Beruflich Dokumente
Kultur Dokumente
ciencias y tecnologas/47
I.S.B.N.: 978-84-15287-03-2
Directores
sergio gonzlez gonzlez
ricardo m. souto surez
juan jos santana rodrguez
AGRADECIMIENTOS
Llegado el final de un trabajo, de una etapa como la que representa el tiempo
dedicado a la realizacin de una Tesis Doctoral, echa uno la vista atrs, para recordar
el camino que nos ha trado hasta aqu y por supuesto, aparecen en la memoria,
personas que se han cruzado en ese camino conmigo y me han estimulado,
empujado, y ayudado a recorrerlo, incluso desde mi infancia. Quiero en este momento
recordarles, para darles el merecido reconocimiento y mi ms profundo
agradecimiento, ya que sin ellos, el camino recorrido seguramente sera otro y no
estaramos hoy aqu.
En primer lugar a mis padres Francisca Guzmn Alonso, y Claudio Gonzlez
Gonzlez, que con su tesn, esfuerzo, sacrificio, cario y amor me permitieron estudiar
y me ensearon la importancia de la responsabilidad y el esfuerzo constante.
A mis profesores de primaria y secundaria, quiz en especial a Josefina Ochoa,
profesora de Qumica del Liceo Agustn Aveledo en La Pastora, Caracas Venezuela,
por su trabajo docente, en especial la parte de prcticas de laboratorio; ahora que soy
profesor de secundaria estoy en mejores condiciones de valorar su trabajo. Pienso que
en parte a ella le debo el haber elegido estudiar la carrera de Qumicas.
A mis profesores de la Universidad de La Laguna, en especial a los del
Departamento de Qumica Fsica. Extiendo este agradecimiento a todos los
compaeros del departamento por sus continuas muestras de nimo.
En esta ltima etapa no me gustara olvidar la valiosa ayuda recibida por parte
de la Dra Yaiza Gonzlez Garca, caprichos del destino, alumna ma en su etapa de
educacin secundaria y mi profesora al iniciar esta ltima fase del doctorado, me
ayud a comenzar de nuevo, despus de tanto tiempo sin pisar un laboratorio de
investigacin.
A los directores de esta tesis: Sergio Gonzlez Gonzlez, Ricardo Souto
Surez, y Juan Jos Santana Rodrguez por su constante apoyo, paciencia y
comprensin hacia mis circunstancias personales que no me han permitido dedicarme
a este trabajo con la continuidad que a mi me hubiera gustado tener, sobre todo al final
del mismo. Siempre me han estimulado a seguir adelante, en momentos en donde las
fuerzas flaqueaban. He aprendido mucho durante estos aos y me han dado la
oportunidad de dedicarme dentro de mis posibilidades a la investigacin y aportar al
menos mi grano de arena en este campo.
Finalmente, a las chicas de casa: mi esposa Fabiola Gonzlez Daz que me ha
apoyado en esta andadura; su cario y comprensin me ha ayudado mucho a
soportar la presin, al intentar cumplir en todos los frentes. A mis hijas Xiomara y
Marlene por hacer que la vida sea ms agradable y no protestar demasiado, cuando
su padre estaba ocupado haciendo otras cosas en lugar de estar con ellas.
A todos mil gracias.
DEDICATORIA
Me gustara dedicar este trabajo:
A mis padres: Francisca Guzmn Alonso y
Claudio Gonzlez Gonzlez.
A mi esposa: Fabiola Gonzlez Daz.
A mis hijas: Xiomara Gonzlez Gonzlez y
Marlene Gonzlez Gonzlez.
Por haber estado conmigo todo este tiempo.
ndice
NDICE
Agradecimientos .............................................................................................................. i
Dedicatoria...................................................................................................................... iii
ndice ...............................................................................................................................v
adicionales
acerca
de
la
degradacin
de
ndice
de
epoxi-poliamina
conteniendo
escamas
de
vidrio,
vi
ndice
Captulo
IV:
Deteccin
de
la
actividad
electroqumica
de
con
electroqumica
recubrimientos
de
barrido
polimricos
utilizando
(SECM)
oxgeno
la
microscopa
como
mediador
vii
ndice
viii
Captulo I
Introduccin general
Captulo I
Introduccin general
Captulo I
Introduccin general
Todo ello, entre otros factores, ha dado lugar al desarrollo de una gran
variedad de tcnicas para el control y la prevencin de la corrosin, entre las que
sin duda la ms ampliamente usada es la proteccin por empleo de recubrimientos
polimricos como las pinturas. Diversas son las reas de actuacin en este campo,
destacando
particularmente
la
siguiente:
Dilucidar
el
mecanismo
de
Captulo I
Introduccin general
de
este
tipo
de
sistemas la
configuran
los mtodos
Captulo I
Introduccin general
acciones fsicas que junto con las qumicas originan el deterioro del metal, y
tambin por los mecanismos de reaccin. Considerando esta ltima clasificacin
se distinguen dos tipos fundamentales de corrosin:
1. oxidacin directa,
2. corrosin electroqumica.
10
Captulo I
M Mn+ + ne-
(1)
estos
electrones
sean
consumidos.
El
mantenimiento
de
la
(2)
la cual muestra la combinacin de los iones hidrgeno con los electrones tomados
del metal para formar hidrgeno molecular.
11
Introduccin general
(3)
Por lo tanto, la reaccin global para el primer ejemplo (medio cido) ser:
(4)
(5)
12
Captulo I
Figura 1: Elementos necesarios para que tenga lugar una reaccin de corrosin.
13
Introduccin general
M + O Mn+ + R
=
E E0
RT aM n+ aR
ln
nF ao
(6)
(7)
14
Captulo I
15
Introduccin general
Por otra parte, si estas reacciones son rpidas pero la concentracin del
reactivo catdico es pequea, la etapa determinante de la velocidad ser el transporte
del reactivo O hasta el lugar catdico (regin 3), como sucede en aquellos procesos
de reaccin controlados por la reduccin del oxgeno, pues ste presenta una
solubilidad muy limitada en agua. A su vez, si la reaccin de disolucin del metal es
reversible tambin puede tener lugar la reaccin inversa de deposicin del metal:
Mn+ + ne- M
(8)
con lo que el proceso controlante puede ser el transporte de la especie Mn+ para
retirarla del lugar de reaccin (regin 4).
16
Captulo I
17
Introduccin general
18
Captulo I
Efecto barrera [33-38], pues dificulta el acceso del oxgeno y del agua
19
Introduccin general
pigmentos metlicos que actan como nodo de sacrificio, en beneficio del metal
al que protege, que acta como ctodo.
20
Captulo I
tamaos que oscilan entre 0.1 y 0.5 micrones, que se distribuyen homognea y
paralelamente a lo largo de toda la superficie de manera que dificulta el paso del
oxgeno y de la humedad en su camino hacia el sustrato.
Como tercer grupo se encuentran las lacas que se diferencian por ser
resinas disueltas en una sustancia filmgena y voltil, pudiendo contener o no, los
21
Introduccin general
22
Captulo I
Mientras que la mayora de las pinturas tienen slo una resina primaria
como ligante, algunas otras, incorporan ms de una resina con vista a desarrollar
propiedades especficas. sta forma parte tambin del ligante, y su misin consiste
en ampliar las funciones de la primera con la que forma cuerpo y aumenta la
cantidad de resina disponible para humedecer la superficie del sustrato y los
pigmentos, colabora en la adhesin del recubrimiento al sustrato y a formar la
estructura y el espesor de la capa aumentando su resistencia. La condicin
indispensable es que ambas resinas sean compatibles y mantengan la estructura y
cohesin de la resina resultante.
23
Introduccin general
24
Captulo I
25
Introduccin general
26
Captulo I
27
Introduccin general
Los poliuretanos; son ligantes co-reactivos en los que sus resinas tienen un
relativo bajo peso molecular y est formado por grupos de alcoholes o aminas que
son capaces de reaccionar con el diisocianato de lo que se obtiene una resina
prepolimrica intermedia. Este uretano puede reaccionar con otras resinas que
contienen alcohol o aminas para formar el poliuretano final, de forma que se
consigue crear una diversidad de propiedades de igual manera que con las
epoxdicas.
28
Captulo I
29
Introduccin general
mismo tiempo que se consigue una buena resistencia a los disolventes y otras
sustancias qumicas, dndole de esta manera mayor utilidad a este tipo de
recubrimiento. En ambiente con humedad baja el tiempo de curado es muy
superior al que necesitara con alta humedad, por lo que este inconveniente debe
ser tomado en consideracin a la hora de decidir el preparado ms apropiado para
utilizar en un determinado ambiente.
30
Captulo I
componente, puede ser alguno de los polioles considerados en los otros tipos de
poliuretanos. Han de mezclarse ambos componentes en las proporciones
apropiadas, para considerarlo dispuesto para la aplicacin dentro de un tiempo
muy limitado, puesto que desde ese momento empieza el proceso de curado. Se
consiguen pelculas menos flexibles pero con mayor resistencia a los productos
qumicos y a los abrasivos en general.
