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Rsum Il est dabord prsent un aperu des caractristiques spcifiques des processus et dapplication du criblage jet et du criblage
plan ainsi que du classement sur grille rouleaux. A laide danalyses thoriques particulires, de rsultats exprimentaux et dexprience pratique relative aux mouvements des surfaces criblantes et
des produits de criblage particules de forme cubique et oblongue
sur des cribles jet, les possibilits doptimisation de ceux-ci sont
prsentes laide du coefficient de machine K et du coefficient de
crible KV.
Resumen En primer lugar se presenta una vista general de caractersticas especficas de procesos y aplicaciones para el cribado y el
tamizado plano as como de la clasificacin sobre parrillas de rodillos. Con base en anlisis tericos especiales, resultados experimentales y experiencias prcticas sobre el movimiento del fondo perforado y del material de cribado de partculas cbicas y elongadas
en mquinas de criba, se procede a mostrar posibilidades de optimizacin para stas ltimas con la ayuda de la cifra caracterstica
de la mquina K y la cifra caracterstica de la criba KV.
1. Einleitung
1. Introduction
Die vielseitigen und steigenden Anforderungen an die Siebtechnik hinsichtlich der Bewltigung unterschiedlicher Siebgter sowie
hoher Durchstze bzw. Trennschrfen veranlassen die erfolgreichen Siebmaschinen- und -gertehersteller unter zunehmender
internationaler Konkurrenz zu stndigen Produkt- und Verfahrensinnovationen [1, 2, 3]. Allein Maschinen- und Gertetechnik
auf Weltniveau reichen nicht aus; technisch und wirtschaftlich optimierte Prozessfhrung ist auch in verfahrenstechnischen Unternehmen unverzichtbar. Ein derart gestalteter Siebprozess bietet
nicht nur klassiertechnische Vorteile, sondern auch Mglichkeiten
der Energie-, Siebflchen- und sogar der Raumeinsparung.
Eine wichtige Voraussetzung fr eine effektive Verfahrensgestaltung ist zunchst die richtige Wahl der jeweiligen Siebmaschinen- und -gerte. Diese hngt u. a. von der Art des Siebgutes, von
dessen Eigenschaften (z. B. Partikelgre und -form, Schttdichte, Flieeigenschaften, Feuchte u. .) sowie von den geforderten
Trennschrfen und Durchstzen ab. In zahlreichen Fllen sind
neben entsprechenden praktischen Erfahrungen auch wissenschaftliche Untersuchungen mit dem Ziel der Prozessoptimierung
hilfreich oder gar erforderlich [4].
*) Revised version of a paper presented at the conference Aufbereitung und Recycling at UVR-FIA GmbH on 13th November 2003 in
Freiberg
**) Bro fr Verfahrenstechnik, Tannenbergsthal/Saxony
42
2. Allgemeine bersicht ausgewhlter Verfahren: Wurfund Plansiebung sowie Klassierung auf Rollenrosten
Bei den meisten Siebverfahren sind die Siebgutbewegung und
-auflockerung sowie die Unterkornbewegung zur und durch die
semipermeable Trennflche von der geometrischen und werkstofflichen Beschaffenheit des Siebbodens sowie von der Art,
Form und Intensitt (z. B. Impulsstrke, Krfte) der Trennflchenbewegung abhngig. Vom Gesichtspunkt der Gutbewegung
auf dem Siebboden sollen zunchst die ausgewhlten Siebverfahren Wurf- und Plansiebung sowie Klassierung auf Rollenrosten
gegenbergestellt werden. Die Siebbetthhe H, die prozessbestimmenden Krfte F und die Partikelgeschwindigkeiten v parallel zur Siebflche sind neben der Siebbodenbeschaffenheit
magebend fr den Sieberfolg und den Volumendurchsatz. In Bild
1 werden die o. g. drei Siebverfahren mit den Parametern H, F und
v den spezifischen Siebguteigenschaften bzw. Flieeigenschaften
[5] (leicht flieend, kohsiv und nicht flieend) gegenbergestellt.
Bei der Wurfsiebung (Bild 1A) unterscheidet man je nach Gutbetthhe H in Dickschicht- und Dnnschichtsiebung.
Die Dickschichtsiebung (Bild 1Aa) ist durch relativ groe Siebbetthhen (H = 3 bis 5 l) gekennzeichnet. Durch die auflockernde Wirkung der Siebbodenvibration segregieren die Unterkornpartikel Schritt fr Schritt aus den entfernteren Bettschichten zur
Trennflche [4]. Dabei gelangen linien-, kreis- oder ellipsenfrmige
Impulse indirekt ber den Siebkasten in den Siebboden und von
dort in die darberliegenden Siebgutschichten. Dabei nehmen die
von der vibrierenden Siebflche auf die Gutpartikel bertragenen
Stokrfte Fst und auch die Transportgeschwindigkeit vtr mit steigender Entfernung h von der Siebflche (Betthhe H) degressiv
ab (Bild 1Aa (weitere Ausfhrungen siehe Abschnitt 3.7.1.)). Die
indirekt erregten Siebmaschinen knnen auf Grund relativ groer
Siebkasten- und Antriebsmassen (Motor, Wellen, Wlzlager u..)
nur mit Maschinenkennzahlen K (siehe Abschnitt 3.3) von maximal 6 bis 8 betrieben werden. Das wiederum begrenzt den Einsatz
dieser Maschinen auf leicht flieende (z. B. Quarzsand u. .) bis
gering kohsive Siebgter (Bild 1Aa I bis II).
Bei der Dnnschichtsiebung (Bild 1Ab) werden meist direkt
und senkrecht (z. B. mit Schlagleisten) erregte Siebbden eingesetzt. Diese Siebflchen werden bis maximal 50 geneigt angeordnet. Das als Mono- oder Doppelschicht (H = 1 bis l) aufgege-
43
bene Siebgut wird sofort nach seinem Auftreffen auf der Siebflche durch senkrecht eingeleitete Impulse schlagartig aufgelockert und in Mikrowurfbewegungen ber die Flche transportiert. Gleichzeitig wird es nach der Korngre bzw. Stozahl Nst
entmischt. Kleinere Partikel bewegen sich vorzugsweise in Trennflchennhe, grere Partikel in entfernteren Schichten ber die
vibrierende Trennflche.
