de la dcharge aprs
lapplication de la tension. Le champ lectrique est suffisamment lev pour provoquer la
gnration des dcharges. Pendant cette priode, le courant constitu de pics discrets
augmente avec la tension. Quant la charge Q, elle crot avec le temps.

Au bout de quelques microsecondes, survient lextinction du courant correspondant larrt
de la propagation de la dcharge principale. A cet instant, la tension est lgrement infrieure
celle applique. Le courant enregistr partir de cet instant jusquau temps correspondant
lapparition de la dcharge secondaire est trs faible (quasiment nul). Cela engendre une
volution de la charge Q en fonction du courant. En consquence, le champ lectrique suit
lvolution temporelle de la tension.

Entre 50 et 60 s, une dcharge ngative est gnre alors que la tension applique est
toujours positive. Cela est d linfluence des charges surfaciques, prcdemment
accumules la surface de lisolant solide, sur lvolution du champ lectrique. Lamplitude
des pics de courant, la dure de propagation ainsi que la charge Q de cette dcharge
secondaire sont faibles par rapport celles de la dcharge principale. Un agrandissement du
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courant de la dcharge secondaire ainsi que de la charge correspondante entre 49,75 et 53,75
s est illustr par la figure 5.19.
Dautre part, lamplitude de la charge secondaire accumule dpend galement de la nature
des charges prsentes dans le PTFE (tflon). Elle est moins importante pour des isolateurs
(isolant solide) chargs avec C (PTFE-C) et D (PTFE-D) quavec les autres charges G, E, F
(PTFE-G, PTFE-E ou encore PTFE-F). Ainsi, ces matriaux seraient plus indiqus pour des
applications haute tension puisque les dcharges principales et secondaires y sont moins
longues.

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Figure 5.18 Evolution temporelle de la tension U(t), du courant i(t)et de la charge Q(t) sur un
chantillon en Tflon (PTFE-E) de 2 mm dpaisseur sous une tension positive de 20 kV
0 10 20 30 40 50 60
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Temps [s]
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Dchargesecondaire
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Temps [s]
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Chargecorrespondantla
dchargesecondaire
Dchargeprincipale
U(t)
I(t)
Q(t)
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Figure 5. 19 Agrandissement du courant de la dcharge secondaire (a) et de lvolution de la
charge correspondante (b)

5Conclusion

Dans ce chapitre, nous avons tabli une relation entre les proprits du solide
dilectrique et la dimension fractale des dcharges se propageant sa surface en prsence de
gaz. Il sagit notamment de la permittivit et de lpaisseur des isolants solides. Nous avons
galement pu montrer que la dimension fractale des dcharges pour un matriau donn est
influence par la pression des gaz utiliss. Ainsi, grce lutilisation des techniques de la
gomtrie fractale, nous avons dcrit mathmatiquement le degr de ramification des
dcharges surfaciques issues de nos expriences. En utilisant la mthode de quadrillage (ou
des botes), nous avons montr que la dimension fractale D des dcharges diminue lorsque
50 50.5 51 51.5 52 52.5 53 53.5
-16
-14
-12
-10
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Temps [s]
C
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[
m
A
]
50 50.5 51 51.5 52 52.5 53 53.5
2.4
2.6
2.8
3
3.2
3.4
3.6
3.8
x 10
-3
Temps [s]
C
h
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[
m
C
]
(a)
(b)
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lpaisseur e du solide et la pression du gaz augmentent et/ou sa permittivit dilectrique
diminue indiquant ainsi limplication des phnomnes capacitifs sur le mode de propagation
des dcharges glissantes.

Dautre part, les enregistrements de courants de dcharge aux interfaces gaz/solide nous
ont permis de mettre en vidence lexistence dune dcharge secondaire de signe contraire
celui de la dcharge principale et de la tension applique. Cela pourrait tre d
laccumulation de charges surfaciques la surface du solide dilectrique. La corrlation entre
la tension, le courant et la charge dpose Q montre linfluence des charges surfaciques sur
les caractristiques des dcharges glissantes en prsence de gaz notamment sur leur mode de
propagation.

Nous avons galement montr que la charge secondaire accumule est fonction de la
nature des charges prsentes dans le Tflon. En effet la longueur finale de la dcharge
principale ainsi que celle associe la dcharge secondaire sont moins importantes pour des
isolateurs (isolant solide) en Tflon charg avec C (PTFE-C) et D (PTFE-D) quavec les
autres charges. Ainsi, ces matriaux seraient plus indiqus pour des applications haute tension
puisque les tensions de contournement y seront plus leves.