1.4.2.- Pigmentos.
Los pigmentos, como se ha dicho, son la parte slida de las pinturas que
proporcionan la proteccin anticorrosiva, el color resultante de su capacidad de
pigmentacin, el poder de recubrimiento, as como el brillo y la proteccin de los
rayos ultravioletas y del medio ambiente, adems le dan mayor tenacidad y
dureza. Todas estas propiedades se consiguen, en una misma pintura, con uno o
ms pigmentos diferentes usados simultneamente.
31
Introduccin general
32
Captulo I
33
Introduccin general
34
Captulo I
por
lo
que
resulta
interesante
usarlos
como
imprimacin
1.4.3.- Disolventes.
35
Introduccin general
36
Captulo I
steres. Son tambin hidrocarburos oxigenados. El principal es el butilacetato y su utilidad est en los vinlicos, epoxdicos y poliuretanos.
37
Introduccin general
Disolvente agua.
desarrollo de pinturas cuyo disolvente sea el agua, con el fin de eliminar los
disolventes orgnicos y as colaborar a la preservacin del medio ambiente, al
mismo tiempo que proteger a los aplicadores. En la actualidad se han ensayado y
comercializado algunas pinturas industriales al agua y sus resultados hasta el
momento, pueden considerarse buenos, aunque el coste an es elevado. El
desarrollo de estas nuevas pinturas va a tal ritmo que en breve podrn ser
competitivas y sustituir a las tradicionales en la mayora de los medios.
1.4.4.- Aditivos.
38
Captulo I
39
Introduccin general
40
Captulo I
recipiente, por lo que la mezcla tiene una vida de unas horas dentro de las cuales
debe aplicarse la pintura. Las resinas epoxi-poliamidas son la muestra tpica de
estos recubrimientos que obedecen a este mtodo de curado. Con esta forma de
curar pueden darse capas de relativamente gruesos espesores ya que no hay que
esperar oxidacin ni evaporacin.
41
Introduccin general
1.5.-
CONSIDERACIONES
PREVIAS
RELATIVAS
LA
42
Captulo I
el factor que controla la vida de la pintura (el tiempo que tarda en romperse la
pelcula de pintura) es la cantidad de agua que se absorbe por el recubrimiento. La
concentracin inica se consider un factor secundario.
43
Introduccin general
El cambio rpido viene seguido por el cambio lento, el cual tiene lugar
durante un plazo de varias semanas o meses. Este proceso est controlado por el
intercambio inico. El intercambio inico entre el recubrimiento y el seno de la
disolucin conduce a una cada en la resistencia, lo cual implica cambios en la
estructura de la pelcula, que progresivamente va resultando en un deterioro de sus
propiedades protectoras.
44
Captulo I
45
Introduccin general
Figura 3: Circuito equivalente para un metal recubierto que sufre procesos de corrosin, donde Rs
es la resistencia de la disolucin, Rpf y Cpf son la resistencia y la capacidad de capa de pintura,
respectivamente, Rt es la resistencia a la transferencia de carga, Cdl la capacidad de la doble capa
y ZW un elemento relacionado con la transferencia de masa.
46
Captulo I
47
Introduccin general
(A)
(B)
Figura 4: Diagramas que muestran el comportamiento general de los elementos del circuito
equivalente para un acero pintado: (A) frente al tiempo de exposicin a una disolucin de NaCl al
5%; (B) frente a la concentracin de la disolucin de NaCl [62].
48
Captulo I
Figura 5: Dibujo esquemtico de una pelcula de pintura sobre un metal, en trminos de un circuito
elctrico sencillo que muestra a la resistencia de transferencia de carga, Rpf, del recubrimiento en
serie con la resistencia de los conductos formados en la pelcula, Rpath.
(9)
(10)
49
Introduccin general
50
Captulo I
Cpf = CI + CD
(11)
51
Introduccin general
C = o A / d
(12)
Por otro lado, la capacidad de la doble capa, Cdl aumenta con el tiempo de
exposicin de la muestra en la disolucin. La tendencia de Cdl es aumentar con el
tiempo de exposicin, y este crecimiento es mayor cuanto ms concentrada sea la
disolucin. Esto era de esperar pues Cdl est directamente relacionada con el rea
total de sustrato expuesto a la disolucin a travs de la pelcula, y el valor de la
capacidad tender hacia los valores de la capacidad de la doble capa del metal
desnudo. La capacidad de la doble capa, Cdl, presenta unos valores al menos un
orden de magnitud mayor que Cpf.
52
Captulo I
Figura 6: Esquema de una pelcula de pintura sobre un metal en trminos de un circuito elctrico
simple donde se muestra la capacidad correspondiente a los poros de la pelcula, CD, en paralelo a
la capacidad del resto de la pelcula, CI.
53
Introduccin general
(13)
54
Captulo I
55
Introduccin general
que se obtuvo para muestras expuestas al medio marino, en las que el tiempo de
degradacin estaba relacionado con la distancia respecto a la superficie del
Cpf, Fcm-2
ocano.
Tiempo, das
Figura 7: Efecto del tiempo de inmersin en una disolucin de NaCl al 5% sobre la componente
capacitativa de la impedancia medida en un acero recubierto a 1 kHz [62].
56
Captulo I
Figura 8: Efecto que tiene la concentracin de iones cloruro en el tiempo de ruptura de la pelcula
de pintura [48].
57
Introduccin general
1.6.-
CONSIDERACIONES
ADICIONALES
ACERCA
DE
LA
58
Captulo I
encuentran
el
ampollamiento
y la
59
Introduccin general
60
Captulo I
Estos pasos se recogen de forma esquemtica en la figura 9. En la figura 9A se muestra la existencia de una capa interfacial de agua en contacto con el
metal, la cual contiene sales disueltas. En 9-B las sales en la interfase han formado
una disolucin concentrada, y finalmente 9-C representa el estado en que la
presin osmtica producida por el gradiente de concentracin existente a travs
del recubrimiento, introduce agua desde el medio exterior produciendo el
ampollamiento.
Disolucin salina
concentrada
Sales solubles
Agua interfacial
61
Introduccin general
62
Captulo I
63
Introduccin general
64
Captulo I
65
Introduccin general
66
Captulo I
67
Introduccin general
1.8.- REFERENCIAS.
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
L.L. Shreir, R.A. Jarman y G.T. Burstein (Eds.), Corrosion, ButterworthHeinemann, Oxford, 1994.
[8]
[9]
68
Captulo I
69
Introduccin general
70
Captulo I
71
Introduccin general
72
Captulo I
73
Introduccin general
74
Captulo I
[90] T.R. Bullett y J.L. Prosser, Progress in Organic Coatings 1 (1972) 45.
[91] W. Funke, Journal of Oil and Colour Chemistry Association 68 (1985) 229.
[92] T.R. Bullett y A.T.S. Rudram, Journal of Oil and Colour Chemistry
Association 44 (1961) 787.
[93] J.J. Bikerman, The Science of Adhesive Joint, 2 edicin. Academic Press,
Nueva York, 1968, p. 137-150.
[94] P. Walker, Journal of Coatings Technology 52-670 (1980) 49.
[95] U. Zorll, Journal of Oil and Colour Chemistry Association 67 (1983) 1983.
[96] J.S. Hammond, J.W. Holubka, J.E. de Vries y R.A. Dickie, Corrosion
Science 21 (1981) 239.
[97] J.E. de Vries, J.W. Holubka y R.A. Dickie, Industrial Engineering
Chemistry 22 (1983) 256.
[98] J.F. Watts y J.E. Castle, Journal of Materials Science 19 (1984) 2259.
[99] H. Leidheiser, Jr. y P.D. Deck, Science 241 (1988) 1176.
[100] H. Leidheiser y W. Funke, Journal of Oil and Colour Chemistry Association
70 (1987) 121.
[101] S.J. Downey y O.F. Deveraux, Corrosion 45 (1989) 675.
[102] C.A. Gosselin, en Polymeric Materials for Corrosion Control, ACS
Symposium 322 (1986) 180.
[103] P.R. Troyk, M.J. Watson y J.J. Poyezdala, en Polymeric Materials for
Corrosion Control, ACS Symposium 322 (1986) 299.
[104] K.R. Gowers y J.D. Scantlebury, Corrosion Science 23 (1983) 935.
75
Captulo II
Tcnicas Experimentales
Captulo II
de
caracterizacin
morfolgica
de
actividad
79
Tcnicas experimentales
E = I R
(1)
80
(2)
Captulo II
Magnitud
Desfase
Corriente
Potencial
Tiempo
Figura 1: Formas de onda de un potencial a.c. aplicado y la corriente a.c. resultante.