Die genannte Entmischung nach der Korngre wird z. T. durch
den so genannten Trampolin-Effekt untersttzt (Bild 1Ab unten).
Bei Spannwellensieben ist dieser Effekt am strksten ausgeprgt
(siehe Abschnitt 3.4.). Die auf das Siebgut wirkenden Stokrfte
Fst sind unmittelbar ber der Siebflche konzentriert. Die Transportgeschwindigkeit vtr steigt mit zunehmendem Abstand von der
Siebflche (Bild 1Ab)(siehe dazu Abschnitt 3.7.1.1., Bild 15).
Die durch Schlagleisten direkt erregten Siebmaschinen arbeiten
mit Kv-Werten bis ber 30, durch die Wirkung von Oberwellen
sogar bis 400 [6]. Diese Maschinen sind durch ihre hohen Trennflchenbeschleunigungen und relativ groen Stokrfte Fst fr die
Klassierung leicht flieender Gter (z. B. Quarzsand, Zucker,
Steinsalz u. .) bis hin zu kohsiven Gtern geeignet (Bild 1Ab I
bis II). Direkt erregte Spannwellensiebmaschinen erreichen
Kv-Werte bis 50 [4]. berlagert man die direkt erregte Spannwellenbewegung mit einer indirekt erregten kreis- oder linienfrmigen Siebkastenbewegung, so entsteht eine sehr trennscharfe
und durchsatzwirksame Hybridlsung. Die hohen Stokrfte sorgen u. a. auch dafr, dass verstopfte Siebffnungen von siebschwierigen Gtern (z. B. Haft- und Klemmkorn) freigehalten werden [7, 8, 9]. Aus den genannten Grnden knnen diese Siebmaschinen fr nicht flieende, siebschwierige Gter (wie z. B. Torf,
MVA-Schlacke u. .) eingesetzt werden (Bild 1Ab I bis III ). Als
Beispiele sind u. a. die Liwellsiebmaschine KT von Hein, Lehmann
[4] und die so genannte Bivitec-Banane von Binder und Co. zu
nennen [1] (siehe Abschnitt 3.4.).
Bei der im Bild 1B dargestellten Plansiebung wird der Siebboden in der Eigenebene z. B. durch einen Kurbelantrieb zu Kreis-,
Ellipsen- bis hin zu Linearbewegungen angeregt [6, 53]. Hier treten durch Differenzbewegungen des parallel zur Trennflche
bewegten Siebgutes Relativgeschwindigkeiten vrel und reibungsbedingte Scherkrfte Fsch zwischen dem Siebgut und der Siebflche auf, die mit zunehmender Betthhe abnehmen (Bild 1B) [6].
Durch o.g. Scherkrfte wird das Siebgut aufgelockert. Evtl. vorhandene Agglomerate werden zerstrt. Unterkornpartikel gleiten
oder rollen mit hoher Berhrungshufigkeit ber die Siebffnungen, um diese schlielich zu passieren. Plansiebe sind auch teilweise fr kohsives Gut (z.B. Schleifkrnung kleiner 25 m, Lehm,
Asphalt u. .) anwendbar (Bild 1 B I bis II).
Rollenroste (Bild 1 C) zeigen im mittleren Trennflchenbereich
relativ hohe Scherkrfte Fsch, die zwischen den Siebbodenelementen (z. B. Walzen, Rollen oder Sternen) gegenlufig wirken. So
ist auch die Klassierung nicht flieender Siebgter (Bild 1C II bis
III) mglich (z. B. Baumischabflle, Torf, Pflanzenreste u. a.)
[10, 11].
44
45
bis 9. Sie werden im Mittelkornbereich eingesetzt. Will man Trennkorngren im Fein- und Feinstbereich erzielen, sind spezielle
direkt erregte Siebmaschinen gut geeignet. Die z. B. durch Schlagleisten mit Kv > l00 (bei Oberwellen) erregten Maschinen erreichen Trennkorngren < 50 m. Die direkt erregten Spannwellensiebmaschinen zeigen Kv zwischen 30 und 50. Bisher konnten
sie aus technischen Grnden nur Minimaltrennkorngren von
2 (1) mm erzielen. Steigert man Kv auf 20.000 bis 40.000, so gelangt
man zu den Ultraschallsiebmaschinen, die minimale Trennkorngren < 30 m zulassen.
Fr die genannten Einsatzbereiche der Wurfsiebe und das Diagramm Kv (dT) (Bild 2) knnen die folgenden berlegungen gelten: Die Siebgutpartikel mssen auf der Trennflche bewegt und
die Siebffnungen von Haft- oder Klemmkorn freigehalten werden. Bei kohsivem bzw. siebschwierigem Gut knnen groe Siebbeschleunigungen bzw. Kv-Werte zur Desagglomeration sowie zur
Reinigung der Siebffnungen von Verstopfungen beitragen [4, 8,
9, 12]. Folglich muss die Massenkraft FM (Siebkraft) grer sein als
die Summe der Haftkrfte FH, Klemmkrfte FK und der Coulombschen Reibungskrfte FR
FM FH + FK + FR
Danach wird
(1)
FH + FK + FR FM m w 2
=
= K Kv
FG
FG
mg
Daraus folgt K v
1
2
d d
2
(2)
(3)
1
1
(4)
2
Kv
Daraus ist ableitbar: Je kleiner die geforderte Trennkorngre dT
ist, umso grer mssen die Siebkennzahl Kv bzw. die Erregerfrequenz werden.