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Ce travail nous a permis danalyser : (1) la tenue dilectrique de gaz industriels et de

mlanges (SF
6
, N
2
, CO
2
, SF
6
- N
2
et SF
6
- CO
2
) dans diffrentes gomtries dlectrodes ; (2)
de caractriser les dcharges lectriques se propageant sur divers types de solides
dilectriques (PTFE avec diffrentes charges, rsine Epoxy, verre) en prsence de ces gaz
(mlanges), sous tension impulsionnelle de foudre (1,2/50 s) dans une configuration
dlectrodes pointe plan ; et (3) de dgager les faits les plus marquants relatifs la
morphologie, la longueur finale et les courants associes ces dcharges glissantes. Le choix
de ces matriaux a t motiv par leur utilisation courante dans les matriels lectriques.
Lune des applications concerne est celle des disjoncteurs haute et moyenne tensions (buse).

Nous avons montr que lamplitude, la forme et la polarit de la tension, la nature et
lpaisseur du dilectrique solide, le type de gaz (mlange) ainsi que la pression et la
concentration des constituants du mlange jouent un rle important dans la gnration et la
propagation des dcharges (tension de gnration, forme et longueur finale des dcharges,
courant et charge associs).

Sous tension impulsionnelle, les dcharges glissantes ne sont pas forcment radiales
contrairement ce qui a t rapport dans la littrature. Lorsquelles sont radiales, les
extensions maximales de leurs branches forment un contour circulaire autour de llectrode
pointe. La forme de ces dcharges est fonction de la nature de lisolant solide et du gaz
(mlange), de lamplitude et de la polarit de la tension ainsi que du niveau de pression du
gaz. La longueur finale L
f
des dcharges augmente quasi linairement avec lamplitude de la
tension applique et diminue lorsque la pression du gaz augmente et/ou lpaisseur de
lisolateur augmente. Pour une tension et une pression donnes, les dcharges surfaciques sont
dautant plus courtes et moins ramifies que la permittivit dilectrique de lisolateur est
faible. Aussi pour une tension et un matriau donns, L
f
est plus lev en polarit positive
quen polarit ngative, ce qui indique que la polarit la plus contraignante est la polarit
positive. Le fait que lorsque lpaisseur (e) du matriau augmente, la capacit du condensateur
constitu par lisolateur insr entre les lectrodes diminue et par consquent L
f
diminue et
conduit laugmentation de la tension de contournement, ce qui est dune importance capitale
pour le dimensionnement des structures isolantes industrielles. Ce phnomne capacitif est
confirm par le concept de capacit diffrentielle.
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Le calcul de champ lectrique par lments finis (Flux 2D/3D) montre que la
permittivit relative (c
r
) des matriaux a une influence considrable sur la tension de
gnration des dcharges indpendamment du type de gaz. Le renforcement du champ au
voisinage de la pointe est dautant plus important que la diffrence entre la constante
dilectrique du matriau et celle du gaz est grande.

Lenregistrement des courants associs aux dcharges glissantes nous ont permis de
mettre en vidence lexistence dune dcharge secondaire de signe oppos celui de la
dcharge principale et de la tension applique. Cela pourrait tre d laccumulation de
charges surfaciques la surface du solide dilectrique. Aussi, les matriaux pour lesquels les
dcharges glissantes sont plus courtes accumulent moins de charges surfaciques et les
courants (charge lectrique) correspondants la dcharge secondaires sont moins importants.

Lanalyse fractale nous a permis dtablir une relation entre les proprits physiques et
gomtriques du solide dilectrique, la nature du gaz (mlange) et sa pression, et la dimension
fractale des dcharges surfaciques. En utilisant la mthode des botes (ou de quadrillage) nous
avons montr que la dimension fractale D des dcharges diminue lorsque lpaisseur e du
solide et la pression du gaz augmentent et/ou la permittivit relative du solide diminue
indiquant ainsi limplication de phnomnes capacitifs dans les mcanismes de propagation
des dcharges surfaciques.

En perspective, nous recommandons :

Une caractrisation exprimentale des mmes gaz et matriaux solides sous tension
alternative et continue ;

Une caractrisation exprimentale dautres types de matriaux en prsence dautres
gaz et mlanges (cologiques) sous tension alternative, continue et impulsionnelle.