81
Tcnicas experimentales
I(t) = A sen(t+)
(3)
(X, Y)
82
Captulo II
83
Tcnicas experimentales
Z total =
(E ' +
j E '')
(I ' +
j I '')
(4)
(5)
(6)
definido en trminos de los mismos ejes de coordenadas que los vectores corriente y
voltaje.
84
Captulo II
Z =
(7)
Z'
(8)
85
Tcnicas experimentales
86
Captulo II
Z total = Z1 + Z 2
(9)
En la notacin compleja, las partes reales deben ser sumadas juntas para
tener la componente real de la combinacin en serie, y las partes imaginarias se
deben sumar para obtener la componente imaginaria de dicha combinacin:
Z s ' + jZ s ' ' = (Z1 ' + Z 2 ') + j (Z1 ' ' + Z 2 ' ')
(10)
87
Tcnicas experimentales
O + ne R
(11)
88
Captulo II
89
Tcnicas experimentales
Figura 6: Circuito equivalente para un metal recubierto en el que se produce proceso de corrosin.
90
Captulo II
Las cantidades Rpf, RS, Cdl, y max, se definen en las figuras 7 y 8. Ntese
que la capacidad de la doble capa se calcula a partir del valor extrapolado del
mdulo de la impedancia Z a = 1 rad s-1 (log = 0). Puesto que = 2f, la
frecuencia correspondiente es 0.16 Hz. La max se puede determinar tambin en
el punto de inflexin de los datos de Z .
91
Tcnicas experimentales
92
Captulo II
93
Tcnicas experimentales
En este punto merece una mencin especial el trabajo publicado en 1982 por
Mansfeld, Kendig y Tsai [2] por su amplitud y detallado anlisis de los datos
obtenidos para el caso de recubrimientos de polibutadieno sobre acero al carbono y
aleaciones de aluminio que haban sido sometidos a distintos procedimientos previos
de preparacin. Posteriores trabajos de este mismo grupo han permitido desarrollar
los mtodos de anlisis de los espectros de impedancias y extender la aplicabilidad y
tipos de informacin accesibles con la tcnica EIS [3,6], lnea que se ha completado
con el desarrollo de paquetes informticos que estn especialmente diseados para el
anlisis de los espectros de impedancias de metales recubiertos [22].
Cpf = 0 A / d
94
(12)
Captulo II
(A)
(B)
Figura 10: (A) Espectro de impedancias terico para la degradacin de un metal con un
recubrimiento protector, y (B) circuito equivalente que lo genera.
95
Tcnicas experimentales
96
Captulo II
resistencia d.c. resultante llega a alcanzar valores muy altos en algunos casos [33].
La prdida de adherencia de los recubrimientos viene precedida de la formacin de
embolsamientos en ciertas partes del recubrimiento, lo que se refleja en una
modificacin de las propiedades del recubrimiento epoxdico [34]. Todos estos
efectos solo pueden describirse cuando se hace uso de elementos de fase constante
en el circuito equivalente.
97
Tcnicas experimentales
98
Captulo II
cuyas
funciones
son
respectivamente:
trabajo,
referencia
99
Tcnicas experimentales
Figura 11: Seccin de la celda electroqumica utilizada en los experimentos con la tcnica EIS: WE,
electrodo de trabajo; RE, electrodo de referencia; y CE, contraelectrodo.
100
Captulo II
Contraelectrodo
E
Potenciostato
Detector de
fase
Electrodo de
Referencia
I
Electrodo de
Trabajo
Celda
Electroqumica
Ordenador
Figura 12: Diagrama de bloques del sistema instrumental empleado para las medidas EIS.
Instrumento / Software
Modelo
Potenciostatos
Software de control
ZsimpWin 2.00
101
Tcnicas experimentales
O + n e R
102
(13)
Captulo II
iT , = 4n FD c a
(14)
Cuando el UME est muy alejado del sustrato (una distancia mayor a
varios dimetros del electrodo) la corriente que fluye se mantiene constante, iT,
[62]. Esto se debe a que la especie O llega al electrodo desde todas las direcciones
sin agotarse (figura 13-A). Si el electrodo se aproxima a un sustrato aislante la
corriente que fluye, iT ser menor a la corriente lmite, iT,, debido a que el propio
sustrato bloquea el acceso de especie O desde el seno de la disolucin al
electrodo, y cuanto ms prximo est el electrodo al sustrato ms decae la
103
Tcnicas experimentales
104
Captulo II
(A)
(B)
(C)
Figura 13: Principios bsicos del SECM: (A) con el microelectrodo lejos del sustrato; (B) el
microelectrodo cerca de un sustrato aislante; (C) el microelectrodo prximo a un sustrato
conductor.
105
Tcnicas experimentales
106
Captulo II
Estos
estudios
se
realizan
empleando
la
ciclovoltametra
microelectrodo-sustrato [70,71].
5) Estudio
de
interfases
lquido-lquido.
Esta
aplicacin
consiste
107
Tcnicas experimentales
instrumento
consta
de
una
combinacin
de
componentes
Figura 14: Esquema del sistema instrumental empleado para las medidas SECM.
108
Captulo II
fue
109
Tcnicas experimentales
110
Captulo II
nodo
Ctodo
Lneas de corriente
Lneas equipotenciales
Figura 15: Distribucin de lneas equipotenciales y de corriente, tanto en una zona andica
como en una catdica.
111
Tcnicas experimentales
cul permite tambin eliminar el ruido generado por otras frecuencias distintas
a la de la medida. La explicacin que rige el principio de funcionamiento de
esta tcnica est basada en trabajos y consideraciones realizadas por Bayet y
col. [93], donde haca vibrar un microelectrodo a una frecuencia angular de
tal forma que la distancia entre el electrodo y la probeta (electrodo de trabajo)
vara con el tiempo segn la expresin (figura 17)
h(t ) =+
h0 dsen(t )
(15)
j loc=
(t ) j loc ,0 + j loc sen(t )
112
(16)
Captulo II
V sen t
Electrodo
vibrante
Electrodo de
referencia
Electrolito
V
Lneas de
corriente
Lneas
equipotenciales
Ctodo
Ctodo
nodo
Figura 16: Representacin esquemtica del principio de operacin del SVET. El electrodo se
hace vibrar a una distancia determinada sobre la superficie del metal.
Electrodo de Pt
Posicin media
ELECTROLITO
PROBETA METLICA
113
Tcnicas experimentales
Eloc=
(t ) Eloc , 0 + Eloc ( ) sen(t + )
(17)
Z loc ( ) =
Eloc ( ) j
e
jloc
(18)
R e (t ) = [ h0 + dsen(t ) ]
(19)
114
Captulo II
(20)
=
I
E 1 V
=
r
(21)
115
Tcnicas experimentales
2.3.2.- Instrumentacin.
La celda electroqumica.
El
sistema
piezo-oscilador,
el
cual
provoca
la
oscilacin
del
microelectrodo.
-
116
Captulo II
Detector de fase
PC
Pre-amplificador
Sistema de vdeo
Registro de
seal
Seal de entrada al
electrodo SVET
Electrodo SVET
Figura 18: Esquema del sistema instrumental utilizado para las medidas SVET.
Corriente inica
Electrodo de
referencia
Lneas
equipotenciales
ctodo
nodo
ctodo
Sustrato
117
Tcnicas experimentales
2.6.-
CARACTERIZACIN
DE
LA
ADHERENCIA
DE
LOS
RECUBRIMIENTOS.
118
Captulo II
2.7.- REFERENCIAS.
[1]
[2]
[3]
[4]
F. Mansfeld, Analysis and Interpretation of EIS Data for Metals and Alloys,
Referencia Monogrfica 26. Solartron Instruments Group, Farnsborough,
1993.
[5]
[6]
[7]
[8]
119
Tcnicas experimentales
[9]
120
Captulo II
121
Tcnicas experimentales
122
Captulo II
[56] B.D. Bath, R.D. Lee, H.S. White y E.R. Scott, Analytical Chemistry 70
(1998) 1047.
[57] C. Wei, A.J. Bard y M.V. Mirkin, Journal of Physical Chemistry 99 (1995)
16033.
[58] Y. Shao y M.V. Mirkin, Journal of Electroanalytical Chemistry 439 (1997)
137.
[59] A.L. Barker, J.V. Macpherson, C.J. Slevin y P.R. Unwin, Journal of
Physical Chemistry B 102 (1998) 1586.
[60] C.W. Lin, F.-R.F. Fan y A.J. Bard, Journal of the Electrochemical Society
134 (1987) 1038.
[61] D.H. Craston, C.W. Lin y A.J. Bard, Journal of the Electrochemical Society
135 (1988) 785.
[62] A.J. Bard, G. Denuault, C. Lee, D. Mandler, y D.O. Wipf, Accounts of
Chemical Research 23 (1990) 357.
[63] J. Kwak y A.J. Bard, Analytical Chemistry 61 (1989) 1794.
[64] D.O. Wipf y A.J. Bard, Journal of the Electrochemical Society 138 (1991)
469.