Die Maschinenkennzahl K und die Siebkennzahl Kv wie sie im
Bild 2 verwendet werden stellen einerseits ein gewisses Indiz
bezglich der erreichbaren Minimal-Trennkorngre dar. Andererseits sind K und Kv ein wichtiges Werkzeug bzw. ein Schlssel
fr die Optimierung der Siebbodenbewegung (z. B. Amplitude w,
Frequenz f, Beschleunigung a), besonders aber der Siebgutbewegung (z. B. Wurfhhe h, Wurfweite, Gutdifferenzgeschwindigkeit
vDiff, Transportgeschwindigkeit vtr, Auflockerung ).
dT dT2
w 2 w (2f )
w n2
K=
=
g
g
100 g
2
w
f
n
(5)
Amplitude in mm
Kreisfrequenz in 1/s
Frequenz in Hz
Drehzahl in 1/min]
46
3.2. Applications of throw screens in respect of the cutpoint dT and screen characteristic Kv
The indirectly excited circular and linear motion screens operate
with Kv values between 3 and 6 (8) in the fines range from
0.5 mm to the coarse size range around 300 mm, vibrating bar sizers with Kv values to 9. They are used in the medium size range.
To achieve cut-points in the fine and very fine ranges, special
directly excited screens are very suitable. For example, screens
excited by rapping bars with Kv values higher than 100 (with harmonics) reach cut-points < 50 m. The directly excited flip-flow
screens have Kv values between 30 and 50. Up to now, for technical reasons, they can only achieve minimum cut-points of 2 (1) mm.
If the Kv is increased to 20,000 to 40,000, the result is ultrasonic
screens that enable minimum cut-points < 30 m.
For the above-mentioned applications of the throw screens and
the diagram Kv (dT) (Fig. 2), the following considerations can
apply: the material particles must be moved over the screening surface and the screen apertures must be kept free of sticky or pegged
particles. In the case of cohesive or difficult-to-screen materials,
high screen accelerations or Kv values can contribute to deagglomeration and help dislodge the particles clogging screen apertures [4, 8, 9, 12]. Consequently, the mass force FM (screen force)
must be greater than the sum of the adhesive forces FH, pegging
forces FK and Coulombs frictional forces FR
FM FH + FK + FR
Then
(1)
FH + FK + FR FM m w 2
=
= K Kv
FG
FG
mg
1
2
d d
2
dT dT2
1
1
2
Kv
(2)
(3)
(4)
The conclusion from this is: the smaller the required cut-point dT
is, the higher the screen characteristic Kv and the excitation frequency must be.
The machine characteristic K and the screen characteristic Kv as
used in Fig. 2 represent on the one hand a certain indication of the
achievable minimum cut-point. On the other hand, K and Kv constitute an important tool and a key to the optimization of the
screen deck movement (e. g. amplitude w, frequency f, acceleration
a) and particularly of the movement of the feed material (e. g.
throw height h, throw range, differential velocity of the material
vDiff, transport velocity vtr, material loosening, i. e. porosity ().
w 2 w (2f )
w n2
K=
=
g
g
100 g
w amplitude in mm
angular frequency in 1/s
2
(5)
angewendet [13]. Sie drckt das Verhltnis der Normalkomponente der Siebbodenbeschleunigung zur Normalkomponente der
Erdbeschleunigung aus. Deshalb wird Kv verschiedentlich auch als
Kn bezeichnet.
Fr Kreisschwingsiebmaschinen gilt (Bild 3a)
Kv = Kn =
w 2
g cos
(6)
Kv = Kn = K
sin ( + )
(7)
g cos
K v = 1 + 2 2
(8)
= 1, 2, n
= 1 einfache statistische Resonanz
Kv1 = 3,3
= 2, hhere statistische Resonanz
Kv2 = 6,34
Der Wert Kv der statistischen Resonanz ist winkelunabhngig,
d. h. nicht vom Wurfwinkel und vom Flchenneigungswinkel
abhngig (siehe [16] und Besttigung durch [17]).
Zur Erzeugung periodischer Wrfe ( = 1, 2, .... n) muss durch
die schwingende Ebene (z. B. Siebboden) eine Mindestamplitude
wmin aufgebracht werden, die nicht unterschritten, aber berschritten werden darf. Bei ihrer berschreitung wird das Partikel
zunchst eine Wurfzeit tw bentigen, die grer als die Schwingungsdauer T ist. Der anschlieende Wurf ist krzer als der vorhergehende. Dies wird sich so lange wiederholen, bis die Anstobzw. Abwurfgeschwindigkeit gerade so gro sind, dass wieder der
periodische Wurf zu Stande kommt, der sich als stationrer, stabiler Betriebszustand einstellt [15].
Fr den Fall, dass das Wurfsieb in der statistischen Resonanz
arbeitet, ermittelt man die Maschinenkennzahl K nach
K = 1 + 2 2
g cos
sin ( + )
(9)
w
, so ergibt sich
2
m
2
Ekin 2 w w
=K
=
w
E pot
m g
2
(10)
Kv = Kn = K
sin ( + )
(7)
g cos
Elliptical motion vibrating screens lie somewhere between circular and linear motion vibrating screens.
In screening processes allowing the unhindered throw of single
particles (e. g. thin-layer screening, Fig. 1Ab), if the throw time tw
of one particle is equal to once or several times the vibration time
T of the vibrating plane (or expressed differently: tw = T)), then
the throws can be described as periodic. The term used to refer this
is statistical resonance [14].
For statistical resonance, the screen characteristic is
K v = 1 + 2 2
(8)
= 1. 2,...... n
= 1 simple statistical resonance
Kv1 = 3.3
= 2 higher statistical resonance
Kv2 = 6.34
The value Kv of the statistical resonance is angle-independent, i. e.
it is not dependent on the throw angle and the angle of the surface inclination (see [16] and confirmation by [17]).
For the generation of periodic throws ( = 1, 2, .... n), the vibrating plane (e. g. screen deck) must generate a minimum amplitude
wmin, which can, however, be exceeded. To exceed this, the particle first requires a throw time tw that is longer than the vibration
time T. The subsequent throw is shorter than the previous one.
This is repeated until the impact or throw-off time are just long
enough to allow the periodic throw to recur and continue as the
steady and stable operating state [15].