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A1Propritsdelazote(N
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)
Dimension molculaire : 3 4 Angstrms

Masse molaire
- Poids molculaire : 28,0134 g/mol
Phase solide
- Point de fusion : - 210 C
- Chaleur latente de fusion (1,013 bar, au point triple) : 25,73 kJ/kg
Phase liquide
- Masse volumique de la phase liquide (1,013 bar au point d'bullition) :
808,607 kg/m
3

- Equivalent gaz/liquide (1,013 bar et 15 C) : 691 vol/vol
- Point d'bullition (1,013 bar) : -195,9 C
- Chaleur latente de vaporisation (1,013 bar au point d'bullition) : 198,38 kJ/kg
Point critique
- Temprature critique : -147 C
- Pression critique : 33,999 bar
- Masse volumique critique : 314,03 kg/m
3

Point triple
- Temprature au point triple : -210,1 C
- Pression au point triple : 0,1253 bar
Phase gazeuse
- Masse volumique du gaz (1,013 bar au point d'bullition) : 4,614 kg/m
3

- Masse volumique de la phase gazeuse (1,013 bar et 15 C) : 1,185 kg/m
3

- Facteur de compressibilit (Z) (1,013 bar et 15 C) : 0,9997
- Masse volumique (air = 1) (1,013 bar et 21 C) : 0,967 par rapport lair
- Volume spcifique (1,013 bar et 21 C) : 0,862 m
3
/kg
- Chaleur spcifique pression constante (Cp) (1,013 bar et 25 C) : 0,029
kJ/(mole.K)
- Chaleur spcifique volume constant (Cv) (1,013 bar et 25 C) : 0,02
kJ/(mole.K)
- Rapport des chaleurs spcifiques (Cp/Cv) (1,013 bar et 25 C) : 1,403846
- Viscosit (1,013 bar et 0 C) : 0,0001657 Poise
- Conductivit thermique (1,013 bar et 0 C) : 24 mW/(m.K)
Autres donnes
- Solubilit dans l'eau (1,013 bar et 0 C) : 0,0234 vol/vol
- Concentration dans l'air : 78,08 % vol
A2Propritsdudioxydedecarbone(CO
2
)
Masse molaire
- Poids molculaire : 44,01 g/mol
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Phase solide
- Masse volumique du solide : 1562 kg/m
3

Phase liquide
- Masse volumique de la phase liquide ( -20 C et 19,7 bar) : 1032 kg/m
3

- Equivalent gaz/liquide (1,013 bar et 15 C (par kg de solide)) : 845 vol/vol
- Point d'bullition (Sublimation) : -78,5 C
- Pression de vapeur ( 20 C) : 58,5 bar
Point critique
- Temprature critique : 31 C
- Masse volumique critique : 464 kg/m
3

Point triple
Phase gazeuse
- Masse volumique du gaz (1,013 bar au point de sublimation) : 2,814 kg/m
3

3

3
/kg
kJ/(mole.K)
- Chaleur spcifique volume constant (Cv) (1,013 bar et 25 C) : 0,028
kJ/(mole.K)
- Rapport des chaleurs spcifiques (Cp/Cv) (1,013 bar et 25 C) : 1,293759
- Conductivit thermique (1,013 bar et 0 C) : 14,65 mW/(m.K)
Autres donnes
- Solubilit dans l'eau (1,013 bar et 0 C) : 1,7163 vol/vol
- Concentration dans l'air : 0,03 % vol
A3Propritsdelhexafluoruredesoufre(SF
6
)
Dimension molculaire : 4,77 Angstrms

Masse molaire
- Poids molculaire : 146.05 g/mol
Phase solide
Phase liquide
- Masse volumique de la phase liquide (au point triple) : 1880 kg/m
3

- Point d'bullition (Sublimation) : - 63,9 C
- Pression de vapeur ( 21 C) : 21,5 bar
Point critique
- Temprature critique : 45,5 C
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Point triple
Phase gazeuse
3

3
/kg
kJ/(mole.K)
- Conductivit thermique (1,013 bar et 0 C) : 12,058 mW/(m.K)
Autres donnes
- Solubilit dans l'eau (20 C et 1 bar) : 0,007 vol/vol
A4diagrammedephasedelhexafluoruredesoufre(SF
6
)
Fig.A1:CourbesdepressiondevapeuretlignesisodensesduSF
6
[PropritsetutilisationsduSF
6
danslesappareilsMTetHT,SchneiderElectric,CTn
188,fvrier2003]
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Lvolution de la pression (en MPa) en fonction de la temprature (C) est linaire et
relativementfaibledanslagammedestempraturesdeservice(25+50C).