[65] B.R. Horrocks, M.V. Mirkin y A.J. Bard, Journal of Physical Chemistry 98
(1994) 9106.
[66] N. Casillas, P. James y W.H. Smyrl, Journal of the Electrochemical Society
142 (1995) L16.
[67] A.J. Bard, F.-R.F. Fan y M.V. Mirkin, en Electroanalytical Chemistry,
vol.18, A.J. Bard (Ed.). Marcel Dekker, Nueva York, 1994, p. 243.
123
Tcnicas experimentales
124
Captulo II
125
Captulo III
Captulo III
3.1.- INTRODUCCIN.
129
130
Captulo III
recubrimiento. El espesor de la pelcula se midi con un Mega-Check FN CoatingThickness-Meter (List-Magnetik GMBH, Alemania) y se eligi un rango de 60140m.
131
En ellas se han representado tanto diagramas Nyquist como Bode. Ellos fueron
obtenidos para dos sustratos metlicos (acero al carbono y acero galvanizado) con el
recubrimiento orgnico correspondiente y en el caso del acero galvanizado como
sustrato se utilizaron dos espesores de pelcula diferentes. Los cambios en las
caractersticas de la impedancia como resultado de la exposicin de las muestras al
medio corrosivo podran deducirse de estos espectros.
132
Z', cm2
Captulo III
5.0x108
0.0
0.0
5.0x108
1.0x109
1.5x109
Z', cm2
IZI, cm2
109
108
107
106
105
104
-4
-3
-2
-1
, grados
80
60
40
20
0
-4
-3
-2
-1
Figura 1: Espectros de impedancia obtenidos para el sistema acero al carbono recubierto con epoxipoliamina conteniendo escamas de vidrio en una disolucin de NaCl al 3% despus de: () 7, () 47,
() 161, () 310, y () 361 das. Espesor del recubrimiento: 60 m.
133
Z'', cm2
1.0x108
5.0x107
0.0
0.0
5.0x107
1.0x108
1.5x108
2.0x108
2.5x108
Z', cm2
109
IZI, cm2
108
107
106
105
104
-4
-3
-2
-1
80
, grados
60
40
20
0
-4
-3
-2
-1
134
Z'', cm2
Captulo III
2.0x107
0.0
0.0
2.0x107
4.0x107
6.0x107
Z', cm2
IZI, cm2
109
108
107
106
105
104
-4
-3
-2
-1
80
, grados
60
40
20
0
-4
-3
-2
-1
34, () 86, () 155, () 227, y () 395 das. Espesor del recubrimiento: 140 m.
135
Desde una mera observacin de estos diagramas se puede deducir que existen
dos constantes de tiempo operando en estos sistemas, a todos los tiempos de inmersin
en el medio corrosivo. As los espectros podran ser analizados en trminos de un
circuito equivalente para un recubrimiento orgnico con defectos [18,19], como se
muestra en la figura 4.
Cpf
RS
Cdl
Rpf
Rt
As, se considera que la corrosin del metal recubierto est controlada por el
mismo mecanismo que ocurre en el metal desnudo pero con una superficie activa muy
reducida. El circuito equivalente consiste de una resistencia RS debida al electrolito y a
los conectores elctricos, un condensador Cpf de la capa intacta del recubrimiento, la
resistencia del poro Rpf debida a la penetracin del electrolito, la resistencia de
polarizacin del sustrato Rt, y la capacidad de la doble capa Cdl en la interfase
sustrato/electrolito.
136
Captulo III
1010
109
108
107
1010
Rpf, cm2
109
108
107
1010
109
108
107
100
200
300
400
Tiempo, das
Figura 5: Valores de Rpf en funcin del tiempo de exposicin de un recubrimiento epoxi-poliamina que
contiene escamas de vidrio. (A) acero al carbono recubierto con una capa de 60 m; (B) acero galvanizado
recubierto con una capa de 60 m; y (C) acero galvanizado recubierto con una capa de 140 m.
137
A
-9
10
10-10
-9
Cpf, F cm-2
10
10-10
C
-9
10
10-10
0
100
200
300
400
Tiempo, das
Figura 6: Valores de Cpf en funcin del tiempo de exposicin de un recubrimiento epoxi-poliamina que
contiene escamas de vidrio. (A) acero al carbono recubierto con una capa de 60 m; (B) acero galvanizado
recubierto con una capa de 60 m; y (C) acero galvanizado recubierto con una capa de 140 m.
138
Captulo III
139
ruptura [14-16], que consiste en analizar a lo largo del tiempo la frecuencia de ruptura
caracterstica para cada espectro de impedancia. Esta frecuencia de ruptura
caracterstica, fb, es la frecuencia en la que el ngulo de fase es igual a 45 en la
regin de transicin capacitativo-resistivo. La frecuencia de ruptura est relacionada
con el rea deslaminada [15], y da una medida de la relacin entre las reas daadas y
las intactas:
fb =
Ad
2 0 0 A
KAd
A
(1)
140
Captulo III
103
102
101
100
10-1
10-2
103
fb, cm2
102
101
100
10-1
10-2
103
102
101
100
10-1
10-2
0
100
200
300
400
Tiempo, das
Figura 7: Valores de fb en funcin del tiempo de exposicin de un recubrimiento epoxi-poliamina que
contiene escamas de vidrio. (A) acero al carbono recubierto con una capa de 60 m; (B) acero galvanizado
recubierto con una capa de 60 m; y (C) acero galvanizado recubierto con una capa de 140 m.
141
MUESTRA
No expuesta
Despus de la exposicin
42.0
30.4
25.1
20.5
46.3
38.2
Tabla 1: Resultados de los ensayos de adherencia. Los datos se presentan como la fuerza necesaria
para arrancar la capa polimrica del sustrato, expresados en kgcm-2.
142
Captulo III
3.4.- CONCLUSIONES.
143
3.5.- REFERENCIAS.
[1]
[2]
[3]
[4]
L.L. Shreir, R.A. Jarman y G.T. Burstein (Eds.), Corrosion, 3. ed., Vol. 2.
Butterworth-Heinemann, Oxford (1994), Ch. 14.
[5]
E.P.M. van Westing, G.M. Ferrari y J.H.W. de Wit, Corrosion Science 36 (1995)
957.
[6]
R.M. Souto, V. Fox, M.M. Laz y S. Gonzlez, Journal of Adhesion Science and
Technology 14 (2000) 1321.
[7]
144
Captulo III
[8]
[9]
145
Captulo IV
Captulo IV
4.1.- INTRODUCCIN.
Desafortunadamente
electroqumicas
la
convencionales
falta
de
resolucin
proporciona
poca
espacial
de
informacin
las
tcnicas
acerca
del
comportamiento de los lugares donde se inician los procesos de corrosin o de las zonas
de la muestra con defectos, zonas donde es ms probable que se inicie el fenmeno. De
ah surge la necesidad de utilizar tcnicas que permitan aumentar la resolucin espacial,
con las cuales podamos adquirir datos en tiempo real que proporcionen nuevas
evidencias o nos permitan corroborar otras informaciones acerca de reacciones o de
procesos cuya existencia se desconoce, aun hoy en da. Los avances recientes,
producidos en el desarrollo de tcnicas de barrido local, estn contribuyendo
enormemente a vencer esas limitaciones cuando se las aplica a la investigacin del
fenmeno de la corrosin in situ. Los investigadores han explorado una amplia variedad
de mtodos para caracterizar los procesos electroqumicos locales cuyo rango de
aplicacin da lugar al diseo de celdas microelectroqumicas y la puesta en marcha y
149
iT, = 4nFDca
donde
iT, = corriente faradaica en el UME en el seno de la disolucin,
150
(1)
Captulo IV
151
(A)
UME
(B)
(C)
(D)
(E)
iT, = 4nFDca
Conductor
Aislante
Figura 1: Distintos modos de operacin del SECM. (A) Corriente registrada en el UME en el seno de la
disolucin; retroalimentacin positiva (B) y negativa (C), producida al aproximar un UME a un sustrato aislante
y conductor respectivamente, (D) modo de operacin generador-colector y (E) competicin redox.
152
Captulo IV
4.2.- EXPERIMENTAL.
153
Corriente
(A)
Difusin
semiesfrica
Ihind = i
(B)
Difusin
impedida
Ihind < i
(C)
Imagen
topogrfica
Id > ihind
(D)
Sitio
activo
(E) Competicin
Redox
Distancia
La SECM puede ser usada como una herramienta electroqumica para el estudio
de procesos de electrodo, y reacciones en fase homognea acopladas, usando el modo
de funcionamiento generador-colector. En el modo sustrato generador-punta del UME
colector, la corriente del UME se usa para seguir el flujo de especies electroactivas
desde el sustrato. Se puede aplicar esta configuracin en algunos casos para determinar
los perfiles de concentracin sobre el sustrato. Por otra parte, la SECM puede usarse en
el modo: punta UME generador-sustrato colector, en la cual, el sustrato sirve para hacer
154
Captulo IV
un seguimiento al flujo de especies desde la punta del UME. Este modo es til en el
estudio de reacciones homogneas que ocurren en el espacio entre el sustrato y el UME.