47
This equation is evaluated in diagram form in Fig. 4. Here the coefficient K is plotted on the ordinate and the angle ( + ) on the
abscissa. The parameters used are the pitch and the statistical resonance values 3.3 and 6.34. While the K values generally decrease
with the increasing angle , the minima of all curves lie at ( + )
= 90. That means: the K values and thus the proportionally introduced kinetic energy Ekin and the drive energy reach their minimum value on screens with vertical screen deck excitement i. e.
at ( + ) = 90.
This can be proven by the following calculation
m
Ekin = 2 and E = m g h
pot
2
.
w
If = w and h =
are assumed, the result is
2
3.4. Die Anwendung des Zusammenhangs Maschinenkennzahl K und des Winkels ( + ) fr die Antriebsoptimierung von Wurfsiebmaschinen
Die unter Abschnitt 3.3. gezeigten Antriebsenergievorteile besitzen vor allem direkt und senkrecht erregte Siebmaschinen
( + = 90) wie z. B. der Typ fine-line von Haver und Boecker
(Bild 5), die Magnetsiebmaschine Bauart WA von Rhewum und der
Sizer 2000 mit oszillierenden Kopfleisten von Mogensen (Bild 6) [4].
Diese Maschinen sind fr frei flieende und auch kohsive Materialien geeignet. Zu den senkrecht erregten Siebmaschinen zhlt
auch die Spannwellensiebmaschine vom Typ Bivitec-Banane von
Binder und Co. [1] (Bild 7), die das direkte und indirekte Siebboden-Erregungsprinzip in einer Maschine vereint. Sie besitzt die
Vorteile des Bivitec-Prinzips und des Bananensiebes. Dies soll sich
in sehr guten Trennschrfen und Durchsatzraten zeigen [1]. Diese Siebmaschine ist fr nicht flieende Siebgter einsetzbar (Baumischabflle, Kompost, Ton u. .). Auch die indirekt erregte Hochgeschwindigkeits-Eindeck-Siebmaschine vom Typ K von Derrick
arbeitet durch hohe Antriebsdrehzahlen bis 3.000 (3.600) U/min
48
m
2
Ekin 2 w w
=K
=
(10)
w
E pot
m g
2
Accordingly, the Froude number K is in modified form an expression of the ratio of the kinetic energy Ekin (the energy necessary
to throw a particle of feed material to a certain height h) to the
potential energy Epot.
3.4 Application of the relationship of the machine characteristic K and the angle ( + ) for optimizing the drive
of throw screens
The drive energy advantages explained in Section 3.3 are featured
mainly by directly and vertically excited screens ( + = 90), like,
for example, the fine-line screen from Haver and Boecker (Fig. 5),
the WA magnetic screen from Rhewum and the Sizer 2000 with
oscillating rapping bars from Mogensen (Fig. 6) [4]. These
machines are suitable for sizing free-flowing and even cohesive
materials.
The vertically excited screens also include the flip-flow screen
of the type Bivitec-Banana from Binder and Co [1] (Fig. 7), which
combines the principles of direct and indirect screen deck excitement in one machine. It features the advantages of the Bivitec principle and banana screens. As the manufacturer claims, this is
reflected in very good separation efficiency and throughput rates
[1]. The screen can be used for non-flowing materials (mixed construction site waste, compost, clay and similar materials).
Thanks to high drive speeds to 3,000 (3,600) 1/min and relatively
high screening deck pitches below ( + 60), the indirectly
excited high-speed single-deck K screen supplied by Derrick also
operates in an effective drive energy range (Fig. 8). It is used, for
example, for iron ores, tungsten carbide, synthetic resins or check
screening of silica sand [51, 52].
Throw screening can only be optimized on the basis of the
screen characteristic if the determination of the Kv specification
factors (e. g. the amplitude w) can be ensured with absolutely real-
Bild 6: Links: Rhewum Magnetsiebmaschine mit direkt erregtem Siebboden Bauart WA, Rechts: Mogensen-Sizer 2000 mit oszillierenden, klopfenden Schlagleisten
Fig. 6: Left: Rhewum WA magnetic screen with directly excited screen deck, right: Mogensen Sizer 2000 with oscillating, rapping bars
und relativ groe Siebflchenneigungen unter ( + 60) noch
in einem gnstigen Antriebsenergiebereich (Bild 8). Ihr Einsatz
erfolgt u. a. fr Eisenerze, Wolframkarbide, Kunststoffharze oder
Quarzsandkontrollsiebungen [51, 52].
Die Optimierung der Wurfsiebung ber die Siebkennzahl kann
nur funktionieren, wenn die Ermittlung der Bestimmungsgren
von Kv (z. B. die Amplitude w) durch absolut realistische, reproduzierbare Werte gesichert wird. Erfolgt dies nicht, so sind Falschbestimmungen von Kv und verfahrenstechnische sowie wirtschaftliche Effektivittsverluste unvermeidbar.
istic, reproducible values. If this is not possible, incorrect determinations of Kv and losses related to both the process engineering
and economic efficiency are inevitable.