A5Conductivitthermiquedelhexafluoruredesoufre(SF
6
)etdelazote(N
2
)
Fig.A2:ConductivitthermiqueduSF
6
etduN
2
enfonctiondelatemprature
[PropritsetutilisationsduSF
6
danslesappareilsMTetHT,SchneiderElectric,CTn
188,fvrier2003]
Auxtempraturesleves,lacourbedeconductivitthermiqueduSF
6
soulignelunedes
qualits remarquables de ce gaz concernant lextinction de larc par refroidissement
thermique. Le pic de conductivit thermique correspond la temprature de
dissociation de la molcule de SF
6
(2100 2500 K) qui saccompagne, lors de la
reformation de la molcule la priphrie de larc, dune absorption importante de
chaleurfavorisantleschangesrapidesdechaleurdumilieuchaudverslemilieufroid.
A6Ondenormalisedechocdefoudre1,2/50s
La figure A3 cidessous prsenteun choc de foudre plein (qui nest pas interrompu par
unedchargedisruptive)selonlaCEI6011989.
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- TempsdemontejusqulavaleurcrteT
1
(1,2s)
La dure de monte dun choc de foudre jusqu la valeur maximale (front) est un
paramtre conventionnel dfini comme 1,67 fois lintervalle de temps T compris entre
lesinstantsolatensionatteint30et90%delavaleurcrte(pointsAetBdelafigure
A3).
- TempsdedescentejusqulamivaleurT
2
(50s)
Le temps jusqu la mivaleur T

2
est dfini comme lintervalle de temps compris entre
lorigine conventionnelle O
1
(Fig. A3) et linstant o la tension tombe la moiti de la
valeurcrte.
LestolrancesappliquerunchocdefoudreselonlaCEI601sont:
Valeurcrte:3%
Duredufront(T
1
):30%
Durelamivaleur(T
2
):20%
Fig.A3Chocdefoudreplein[CEI6011989]
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Page216

A7Ondenormalisedemanuvre250/2500s
Selon la CEI601, une onde de manuvre normalise (Fig. A4) est une onde dont le
temps de monte jusqu la valeur crte (T
p
) est de 250 s, et le temps jusqu la mi
valeur(T
2
)de2500s.
LestolrancespourunetelletensionselonlaCEI601sont:
Valeurcrte:3%
Duredufront(T
p
):30%
Durelamivaleur(T
2
):60%
Dans certains cas, lorsque les objets en test sont par exemple de faible impdance, il
peuttredifficiledajusterlaformedelondepourresterdanslesgammesdetolrances
recommandes.Dansdetellessituations,dautrestolrancesouformesdondepeuvent
trespcifiesparlecomitdtudeconcern[CEI6011989].
Notons que ces deux types donde sont dlivrs par un gnrateur de choc (type Marx
parexemple)dontleprincipeestdechargerdescapacitsensriepuisdelesdcharger
enparallle.
Fig.A4Chocdemanuvreplein[CEI6011989]
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Mamadou Lamine COULIBALY 7 juillet 2009 Thse ECL 200913 Spcialit : Gnie Electrique

Laboratoire Ampre (CNRS UMR5005)
http://www.ampere-lab.fr

Direction de Recherche :
Prof. A. BEROUAL
Abderrahmane.Beroual@ec-lyon.fr
EcoleCentraledeLyon
36 avenue Guy de Collongue
69134 Ecully CEDEX (France)

Titre : Caractrisation des dcharges lectriques se propageant aux interfaces gaz/solide Relation
entre proprits des matriaux et dimension fractale

Rsum :
Ce travail porte sur ltude de la morphologie et de la longueur finale L
f
des dcharges se propageant sur
divers types de dilectriques solides (PTFE avec diffrentes charges, rsine Epoxy et verre) en prsence des gaz
SF
6
, N
2
et CO
2
ainsi que des mlanges SF
6
- N
2
et SF
6
- CO
2
, sous tension de foudre (1,2/50 s), en gomtrie
pointe - plan. Les matriaux considrs ont t choisis pour leur grande utilisation dans les applications haute et
moyenne tensions (disjoncteurs en particulier). Les caractristiques de la dcharge sont analyses en fonction de
lamplitude et de la polarit de la tension, de la nature et de lpaisseur de lisolant solide, du type et de la
pression du gaz (ou mlange) ainsi que de la concentration des gaz constituant le mlange. Il ressort des rsultats
obtenus que laspect morphologique des dcharges varie selon les constituants de linterface gaz/solide,
lamplitude et la polarit de la tension ainsi que la pression du gaz. En prsence dun gaz ou mlange donn, L
f