La figura 2-D muestra el principio bsico de SECM usado en el modo sustrato
generador-punta UME colector, tanto para un sitio activo, como para el caso de la
superficie aislante que lo rodea.
155
Potencial, V
Mediador
Concentracin
Pareja redox
Ferroceno-metanol
0.5 mM
Ferroceno/Ferricinio
+0.50
FeSO4(NH4)2SO4
5 - 7 mM
Fe2+/Fe3+
+0.60
K4[Fe(CN)6]
1 mM
Fe(CN6)4-/Fe(CN6)3-
+0.40
Oxgeno disuelto
O2 / OH-
-0.60
vs. Ag/AgCl/KClsat
(A)
(B)
(C)
Sup. conductora
CorrienteUME
iT, = 4nFDca
CorrienteUME
Sup. aislante
Distancia
Distancia
Figura 3: Principios bsicos del SECM: (A) Geometra y campo de difusin del UME. (B)
Retroalimentacin negativa: la punta es colocada en una zona cercana a la superficie aislante, con lo cual
la difusin de la especie O se ve impedida. (C) Retroalimentacin positiva: la punta se coloca en una zona
cercana a la superficie conductora del sustrato, donde se produce la oxidacin de la especie R.
156
Captulo IV
157
detectar esa tendencia del sistema experimental. La figura 4 muestra lneas de los
barridos realizados correspondientes a diferentes perodos de exposicin y para varias
disoluciones de distintos electrolitos. Debido a las inevitables irregularidades e
inclinacin de la propia superficie de los sustratos, todas las lneas del barrido muestran
pequeos cambios en los valores de la corriente medida en la punta del UME cuando se
realiza el barrido de la superficie. Esta inclinacin es especialmente evidente para la
muestra inmersa en la disolucin de 0.01 M en KCl (ver figura 4-B). Este efecto de
inclinacin no est originado por el proceso que ocurre en la celda electroqumica
durante el experimento, sino por la propia geometra de la celda SECM; as para un
experimento determinado, este valor es independiente del tiempo. Sin embargo, las
medidas con el UME sern ms sensibles a la variacin de la distancia entre la
superficie de la muestra y la punta del UME en esas zonas donde dicha distancia es ms
prxima. As, las lneas del barrido no son paralelas, sino que estn separadas a la
izquierda, donde el sustrato est ms cerca del UME. Por el contrario y como se
muestra en la lneas del barrido de la figura 4-A con datos tomados para una disolucin
de K2SO4 0.1 M como electrolito, este efecto est casi por completo ausente,
observndose que la inclinacin inicial fue pequea.
Se observa que los valores de la corriente medidas en las distintas lneas del
barrido son siempre ms pequeos que aquellos valores de corriente medidos con
anterioridad, durante las cinco primeras horas de exposicin; sin embargo las lneas se
van superponiendo para perodos de exposicin mayores. Vemos as que la tcnica
SECM es sensible a los cambios de posicin absoluta de la superficie de un metal
recubierto, en relacin con la posicin del extremo inferior del UME y por lo tanto
puede ser usada para realizar un seguimiento de la penetracin de agua a travs de la
matriz polimrica.
158
Captulo IV
(A)
0,2
6 min
27 min
48 min
69 min
90 min
111 min
132 min
153 min
174 min
195 min
Corriente, nA
0,3
0,4
0,5
0,6
0,7
0,8
0,9
0
20
40
60
80
100
(B)
Corriente, nA
0,56
52 min
92 min
142 min
162 min
192 min
222 min
252 min
292 min
0,58
0,60
0,62
0,64
0,66
0
20
40
60
80
100
120
140
160
Figura 4: Lneas del barrido medidas a lo largo de la direccin del eje Y durante la exposicin de galfan a:
(A) disolucin de K2SO4 0.1 M, y (B) disolucin de KCl 0.01 M. Velocidad de barrido: 20 ms-1. Potencial
del UME: +0.50 V vs. Ag/AgCl/KCl (saturado) como electrodo de referencia. Dimetro del UME: 10 m.
Distancia punta UME-sustrato: 10 m.
Este efecto pudo ser investigado posteriormente, llevando a cabo otra clase de
experimentos. En este caso no realizamos un barrido con el UME sobre la superficie del
sustrato, sino que se coloc el UME en una posicin fija sobre un punto de la superficie
de la muestra elegido aleatoriamente. Como el UME se mantuvo a una distancia dentro
del rango en el que el sistema poda percibir una respuesta, las variaciones en el flujo de
159
160
Captulo IV
Corriente
a
10 pA
b
500
1000
1500
2000
2500
Tiempo, s
Figura 5: Curvas cronoamperomtricas medidas en el UME de una SECM situado a 10 m de la
superficie de una muestra de galfan, inmerso en una disolucin: (a) 0.1 M en K2SO4, y (b) 0.1 M en KCl. El
potencial impuesto al UME fue de: +0.50 V vs. Ag/AgCl/KCl (saturado) como electrodo de referencia. El
dimetro del UME fue de 10 m.
0,28
Corriente, nA
0,30
0,32
6 min
21 min
48 min
64 min
85 min
0,34
0,36
0,38
0,40
0,42
0
20
40
60
80
Figura 6: Lneas del barrido medidas a lo largo de la direccin del eje Y durante la exposicin de galfan en
una disolucin 0.1 M en KCl. Velocidad de barrido: 20 ms-1. Potencial del UME: +0.50 V vs. Ag/AgCl/KCl
(saturado) como electrodo de referencia. Dimetro del UME: 10 m. Distancia punta UME-sustrato: 10 m.
161
162
Captulo IV
163
0.29
Eje Y, m
Eje X, m
0.34
(B)
0.626
0.647
(C)
0.56
0.58
Figura 8: Imgenes de SECM para tres sistemas metal/recubrimiento: (A) Galfan despus de 42 min
de inmersin en una disolucin 0.1 M en KCl; la imagen representa 100 m x 100 m en las direcciones X e
Y; velocidad de barrido: 20 ms-1. (B) Acero al carbono recubierto con poliuretano despus de 142 min de
inmersin; la imagen representa un rea de 200 m x 200 m en las direcciones X e Y; velocidad de barrido:
30 ms-1. (C) Galfan despus de 6 h de inmersin en una disolucin 0.1 M en K2SO4; la imagen representa
un rea de 100 m x 100 m en las direcciones X e Y; velocidad de barrido: 25 ms-1. Valores del eje Z:
Corriente, nA. Potencial del UME: +0.50 V vs. Ag/AgCl/KCl (saturado) como electrodo de referencia. Dimetro
del UME: 10 m. Distancia UME-sustrato: 10 m.
164
Captulo IV
Corriente, nA
0.68
0.64
0.60
0.56
0.52
0
50
100
150
Distancia UME-sustrato, m
Figura 9: Curva de aproximacin medida en un UME SECM en una disolucin de KCl 0.1 M + 0.5 mM
ferroceno-metanol poco despus de que la muestra de acero al carbono revestida con poliuretano se
expusiera a la disolucin. Potencial del UME: +0.50 V vs. Ag/AgCl/KCl (saturado) usado como electrodo
de referencia. Se estim que el UME alcanza la superficie cuando la corriente del mismo decreci hasta
un 75 % del valor estacionario que se alcanza en el seno de la disolucin electroltica. Dimetro del UME:
10 m.
165
Distancia UME-sustrato, m
14
12
10
8
6
4
2
Zona I
Zona II
0
50
100
150
200
250
300
La tcnica SECM operando en el modo sustrato generador-UME colector (TGSC), permite detectar la presencia de procesos de corrosin localizada, medir las
variaciones locales de concentracin de las especies participantes, y la extensin de la
corrosin metlica, adems de realizar un seguimiento de estas especies en zonas
adyacentes a defectos en el recubrimiento.
166
Captulo IV
La figura 12 muestra las lneas de los barridos realizados para registrar los
perfiles de concentracin de los iones Fe (II) y de oxgeno disuelto sobre un defecto
durante la inmersin en una disolucin 0.1 M en KCl como electrolito. La degradacin
del metal se produce en el interior del defecto y se liberan iones OH en la reaccin
catdica, modificando as la composicin del electrolito, lo que causa la precipitacin
de productos de corrosin del hierro y esto a su vez provoca el relleno del agujero con
dichos productos a tiempos de exposicin lo suficientemente largos.
167
A)
Fe3+
Fe2+
Fe2+
recubrimiento
capa metlica galfan
defecto
acero
Fe2+ Fe3+ + e-
Epunta = +0.60 V
B)
O2
recubrimiento
OH-
defecto
O2 + H20 + 4 e- 4 OH-
Epunta = -0.70 V
Figura 11: Representaciones esquemticas del UME de un SECM trabajando en el modo generadorcolector para registrar la actividad electroqumica que se produce en un defecto artificial realizado en
acero galvanizado recubierto con un polmero orgnico.