Die Festlegung des Siebflchenneigungswinkels , des Wurfwinkels , der Antriebsfrequenz f (bzw. Winkelgeschwindigkeit )
sind durch den Maschinenprojektanten bzw. -anwender relativ
leicht vorzunehmen. Nicht unproblematisch ist dagegen die
Bestimmung der reprsentativen Siebflchenamplitude w sowohl
fr indirekt als auch fr direkt erregte Siebmaschinen bzw. Siebbden. Bei indirekt erregten Wurfsiebmaschinen erfolgt die ver-
49
Bild 9: Dynamisch belasteter, indirekt erregter Siebboden: Siebbodenamplitude wges als Funktion der Siebkastenamplitude ws
und der Siebbodeneinzelamplitude wB
Fig. 9: Dynamically loaded, indirectly excited screen deck: Screen
deck amplitude wges as a function of the amplitude of the screen
frame ws and the individual amplitude of the screen deck wB
einfachte Amplitudenbestimmung bei einigen Maschinenherstellern mit Hilfe des sog. Fpplschen Schwingungskeiles, der an der
Siebkastenauenwand angebracht wird. Fr diese indirekt erregten Siebmaschinen gilt die bekannte Regel: Siebkastenamplitude
ws ist gleich der Siebbodenamplitude w. Leider stimmt diese Aussage nur in wenigen Fllen z. B. wenn uerst starre Stahlsiebbelge (Profilroste u. .) oder relativ kleine Laborsiebflchen vorliegen. Sie gilt nicht fr Industriesiebbden aus Metallgewebe oder
gar aus Gummi oder Kunststoff (z. B. PUR) (Bild 9). In der Steine- und Erdenindustrie hlt sich z. B. der Trend, dass mehr als
60 % der Wurfsiebmaschinen mit Gummi- oder PUR-Siebbden
ausgerstet werden [8, 18, 19, 20].
In Fig. 9 the dynamically loaded screen deck of an indirectly excited screen is shown as an orthotropic plate. The total amplitude wges
of the screen deck represents the combination of the amplitude ws
of the screen frame with the intrinsic amplitude wB of the screen
deck. It is proportional to the load p and inversely proportional to
the modulus of elasticity of the screen deck material and the second moment of area I of the deck profile [50].
As the moduli of elasticity of rubber and PUR are two factors
of ten lower than those of steel, correspondingly higher deflections
wB (a maximum of 100 times higher) than for steel must be expected. For these and other reasons it is advisable in practice to systematically measure the representative amplitude wges of the
screening surface during operation of the screen under the load of
the respective feed material.
This also applies in principle to directly excited screens with
screening surfaces excited by bumpers [16] or rapping bars [4].
Fig. 10 shows as an example the spatial amplitude curve of a screen
membrane directly excited with bumpers. Fig. 11 shows the amplitude curve w over the longitudinal section of the screening surface
under the load of feed material. In both cases the amplitude curve
is anything but constant over the screening surface. Fig. 11 shows
the relatively high screening surface amplitudes w at the respective
contact points of the frictional vibration exciters. With increasing
distance from the exciter, the amplitude values w decrease with
increasing material load. For screens equipped with more than one
exciter, the amplitude minima lie between two neighbouring points
of contact with the exciters [4]. Of course, in this connection, the
50
51
52
Bild 13: Wurfhhe h als Funktion der Siebkennzahl Kv und Zeitkennzahl fr verschiedene Siebflchenneigungswinkel an einer
mit 50 und 100 Hz erregten Siebflche
Fig. 13: Throw height h as a function of the screen characteristic
Kv and time characteristic for different screen pitches on a
screening surface excited with 50 and 100 Hz
d n 2
N st
c
(12)
The exponent n is dependent on the material of the impact partners and their moduli of elasticity, the particle shape (for spheres
n = 3) as well as the angle of impact as against the screening surface [29], etc.
Q = B H (1 ) tr m
(11)
B
Siebflchenbreite
H
Gutbetthhe
vtr m mittlere Guttransportgeschwindigkeit.
Der theoretische Verlauf der Wurfhhe h in Abhngigkeit von der
Siebkennzahl bei verschiedenen Flchenneigungen fr eine
direkt mit 50 und 100 Hz erregte Siebflche sowie die Krnung mit
der Stozahl Nst=0,04 wird in Bild 13 dargestellt [16]. Unter der
Siebneigung = 35 zeigt sich fr die einfache und hhere statistische Resonanz ( = 1, 2) jeweils ein Plateau annhernd konstan-
53
Bild 16: Rechnerisch und experimentell ermittelte Transportgeschwindigkeiten vtr auf verschiedenen Wurfsiebmaschinen, a) vtr
in Abhngigkeit der Siebkennzahl Kv auf einer indirekt erregten
Kreisschwingsiebmaschine, b) vtr in Abhngigkeit von Kv auf
einer direkt erregten Stelschwingsiebmaschine, c) vtr in Abhngigkeit der Siebflchenneigung auf einer Ultraschallsiebmaschine
Fig. 16: Calculated and empirically determined transport velocities vtr on different throw screens, a) vtr as a function of the screen characteristic Kv on an indirectly excited circular motion vibrating screen, b) vtr as a function of Kv on a directly excited bumpertype vibrating screen, c) vtr as a function of the screening surface
pitch on an ultrasonic screen
ter Wurfhhe h und Auflockerung . Das bedeutet stabile Klassierbedingungen. Diese genannten Ergebnisse wurden experimentell besttigt. Bild 14 zeigt den experimentellen Wurfhhenverlauf fr verschiedene Korngrenklassen in Abhngigkeit von
Kv. Es besteht bereinstimmung mit der Modellrechnung [16, 27].
ber der vibrierenden Siebflche erfolgt eine Entmischung bzw.