augmente quasi-linairement avec la tension et dcrot lorsque la pression, lpaisseur du solide dilectrique
et/ou le taux de SF
6
dans le mlange augmentent. Aussi, pour une tension et une pression donnes, L
f
est plus
lev en polarit positive alors que la tension dapparition des dcharges est plus leve en polarit ngative. Les
rsultats obtenus avec lazote et le mlange SF
6
- N
2
sont trs alatoires. Le calcul du champ par lments finis
(Flux 2D/3D) montre que le renforcement du champ au voisinage de la pointe est dautant plus important que la
diffrence entre la constante dilectrique du matriau solide et celle du gaz est grande. Les enregistrements de
courants associs aux dcharges ont rvl lexistence dune dcharge secondaire de signe oppos la tension
applique. Ce phnomne est d laccumulation de charges sur la surface de lisolant solide ; certains
matriaux accumulent moins de charges surfaciques et la longueur finale des dcharges qui sy dveloppent est
plus courte. Une relation entre le type de gaz (mlange) et sa pression, la nature du dilectrique solide et son
paisseur, et la dimension fractale D des dcharges a t tablie. D diminue lorsque lpaisseur e du solide et/ou
la pression du gaz augmente et/ou la permittivit dilectrique du solide diminue.

Mots cls : Dcharges glissantes ; Interface solide/gaz ; Streamers ; Contournement ; Dimension fractale.

Title: Characterization of creeping discharges propagating over gas/solid interfaces Relation
between materials properties and fractal dimension

Abstract :
This work deals with the study of morphology and final length L
f
of creeping discharges propagating over
different kinds of solid dielectrics (PTFE with various fillers, Epoxy resin and glass) in presence of SF
6
, N
2
and
CO
2
gases as well as SF
6
- N
2
and SF
6
- CO
2
mixtures, under lightning impulse voltage (1.2/50 s) using a point
- plane electrode arrangement. The materials we considered were selected for their wide use in high voltage
apparatus such as GIS and circuit breakers. The characteristics of creeping discharges are analyzed in function of
the amplitude and polarity of voltage, the kind and thickness of solid insulator, the type of gas (or mixtures) and
pressure as well as the concentration of constituents of mixtures. Its shown that the morphological of creeping
discharges depends on the components of solid/gas interface, the amplitude and polarity of voltage as well as the
gas pressure. In presence of a given gas (mixture), L
f
increases quasi-linearly with the voltage and decreases
when the pressure and/or the thickness of insulator and/or the rate of SF
6
in a given mixture increase. And for
given voltage and pressure, L
f
is higher when the point electrode is positive whereas the initiation threshold
voltage of discharges is higher with a negative point. The results obtained with nitrogen and SF
6
- N
2
gas mixture
are very scattered. The computation of electric field using the finite elements method (Flux 2D/3D codes) shows
that the electric field is enhanced in the vicinity of the point; its more important as the difference between the
dielectric constants of gas and solid material is high. The recordings of currents associated to discharges revealed
the existence of a secondary discharge of opposed sign to the applied voltage. This phenomenon is due to the
accumulation of charges at the surface of solid insulator; some materials accumulate less surface charges and the
final length of the discharges which develop over them is shorter. A relation between the type of gas (mixture)
and its pressure, the kind of dielectric solid and its thickness, and the fractal dimension D of discharges was
established. D decreases when the thickness e of solid and/or the pressure of gas increase and/or the dielectric
constant of insulator decreases.

Keywords: Creeping discharges; Solid/gas interface; Streamers; Flash over; Fractal dimension
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dordre : ECL 200913 Anne 2009

Ce travail de thse est laboutissement dune dynamique de collaboration entre le

Jexprime ma profonde reconnaissance et mes sincres remerciements mon

Mes remerciements vont Monsieur Laurent Nicolas, directeur du laboratoire

Je tiens remercier Monsieur J. L. BESSEDE, ancien responsable du LTM qui a bien

Je remercie vivement MonsieurGrard ROJAT professeur lUniversit Claude

Mes plus sincres remerciements lendroit de Madame Oana AITKEN, Docteur

Monsieur COULIBALY Abdoulah, prsident de lIHEM, pour son soutien prcieux

Les structures isolantes mixtes solide/gaz sont prsentes dans de nombreux

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Dimension molculaire : 3 4 Angstrms

Dimension molculaire : 4,77 Angstrms

Le temps jusqu la mivaleur T

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