168
-0,400
nta, nA
0,007
0,006
corriente pu
corriente punta
, nA
Captulo IV
0,005
0,004
0,003
200
0,001
0
150
500
tan
c
-0,350
-0,325
-0,300
-0,275
-0,250
0,002
dis
-0,375
100
1000
ia s
e g
50
1500
ne
je X
, m
2000
tie
po
de
p
ex
n
i
ic
os
in
,m
-0,225
250
di s
tan
200
500
cia
150
1000
seg
100
1500
ne
je X
2000
, m
50
e
od
mp
t ie
ex
po
,
in
sic
mi
Figura 12: Lneas de los barridos a travs de un defecto provocado en una muestra de acero recubierto
con poliuretano, despus de su inmersin en una disolucin 0.1 M en KCl. Los potenciales del UME
fueron: (A) +0.60 V, y (B) -0.70 V vs. Ag/AgCl/KCl (saturado) utilizado como electrodo de referencia.
Velocidad de barrido: 3 ms-1. Dimetro del UME: 10 m. Distancia entre el sustrato y el UME: 10 m.
169
Figura 13: Imagen SECM de un sustrato de acero recubierto con poliuretano inmerso en una disolucin
0.1 M en KCl. El tamao de la imagen es de 1500 m x 1000 m en las direcciones de los ejes X e Y;
velocidad de barrido: 30 ms-1. Los valores del eje Z: Corriente, nA. Potencial del UME: -0.60 V vs.
Ag/AgCl/KCl (saturado) como electrodo de referencia. Dimetro del UME: 10 m. Distancia sustrato-UME:
15 m.
170
Captulo IV
oxgeno en las proximidades del defecto; as, el SECM cesa de producir la imagen real
de la topografa de la muestra pero en su lugar, registra la actividad electroqumica. Esta
es la razn por la que se encuentra la menor cantidad de oxgeno en el centro del
defecto, y que dicha concentracin vaya aumentando progresivamente hacia los bordes
del mismo. La correspondiente reaccin andica libera especies inicas solubles de
hierro, las cuales eventualmente pueden precipitar dentro del defecto, debido a que el
electrolito se va volviendo ms alcalino a medida que progresa la reaccin de corrosin.
En efecto, esta observacin es apoyada por la inspeccin de la microfotografa ptica
tomada despus de separar la muestra de la disolucin electroltica de KCl. Pueden
verse claramente los productos de corrosin en la figura 14-B.
Figura 14: Microfotografias pticas del defecto artificial practicado en una muestra con recubrimiento de
poliuretano, alcanzando el sustrato de acero al carbono subyacente. Las muestras: (A) antes y (B)
despus de retirada la muestra que estuvo en contacto con una disolucin 0.1 M en KCl durante 75 min.
171
Corriente, nA
0.55
0.54
0.50
0.46
0.42
0.38
0.34
0.5
0.45
0.4
0.35
0.3
600
200
X, m
400
400
600
800
200
1000 0
Y, m
Figura 15: Imagen SECM de un sustrato de acero recubierto con poliuretano tomada durante su
inmersin en una disolucin de KCl 0.1 M y ferroceno-metanol (c = 0.5 mM) aadido al electrolito como
mediador redox en el UME del SECM. En la imagen se representa un rea de 1000 m x 700 m en la
direccin de los ejes X e Y; velocidad de barrido: 30 ms-1. Valores del eje Z: Corriente, nA. Potencial del
UME: +0.50 V vs. Ag/AgCl/KCl (saturado) como electrodo de referencia. Dimetro del UME: 10 m.
Distancia sustrato-UME: 15 m.
172
Captulo IV
Por lo tanto debe hacerse notar en este caso, que la informacin obtenida con el
SECM no est circunscrita al defecto, sino tambin, que la tcnica es sensible a la
topografa de las reas aislantes debidas al recubrimiento. La electrorreduccin del
oxgeno disuelto en el UME, permiti obtener imgenes de la topografa del
recubrimiento mostradas en la figura 13 de manera anloga a la situacin obtenida
cuando el ferroceno-metanol se aadi al electrolito (figura 15). La capa de metal
subyacente, esta vez no ha sido expuesta y as la superficie completa que rodea al
defecto est aislada electroqumicamente. Por lo tanto en la figura 13, la topografa de la
superficie pintada, exterior al defecto producido, se obtiene a partir de la disminucin
en la corriente debida al impedimento que la superficie aislante produce en el proceso
de difusin del oxgeno molecular al UME (es decir, se recupera el modo de operacin
de retroalimentacin negativa).
173
Corriente, nA
-0.4
-0.42
-0.44
-0.46
-0.48
-0.5
-0.52
-0.54
-0.56
-0.56
-0.52
-0.48
-0.44
-0.40
0
500
1000
1500
X, m
2000
200
400
600
800
Y, m
Figura 16: Imagen SECM de un sustrato de acero recubierto con poliuretano inmerso en una disolucin
0.1 M de Na2B4O7. El oxgeno disuelto en la disolucin electroltica se us como mediador redox en el
UME del SECM. La imagen representa un rea de 2000 m x 800 m en la direccin de los eje X e Y:
velocidad de barrido 30 ms-1. Valores del eje Z: Corrientes, nA. Potencial del UME: -0.60 V vs.
Ag/AgCl/KCl (saturado) usado como electrodo de referencia. Dimetro del UME: 10 m. Distancia UMEsustrato: 15 m.
174
Captulo IV
Figura 17: Microfotografas pticas del defecto practicado hasta alcanzar la superficie del metal
subyacente a una muestra de acero al carbono recubierto con poliuretano y sumergida en una disolucin
0.1 M en Na2B4O7. La muestra (A) antes y (B) despus de finalizada la inmersin al cabo de 75 min.
175
Figura 18: Microfotografa ptica de un defecto producido a una lmina de metacrilato. La imagen se tom
previamente a su inmersin en KCl 0.1 M.
176
Captulo IV
Corriente, nA
Y, m
X, m
Figura 19: Medida SECM de un orificio producido sobre una lamina de metacrilato sumergida en una
disolucin de KCl 0.1 M. Se us como mediador redox en el UME del SECM el oxgeno molecular
disuelto. La imagen representa un rea de 1500 m x 1800 m en las direcciones de los ejes X e Y;
Velocidad de barrido: 60 ms-1. Valores del eje Z: Corriente, nA. Potencial del UME: -0.60 V vs.
Ag/AgCl/KCl (saturado) usado como electrodo de referencia. Dimetro de la sonda: 10 m. Distancia
UME- sustrato: 15 m.
177
(A)
(B)
(C)
(D)
178
Captulo IV
4.4.- CONCLUSIONES.
El uso del oxgeno como mediador redox para el SECM permite estudiar tanto la
topografa como los procesos interfaciales que tienen lugar en recubrimientos orgnicos
aplicados sobre sustratos metlicos y que contengan defectos. Los mapas proporcionan
slo informacin de la topografa cuando el metal es estable en el entorno considerado.
Por el contrario, los mapas combinan informacin de la topografa y de la reactividad
electroqumica de la muestra en el caso de que el metal sufra reacciones de corrosin en
los defectos. Este es el caso cuando las muestras investigadas son inmersas en una
disolucin que contiene iones cloruro, mientras que slo se puede obtener informacin
de la topografa de la superficie cuando las muestras se sumergen en una disolucin de
boratos.
179
180
Captulo IV
4.5.- REFERENCIAS.
[1]
[2]
I.M. Zin, R.L. Howard, S.J. Badger, J.D. Scantlebury y S.B. Lyon, Progress in
Organic Coatings 33 (1998) 203.
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10] A.J. Bard y M.V. Mirkin (Eds.), Scanning Electrochemical Microscopy, Marcel
Dekker, Nueva York, 2001.
[11] B.R. Horrocks, en Encyclopedia of Electrochemistry, Vol. 3, A.J. Bard, M.
Stratmann y P.R. Unwin (Eds.), Wiley-VCH, Weinheim, 2003, p. 444.
181
182
Captulo IV
183
184
Captulo V
Captulo V
5.1.- INTRODUCCIN.
187
Una de las tcnicas que puede usarse para el estudio de los procesos de
degradacin de metales recubiertos con polmeros es la microscopa
electroqumica de barrido (SECM), un mtodo que combina tcnicas de barrido
con sondas, con tcnicas electroqumicas [9,10]. Esta tcnica posee una alta
resolucin espacial y es aplicable tanto a superficies de materiales aislantes
[11,12] como a superficies conductoras [13], cuando se opera en el modo de
retroalimentacin. Desafortunadamente los mediadores electroqumicos utilizados
188
Captulo V
en
la
punta
del
ultramicroelectrodo
(UME)
seleccionando
189
que se producen. As, la actividad local de la superficie puede ser registrada sin la
adicin de ningn mediador redox a la disolucin electroltica. Concretamente,
nosotros presentamos imgenes SECM de un comportamiento electroqumico
complejo que se produce sobre sustratos metlicos protegidos por recubrimientos
orgnicos, cuando fueron expuestos a una disolucin electroltica, tanto para una
superficie libre de defectos, como en las inmediaciones de un orificio de forma
circular.