Schichtung nach der Partikelgre d bzw. der Stozahl Nst. Der
Zusammenhang zwischen Partikelgre d und der Stozahl Nst
lautet [28]
1
d n 2
N st
c
(12)
54
Est
m (1 N st )
Diff2
2 1 + N st
(13)
Est
m (1 N st )
2 1 + N st
Diff2
m
Diff2
2
(13)
Fst
(15)
(14)
Die Rechenmodelle der Autoren von [14] und [15] zeigen, dass im
Falle der einfachen und der hheren statistischen Resonanz Maxima der Stoenergie und gleichzeitig stabile Wurf- bzw. Transportbedingungen fr die Partikel vorliegen. Man sollte jedoch die
Amplitude w der vibrierenden Siebflche immer mindestens gleich
oder etwas grer whlen, als dies fr Kv 3,3 oder 6,4 errechnet
wird. Nur so kann der gnstige periodische Wurf stabil gewhrleistet werden [15] (Abschnitt 3.3.). Mit dem Energiemaximum fr
den Fall der statistischen Resonanz ist gleichzeitig das Maximum
des Impulses und der Stokraft Fst verbunden. Die Stokraft lautet nach Hertz [34]
6
5
diff
The energy maximum for statistical resonance is also associated with the maximum of the pulse and the impact force Fst. The
impact force after Hertz [34] is expressed as follows
Fst diff5
Fr Nst = 0 gilt
Est
Bild 17: Segregationskoeffizient Sz in Abhngigkeit der Siebkennzahl Kv am Wurfprfsieb (Bild 17a) und am Stelsieb
(Bild 17b) sowie Sz in Abhngigkeit der Siebzeit am Stelsieb
(Bild 17c)
Fig. 17: Segregation coefficient Sz as a function of the screen characteristic Kv on the test throw screen (Fig. 17a) and on the bumper-type (Fig. 17b) as well as Sz as a function of the screening
time on the bumper-type screen (Fig. 17c)
(15)
For screen sizing this means that the larger the material particles
are and the more cohesive and difficult-to-screen the feed material is, the higher the pulse or impact energy and the screen characteristic must be selected in order to ensure an optimal sizing
process [7, 8, 9, 23, 25]. It follows that the excitation frequency
must be small and the amplitude w correspondingly large as
w 1 / 2 . This is the only option to ensure that sufficiently high
impact forces and material porosities are generated and to guarantee an effective screen performance. That is confirmed by the
long-established rule of practice that states: the larger the mesh
width l or the cut-point dT is, the higher the excitation amplitude
w must be [4, 25, 35]. For circular motion vibrating screens [36, 37],
propose the following for the selection of the optimal amplitude:
1
wopt = C l 2
(17)
55
2
2
as well as the following loss caused by friction with its adjacent particles [4, 38]
U r H 2 tan i
(19)
Est m
g2
2
(16)
wopt = C l 2
(17)
+
N
1
( st )
m
(18)
Est = v12 1
2
2n 1
und durch Reibung mit den benachbarten Gutpartikeln der Verlust [4, 38]
U r H 2 tan i
(19)
56
With sufficiently high Kv values, i. e. higher than 3.3 and 6.4, and
corresponding porosity values , the larger particles with the higher kinetic energy succeed in overcoming the above-mentioned
energy barriers and reach the material layers further away from the
screening surface [4].
The energy differences between large and small particles and the
interspaces between adjacent larger particles effect the segregation
of the smaller particles towards the screen deck, where they tend
to stay. This stratification of the coarser particles above the finer
layers is described by the autors of [39] and [40] as a floating of
the coarse particle layers over the fines mass flow. If the velocities
vn of the overlying n material layers are traced on the basis of the
energy losses described above, the n-th layer of material has the
following velocity [4, 39]
(1+ N )
=v
n 1
st
(20)
2 n 1
The velocity component in the main direction of transport is
vtr = vn cos cos
(21).
vn
(1+ N )
=v
n 1
st
(20)
2 n 1
Die in Haupttransportrichtung weisende Geschwindigkeitskomponente betrgt
vn
(21)
Man erkennt, dass in der Dickschicht die Transportgeschwindigkeit vtr mit steigender Krnerschichtzahl n (Betthhe H)
abnimmt. Je grer die Schichtanzahl (die Betthhe) ist, umso
hher sollte die Siebkennzahl sein.
Es erscheint bei der Dickschichtsiebung fr scharfe Trennungen
gnstig, Kv etwas grer als 3,3 bzw. 6,4 zu whlen (siehe auch
Abschnitt 3.6)
57
Bild 20: Langfrmige Siebgutpartikel mit den Abmessungen D und L ber einer
Quadratmaschenffnung der
Abmessung l
Fig. 20: Oblong-shaped particles with the dimensions D
and L over a square mesh
aperture of the size l
frequenz-Siebmaschine von Rhewum zu Nutze gemacht (Bild 18
[6]). Sie ist fr den Trennbereich von 0,63 bis 80 (150) mm geeignet, erreicht hohe Trennschrfen und spezifische groe Durchstze
[43]. Ihre besonderen Vorzge liegen darin, dass das Siebgut durch
hohe Amplituden am Siebanfang durch hohe Stoenergien (siehe
Abschnitt 3.7.1.2.) stark aufgelockert und entmischt wird [4]. Am
Siebberlauf bewirkt die hohe Frequenz auch relativ hohe
Beschleunigungen und damit eine gnstige Absiebung siebschwierigen Gutes [7, 8, 9].
3.7.3. Zusammenhang zwischen der Theorie der Einzelkornbewegung (h, vDiff, vtr) und der Bewegung von
Krnerkollektiven (Dz, Sz) und dem Trennerfolg
(, dT)
Aus den Bildern 19a bis 19g lsst sich aus theoretischen und experimentellen Untersuchungen am direkt erregten Stelsieb folgendes ableiten: Im Bereich der einfachen und hheren statistischen Resonanz ( Kv 3,3 bzw. 6,4) herrschen beim Neigungswinkel = 35 konstante Wurfhhen (Bild 19a) und Auflockerung.
Durch korngrenabhngige Stozahlen Nst tritt jener Entmischungseffekt auf, der den Aufenthalt der feineren Korngren in
Trennflchennhe unter kleinen Wurfweiten und Transportgeschwindigkeiten und der grberen Krner mit groen Sprngen
und Transportgeschwindigkeiten (Bild 19c) in Trennflchenferne
ber die Siebflche bewegt (siehe auch Bild 15). Dieser Segregationseffekt (Sz-Koeffizienten gro) wird besonders im Bereich von
Kv 3,3 bzw. 6,4 begnstigt (Bild 19e), weil dort Differenzgeschwindigkeitsmaxima vDiff (Bild 19b) und gleichzeitig die Stokraftmaxima zwischen Siebkorn und Siebboden auftreten. Dabei
nehmen die Entmischungseffekte (Sz) (Bild 19e) bis zur statisti-
3.7.3. Relationship between the theory of the single particle movement (h, vDiff, vtr) and the movement of
particle collectives (Dz, Sz) and screen performance
(, dT)
As shown in Figs. 19a to 19g, the following can be derived from
theoretical and empirical studies on the directly excited bumpertype screen: in the range of simple and higher statistical resonance
(Kv 3.3 and 6.4 respectively) and at a pitch of = 35 the throw
heights (Fig. 19a) and material porosity are constant. Particle-sizedependent impact numbers Nst cause the segregation effect that
keeps the finer particles close to the separating surface with low
throw ranges and transport velocities and moves the coarser particles by means of high jumps and transport velocities (Fig. 19c)
further away from the separating surface and over the screen (see
also Fig. 15). This segregation effect (high Sz coefficients) is
favoured particularly in the range of Kv 3.3 or 6.4 (Fig. 19e),
because here the maximum differential velocities vDiff (Fig. 19b)
and at the same time the maximum impact forces between the particles and the screen deck can be found. Here, up to the statistical
resonance (Kv 3.3), the segregation effects (Sz) (Fig. 19e) increase
faster than the mixing effects (Dz) (Fig. 19d) [16, 42].