5.2.- EXPERIMENTAL.
5.2.1.- Materiales.
190
Captulo V
191
(1)
192
Captulo V
193
inicialmente
por
medio
del
registro
del
correspondiente
194
Captulo V
0
-1
Corriente,
nA
Current [nA]
-2
-3
-4
-5
-6
-7
-8
-9
-0.9
-0.8
-0.7
-0.6
-0.5
-0.4
-0.3
-0.2
-0.1
0.1
Potential [mV]
Potencial,
V
Figura 1: Ciclovoltagrama medido en el seno de la disolucin de borato de sodio 0.1 M con el UME
de platino actuando como punta SECM. Velocidad de barrido: 0.1 Vs-1.
195
Intensidad, nA
-1.8
-1.6
-1.4
-1.2
-1.0
0
20
40
60
80
196
Captulo V
X, m
Y, m
197
(B)
(A)
(D)
(C)
Figura 4: Imgenes de SECM para el sistema metal-polmero con un orificio establecido de 200
m de dimetro aproximadamente: (A) 0 min, (B) 170 min, (C) 390 min, y (D) 24 horas de
inmersin; c = 0.1 M de borato de sodio; la imagen representa un rea de 1000 m x1000 m en
las direcciones X e Y; velocidad de barrido: 30 ms-1. Valores del eje Z: Corriente, nA. Potencial
del UME: -0.60 V vs. Ag/AgCl/KCl (saturado) como electrodo de referencia. Dimetro del UME: 10
m
198
Captulo V
200
199
(A)
(B)
Zona IV
Zona II
Zona III
Zona II
Zona IV
Zona III
Zona I
Zona I
(C)
Zona I
(D)
Zona III
Zona I
Zona II
Zona III
Zona II
(E)
Zona I
Zona III
Zona II
Figura 6: Imgenes de SECM para el sistema metal-polmero con un orificio establecido de 200
m de dimetro aproximadamente: (A) 0 min, (B) 170 min, (C) 390 min, (D) 500 min y (E) 24 horas
de inmersin; c = 0.1 M de borato de sodio; la imagen representa un rea de 1000 m x10 m en
las direcciones X e Y; velocidad de barrido: 30 ms-1. Valores del eje Z: Corriente, nA. Potencial
del UME: -0.60 V vs. Ag/AgCl/KCl (saturado) como electrodo de referencia. Dimetro del UME: 10
m.
200
Captulo V
201
202
Captulo V
0
-1
-2
Corriente,
nA
Current [nA]
-3
-4
-5
-6
-7
-8
-9
-10
-0.9
-0.8
-0.7
-0.6
-0.5
-0.4
-0.3
-0.2
-0.1
0.1
Potential
[mV]
Potencial,
V
Figura 8: Ciclovoltagrama medido en el seno de la disolucin de sulfato de sodio 0.1 M con el UME
de platino actuando como punta SECM. Velocidad de barrido: 0.1 Vs-1.
203
-2.6
Intensidad, nA
-2.4
-2.2
-2.0
-1.8
-1.6
-1.4
-1.2
0
10
20
30
40
50
Corriente [nA]
-0.8
-1
-1.2
-1.4
-1.6
-1.8
-2
-0.7
-0.8
-0.9
-1
-1.1
-1.2
-1.3
-1.4
-1.5
0
200
400
X,X m
[m] 600
800
1000
-1000 -800
-600
-400
Y [m]
Y,
m
-200
Figura 10: Imagen de SECM para el sistema metal-polmero despus de 200 minutos de
inmersin; c = 0.1 M de sulfato de sodio; la imagen representa un rea de 1000 m x1000 m en
las direcciones X e Y; velocidad de barrido: 25 ms-1. Valores del eje Z: Corriente, nA. Potencial
del UME: -0.60 V vs. Ag/AgCl/KCl (saturado) como electrodo de referencia. Dimetro del UME: 10
m.
204
Captulo V
205
X, m
X, m
X, m
Y, m
Y, m
Y, m
X, m
X, m
Y, m
Y, m
Y, m
X, m
Figura 11: Imgenes de SECM para el sistema metal-polmero con un orificio establecido de 200
m de dimetro aproximadamente: (A) 0 min, (B) 60 min, (C) 240 min, (D) 340 min, (E) 450 min y
(F) 24 horas de inmersin; c = 0.1 M de sulfato de sodio; la imagen representa un rea de 1000 m
x 1000 m en las direcciones X e Y; velocidad de barrido: 30 ms-1. Valores del eje Z: Corriente,
nA. Potencial del UME: -0.60 V vs. Ag/AgCl/KCl (saturado) como electrodo de referencia. Dimetro
del UME: 10 m.
206
Captulo V
Figura 12: Fotografa del defecto aplicado al polmero inmerso en una disolucin de sulfato de
sodio 0.1 M donde se aprecian restos de polmero en el fondo del mismo en los instantes iniciales
de inmersin.
Eso conlleva a una mayor cantidad de oxgeno en esas zonas que provocan
una menor cada de la intensidad de corriente en el UME. Este hecho se observa
con mayor claridad en la figura 13, donde se presentan una serie de mapas a los
cules se les ha efectuado un corte longitudinal a lo largo del eje X.
207
Zona II
Zona I
Zona III
(A)
(B)
Zona VI
(C)
(D)
(E)
(F)
Figura 13: Imgenes de SECM para el sistema metal-polmero con un orificio establecido de 200 m de
dimetro aproximadamente: (A) 0 min, (B) 60 min, (C) 240 min, (D) 340 min, (E) 450 min y (F) 24 horas de
inmersin; c = 0.1 M de sulfato de sodio; la imagen representa un rea de 1000 m x10 m en las direcciones
X e Y; velocidad de barrido: 30 ms-1. Valores del eje Z: Corriente, nA. Potencial del UME: -0.60 V vs.
Ag/AgCl/KCl (saturado) como electrodo de referencia. Dimetro del UME: 10 m.
De la evolucin del perfil del mapa SECM sobre el defecto, se observa que el
proceso corrosivo adquiere notoriedad despus de los primeros 240 minutos de
inmersin, donde el proceso catdico consume la casi totalidad del oxgeno presente en
208
Captulo V
el defecto, de tal forma que la difusin del mismo hacia el UME es despreciable,
registrndose un mnimo de intensidad de corriente.
209
Figura 14: Fotografa del defecto establecido despus de 24 horas de inmersin en una disolucin de
sulfato de sodio 0.1 M donde se aprecia la formacin de productos de corrosin (pxeles marrones en el
fondo del defecto).
Corriente, nA
-2
-4
-6
-8
-10
-12
-14
-0.9 -0.8 -0.7 -0.6 -0.5 -0.4 -0.3 -0.2 -0.1
Potencial, V
0.1
Figura 15: Ciclovoltagrama medido en el seno de la disolucin de cloruro potsico 0.1 M con el UME de
platino actuando como punta SECM. La velocidad de barrido empleada es de 0.1 Vs-1.
210
Captulo V
-2.95
Intensidad, nA
-2.90
-2.85
-2.80
-2.75
-2.70
-2.65
-2.60
0
20
40
60
Figura 16: Curva de aproximacin realizada sobre el recubrimiento intacto en presencia de una disolucin
de cloruro de potasio 0,1 M.
211
incorporacin de forma mucho ms acusada que con sulfatos y ste, a su vez, que con
borato.
(A)
X, m
(B)
X, m
Y, m
Y, m
(C)
(D)
X, m
X, m
Y, m
Y, m
(E)
X, m
(F)
X, m
Y, m
Y, m
Figura 17: Imgenes de SECM para el sistema metal-polmero sin defecto: (A) 0 min, (B) 195 min, (C)
300 min, (D) 380 min, (E) 480 min y (F) 24 horas de inmersin; c = 0.1 M de cloruro potsico; la imagen
representa un rea de 1000 m x1000 m en las direcciones X e Y; velocidad de barrido: 30 ms-1.
Valores del eje Z: Corriente, nA. Potencial del UME: -0.60 V vs. Ag/AgCl/KCl (saturado) como electrodo de
referencia. Dimetro del UME: 10 m.
212
Captulo V
Tal vez este efecto se deba a que dicho ion hace ms permeable la matriz
polimrica, facilitando as la incorporacin de agua en el seno del recubrimiento por un
proceso de smosis. Sin embargo, esta hiptesis no ha sido corroborada en estudios
similares empleando medidas de impedancia [21], donde se correlaciona la prdida de
las propiedades protectoras del recubrimiento con un descenso en el valor de la
impedancia, obtenindose que haran falta largos periodos de exposicin para ver
resultados. No obstante, s que se observa la evolucin del ampollamiento en esta zona
del recubrimiento.