Under these optimal conditions for the screen deck and material movement of cubic-shaped particles, the maximum values for
the screen efficiency numbers and dT are recorded (Fig. 19f and
19g).
In the previous Section 3.7., the material particles were generally assumed to be cubic in shape (La/Lc 3 ) [44] as is the case for
mineral materials. Chemical, biological, secondary raw materials,
etc. often have particle dimensions that deviate considerably from
the cubic dimensions. Cylindrical or needle-shaped particles, for
example, are not unusual [45, 46].
Bild 21: Siebgeschwindigkeitskonstante k (Bild 21a) und Durchgangswahrscheinlichkeit WD (Bild 21b) in Abhngigkeit der
Maschinenkennzahl K mit Prinzipbildern der Einzelpartikelbewegung ber der Siebffnung (Bild 21b unten)
Fig. 21: Screen velocity constant k (Fig. 21a) and passage probability WD (Fig. 21b) as a function of the machine characteristic K
with schematics showing the movement of the individual particles
above the screen aperture (Fig. 21b bottom)
58
The authors of [47] performed tests on the screen kinetics of cylindrical particles on a slotted, vibrating screening surface. In batch
operation, the number of particles on the screen was determined
by means of a CCD camera and image analysis software. In the
applied model of the process of the first order (see also [48]), the
velocity constant ki (in Hz) of a defined particle size range I with
cylindrical shape (Fig. 20) was determined as a function of Kv [47].
The finding derived from these experiments is shown in the diagram in Fig. 21a. The curves show that with increasing L/D ratio
the maximum values of the screen velocity constant k shift in the
direction of higher Kv. The smaller the L/D is, the lower the Kv can
be to obtain a maximum k value. For the L/D ratio = 3.3, the k
maximum of 0.18 Hz is already achieved at Kv = 1.5. The abscissa
3.8.2 Theorie
Zunchst wird der Parameter k der Siebkinetik betrachtet, der von
den Autoren von [47] verwendet wurde. Daraus resultiert die folgende berlegung: Es wird davon ausgegangen, dass die
Geschwindigkeitskonstante k etwa gleich der Durchgangswahrscheinlichkeit WD eines zufllig ber einer Quadratmaschenffnung der Maschenweite l angeordneten Siebgutpartikels der Korngre d ist, d. h. k WD [48, 49]. Somit wird
k WD
(l d )
=
(l + s)
(22)
Im Folgenden wird dieser Kurvenverlauf WD (Kv) ber eine Energiebetrachtung der Partikelbewegung auf der Siebflche erklrt:
Die von der vibrierenden Siebflche an das im Grundzustand
(potentielle Energie U1) befindliche Partikel erteilte kinetische
Energie E1 wird whrend des Wurfes in die Stellung 2 in die
kinetische Energie E2 und die potentielle Energie U2 umgewandelt. Dies kann nach dem Energiesatz der Technischen Mechanik
wie folgt dargestellt werden
E1 + U1 = E2 + U2
(23)
Daraus wird
m 2 2 2
m
w + 1 + m g h1 = v22 + 22 + m g h2
(24)
2
2
2
2
Der im Bild 21b gezeigte Kurvenverlauf hat auf der Ordinate WD
und auf der Abszisse K, denn es wird Kv = K. Weiterhin stellt K
fr die Wurfhhe h = w/2 gleichzeitig das Verhltnis kinetische
Energie durch potentielle Energie dar (siehe Abschnitt 3.3.) Die
Abszisse K ist folglich ein Ausdruck dafr, wie viel kinetische
Energie E1 vom Siebboden an das am Boden liegende Partikel
bergeben wird (Bild 21b). Dieses dargestellte Partikel (Abmessungen: D und L) wird erst dann angehoben, wenn K > 1 ist. Wird
K weiter gesteigert bis die Hubhhe h2 = L/2 erreicht ist und das
langfrmige Partikel senkrecht ber der Siebffnung eingeordnet
3.8.2. Theory
First the parameter k for the screen kinetics is studied, which was
used by the above-mentioned authors [47]. From this results the
following consideration: it is assumed that the velocity constant k
is approximately equal to the passage probability WD of a particle
of the particle size d randomly arranged over a square aperture of
the mesh width l, i. e. k WD [48, 49]. Thus
k WD =
(l d )
(l + s)
(22)
In the following the author will explain this curve shape WD (Kv)
on the basis of an energy analysis of the particle movement on the
screen surface: the kinetic energy E1 transferred from the vibrating screen surface to the particle in its normal state (potential energy U1) is transformed into kinetic energy E2 and the potential energy U2 during the throw into position 2. This can be describe in
accordance with the energy principle of technical mechanics as follows
E1 + U1 = E2 + U2
(23)
From this,
m 2 2 2
m
w + 1 + m g h1 = v22 + 22 + m g h2
2
2
2
2
(24)
is derived.
The curve shown in Fig. 21b has WD on the ordinate axis and K
on the abscissa, as Kv = K. Furthermore, for the throw height h =
w/2, K also describes the ratio of the kinetic energy to the potential energy (see Section 3.3.) Accordingly, abscissa K is an expression of how much kinetic energy E1 is transferred from the screen
deck to the particle lying on the deck (Fig. 21b).
This particle (dimensions: D and L) is only lifted when K > 1. If
K is increased further until the stroke height h2 = L/2 is reached
and the oblong-shaped particle is arranged vertically over the
screen aperture in order to ultimately pass through this, the maximum of WD is reached. With every further K increase, the kinetic translation energy applied to the particle increases. At the same
time, however, increasing translation energy flows into the kinetic rotational energy of the thrown particle so that this rotates more
intensively (Fig. 21b bottom). The probability WD of the vertical
arrangement of the oblong particle above the screen aperture and
its passage through this decreases to the same degree as the
increase in the particle rotation. To achieve optimum screening
efficiency, it is therefore necessary to select the value for K so it is
just high enough to supply just sufficient energy E1 to launch the
particle from its horizontal basic state to the height H = L/2, which
guarantees a vertical orientation of the particle over the screen
aperture. This means
E1 = E2 + U2
(25)
From this
m 2 2 2
w = 2 + m g h2
2
2
(26)
is evolved.
After several conversions, the following applies
D
m
L2
2
12
From this result the optimal machine characteristic
2
2
L w (4 f )
1+
K opt =
12 L g
W
(27)
(28)
59
E1 = E2 + U2
(25)
Daraus entsteht:
m 2 2 2
w = 2 + m g h2
2
2
Nach einigen Umrechnungen gilt
D
m 2
fr L >>
wird
L
2
12
(26)
(27)
wopt 0.61
2
L w (4 f )
1+
K opt =
12 L g
W
L [m]
w [m]
f [Hz]
Nach der Ermittlung der Optimalwerte fr K und w wird im folgenden Modell eine Formel fr die Vorausberechnung der Durchgangswahrscheinlichkeit WD langfrmiger, zylindrischer Partikel
der Abmessungen D und L vorgeschlagen. Dabei werden sowohl
die Siebgut- und Siebbodengeometrie als auch die Siebbodenbeschleunigung (K) bercksichtigt.
D L
L
+1
WD = 1 1 1 C
K
2 D
2
=2 f
D L
L
+1
WD = 1
(30)
1 1 C
K
2 D
2
=2 f
l
= arc sin
L
Das Bild 22 enthlt die nach Gleichung ermittelte WD in Abhngigkeit der Verhltnisse
L L
,
und
D l
2 .
Man erkennt, dass die Modellergebnisse im Bild 22 prinzipiell
mit den experimentellen Ergebnissen im Bild 21a bereinstimmen.
Zusammenfassend kann festgestellt werden: Nach den dargelegten Erkenntnissen ist es mglich, die Optimierung der Siebboden- und der Siebgutbewegung auf Wurfsiebmaschinen fr die
Klassierung kubischer und langfrmiger Siebgter ber die Maschinenkennzahl K und vor allem die Siebkennzahl Kv vorzunehmen.
60
T
C = 0.25 or C = 0.50
(30)
l
= arc sin
L
(29)
L [m]
w [m]
f [Hz]
(28)
(29)
1
L
f
L L
, und
D l
2
It can be seen that the model results in Fig. 22 generally agree
with the empirical results in Fig. 21a.
To summarize, it can be concluded that according to the findings
presented, it is possible in principle to use the machine characteristic K and the screen characteristic Kv to optimize the movement
of the screen deck and the feed material on throw screens for the
sizing of cubic- and oblong-shaped particles.
Index of symbols
a
B
C
C*
c
D
d
DZ
Symbolverzeichnis
a
B
C
C*
c
D
d
DZ
E
ESt
F
f
h
H
I
K
KV
k
L
l
m
NSt
n
n*
n
p
Q
s
SZ
T
t
U
Ur
v
w
WD
i
Siebbodenmaximalbeschleunigung
Siebflchenbreite
Konstante fr langfrmige Siebgter
Konstante fr optimale Amplitude
Federkonstante
zweite Hauptabmessung eines langfrmigen Partikels
Korngre
Mischungskoeffizient
Elastizittsmodul
Stoenergie
Kraft
Frequenz
Wurfhhe
Siebbetthhe
Flchentrgheitsmoment
Maschinenkennzahl
Siebkennzahl
Siebgeschwindigkeitskonstante
Partikellnge
Siebmaschenweite
Partikelmasse
Stozahl
Drehzahl
Anzahl bereinander liegender Partikel (Schichtanzahl)
Exponent der Stozahl
Belastung der Siebflche
Volumendurchsatz
Drahtstrke
Segregations- bzw. Entmischungskoeffizient
Schwingungsdauer
Zeit
Potentielle Energie
Reibenergie
Geschwindigkeit
Siebflchenamplitude
Durchgangswahrscheinlichkeit
Wurfwinkel,
Siebflchenneigungswinkel
Auflockerungsgrad, Porositt
Konstante
Zeitkennzahl
Kreisfrequenz
Winkel des langfrmigen Partikels gegen die Lotrechte zur
Siebffnung
Winkel der inneren Reibung
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Grundlegende Betrachtungen, Aufbereitungs Technik 42
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E
ESt
F
f
h
H
I
K
KV
k
L
l
m
Nst
n
n*
n
p
Q
s
SZ
T
t
U
Ur
v
w
WD
i
modulus of elasticity
impact energy
force
frequency
throw height
bed height
second moment of area
machine characteristic
screen characteristic
screen velocity constant
particle length
aperture width
particle mass
impact number
speed
number of particles lying over each other (number of layers)
exponent of the impact number
load on the screening surface
volume throughput
wire thickness
segregation coefficient
vibration time
time
potential energy
frictional energy
velocity
screening surface amplitude
probability of passage
throw angle
pitch of the screening surface
material loosening (porosity)
constant
time characteristic
angular frequency
angle of the oblong-shaped particle against the perpendicular to the screen aperture
angle of internal friction
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