No hay que descartar la hiptesis de que en esta parte del recubrimiento existiera
un defecto o poro que facilitara la incorporacin tanto del agua como del ion cloruro a
travs de la matriz hacia la interfase metal-polmero. La existencia de poros facilitara la
migracin de iones cloruro hacia el seno de la interfase, depositndose el ion cloruro
que, a su vez, acelerara el proceso de incorporacin de agua gracias a un proceso de
smosis. En este caso se formaran ampollas muy localizadas e invariantes
topogrficamente con el tiempo. No obstante, an pudiendo detectar la formacin de
estas ampollas, el hecho de emplear oxgeno como mediador impedira evaluar la
cintica de crecimiento de las mismas. Al depositarse cloruro y agua en la interfase
metal-polmero, tiene lugar el comienzo de un proceso corrosivo que va a consumir
oxgeno. Por lo tanto, se estara estableciendo un proceso de competicin redox que
enmascarara el crecimiento de las ampollas en el recubrimiento. En este caso se tendra
que recurrir a otro mediador redox que no participara en ninguna de las dos
semirreacciones electroqumicas involucradas en el proceso corrosivo, para poder
evaluar el crecimiento de dichas ampollas.
213
(A)
(B)
(C)
(D)
(E)
Figura 18: Imgenes de SECM para el sistema metal-polmero con un orificio establecido de 200 m de
dimetro aproximadamente: (A) 0 min, (B) 90 min, (C) 235 min y (D) 312 min; c = 0.1 M de cloruro
potsico; la imagen representa un rea de 1000 m x1000 m en las direcciones X e Y; velocidad de
barrido: 30 ms-1. Valores del eje Z: Corriente, nA. Potencial del UME: -0.60 V vs. Ag/AgCl/KCl (saturado)
como electrodo de referencia. Dimetro del UME: 10 m.
El primer mapa nos muestra la creacin de dos defectos muy cercanos entre s
que no presentan alteraciones en el borde de los mismos. Al igual que en los dos casos
anteriores (borato y sulfato), en esta etapa inicial se observa la topografa de la muestra
mediante un comportamiento de tipo retroalimentacin negativa. Al cabo de 90 minutos
214
Captulo V
(figura 18-B) ya se observa el inicio del proceso de competicin redox entre el oxgeno
descargado en el UME y el que interviene en la reaccin catdica en el fondo del
defecto. Esta competencia se ve acentuada con el tiempo y, pasados 235 min
aproximadamente, ya se aprecia la formacin de dos campanas de Gauss en la zona
correspondiente a los dos defectos establecidos.
215
Figura 19: Imgenes de SECM para el sistema metal-polmero con un orificio establecido de 200 m de
dimetro aproximado: (A) 0 min, (B) 90 min, (C) 235 min y (D) 1140 min; c = 0.1 M de cloruro potsico; la
imagen representa un rea de 1000 m x 10 m en las direcciones X e Y; velocidad de barrido: 30 ms-1.
Valores del eje Z: Corriente, nA. Potencial del UME: -0.60 V vs. Ag/AgCl/KCl (saturado) como electrodo de
referencia. Dimetro del UME: 10 m.
5.4.- CONCLUSIONES.
216
Captulo V
217
5.5.- REFERENCIAS.
[1]
[2]
[3]
L.L. Shreir, R.A. Jarman y G.T. Burstein (Eds.), Corrosion, Vol. 2, 3a edicin,
Buttherworth-Heinemann, Oxford, 1994, Cap. 14.
218
Captulo V
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
J.E.O. Mayne, en Corrosion, Vol. 2, L.L. Shreir, R.A. Jarman, G.T. Burstein
(Eds.), 3a. edicin, Butterworth-Heinemann, Oxford, 1994, p. 14:22.
[9]
219
220
Captulo VI
Captulo VI
6.1.- INTRODUCCIN.
223
O2(g)
Electrolito
n+
M (aq)
OH (aq)
M(OH)n(s)
Metal
e-
Figura 1: Esquema del proceso corrosivo que tiene lugar sobre un metal sumergido en un electrolito. Se
produce una difusin de iones desde la zona catdica y andica hacia el seno de la disolucin y una
migracin de electrones desde el nodo hacia el ctodo.
224
Captulo VI
Figura 2: Defecto realizado en la probeta pintada dejando al descubierto el metal base (acero al carbono).
225
Los mapas se registraron de forma que las lneas se adquirieron en forma de zigzag con incrementos de 30 m en ambas direcciones, por lo que el tiempo que se
requiere para un mapa es de 8 minutos y medio.
Figura 3: Foto del defecto generado donde se aprecia el metal desnudo en el fondo del mismo antes de
ser sumergido en la disolucin de ensayo.
226
Captulo VI
227
(A)
(B)
(C)
(D)
Figura 4: Evolucin del sistema metal con defecto sumergido en Na2SO4 10 mM durante: (A) 0 min, (B) 10
min, (C) 20 min y (D) 30 min. Resistividad de la disolucin: 483.09 cm; mapa 900 m x 900 m; valores
-1
228
Captulo VI
(E)
(F)
(G)
(H)
Figura 4 (continuacin): Evolucin del sistema metal con defecto sumergido en Na2SO4 10 mM durante:
(E) 40 min, (F) 50 min, (G) 60 min y (H) 70 min. Resistividad de la disolucin: 483.09 cm; mapa 900 m x
-1
229
0 min
tiempo
70 min
Figura 5: Evolucin de la formacin de productos de corrosin en el interior del defecto en medio sulfato
de sodio 10 mM durante 70 minutos. Las imgenes estn espaciadas entre s a intervalos de 10 minutos.
Figura 7: Foto del defecto establecido donde se aprecia el metal desnudo en el fondo del mismo antes de
ser sumergido en una disolucin de NaCl 10 mM.
230
Captulo VI
231
(B)
(C)
(D)
Figura 7: Evolucin del sistema metal con defecto sumergido en NaCl 10 mM durante: (A) 0 min, (B) 10
min, (C) 20 min y (D) 30 min. Resistividad de la disolucin: 877.96 cm; mapa 900 m x 900 m;
-1
232
Captulo VI
(E)
(F)
(G)
(H)
Figura 7 (Continuacin): Evolucin del sistema metal con defecto sumergido en NaCl 10 mM durante:
(E) 40 min, (F) 50 min, (G) 60 min y (H) 70 min. Resistividad de la disolucin: 483.09 cm; mapa 900 m
-1
233
0 min
tiempo
70 min
Figura 8: Evolucin del proceso corrosivo en el seno del defecto en NaCl 10 mM durante 70 minutos de
inmersin. Las imgenes estn espaciadas entre s a intervalos de 10 minutos.
234
Captulo VI
distribucin uniforme del flujo aninico sobre el mismo, hecho que no ha sido
observado.
235
6.4.- CONCLUSIONES.
236
Captulo VI
6.5.- REFERENCIAS.
[1]
[2]
[3]
237
[4]
[5]
[6]
H.S. Isaacs y G. Kissel, Journal of the Electrochemical Society 119 (1972) 1628.
[7]
[8]
[9]
[10] S.M. Powell, H.N. McMurray y D.A. Worsley, Corrosion 55 (1999) 1040.
[11] S. Powell, Surface Engineering 16 (2000) 169.
[12] H.S. Isaacs, Corrosion Science 28 (1988) 547.
[13] K. Ogle, V. Baudu, L. Garrigues y X. Philippe, Journal of the Electrochemical
Society 147 (2000) 3654.
[14] F. Zou, C. Barreau, R. Hellouin, D. Quantin y D. Thierry, Materials Science
Forum 289-292 (1998) 83.
[15] H.S. Isaacs, A.J. Aldykewicz Jr, D. Thierry y T.C. Simpson, Corrosion 52 (1996)
163.
[16] J. Hie, V.J. Gelling, D.E. Tallman y G.P. Bierwagen, Journal of the
Electrochemical Society 147 (2000) 3661.
[17] J. Hie, V.J. Gelling, D.E. Tallman, G.P. Bierwagen y G.G. Wallace, Journal of
the Electrochemical Society 147 (2000) 3667.
238
Captulo VII
Conclusiones Generales
Captulo VII
2.- Los resultados encontrados con esta tcnica suministran informacin acerca
de las caractersticas de efecto barrera de la pelcula polimrica frente al transporte de
agua y de oxgeno a travs de la misma indicando que este efecto es superior sobre el
acero al carbono que sobre el acero galvanizado, debido a que en el primer metal los
productos de corrosin precipitan en los poros de la matriz, sobre todo a largos tiempos
de exposicin al medio corrosivo, impidiendo as el paso de las molculas de agua y
oxigeno.
241
Conclusiones generales
242
Captulo VII
empleado.
243