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Matthias Brandt
Universitt Leipzig
Fakultt fr Physik und Geowissenschaften
Institut fr Experimentalphysik II Abteilung Halbleiterphysik
INHALTSVERZEICHNIS
1. Einleitung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4
2. Ladungstransport im Halbleiter . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 6
2.1 Temperaturabhngigkeit der freien Ladungstrgerkonzentration . 6
2.1.1 Intrinsische Leitung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 6
2.1.2 Ladungstrger nur eines Typs . . . . . . . . . . . . . . . . . . 8
2.1.3 Donatoren und Akzeptoren . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 10
2.2 Boltzmann Transportgleichung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 11
2.3 Streuprozesse in Halbleiterkristallen . . . . . . . . . . . . . . . . . . 13
2.3.1 Streuung an ionisierten Strstellen . . . . . . . . . . . . . . . 14
2.3.2 Streuung an akustischen Phononen . . . . . . . . . . . . . . 15
2.3.3 Streuung an optischen Phononen . . . . . . . . . . . . . . . . 17
2.3.4 Streuung an Korngrenzen . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 19
2.3.5 Berechnung der Mobilitt in Anwesenheit mehrerer Streu-
kanle . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 20
3. Hall - Effekt . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 23
3.1 Generelle Betrachtungen . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 23
3.2 Messverfahren nach Van der Pauw . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 25
3.3 Versuchsaufbau . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 26
3.3.1 Messelektronik . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 26
3.3.2 Tieftemperaturkryostat . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 27
3.3.3 Hochtemperaturkryostat . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 28
4. Mikroelektrische Untersuchungen . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 33
4.1 Messverfahren und Gerte . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 33
4.1.1 Funktionsweise des Rasterkraftmikroskopes . . . . . . . . . 33
4.1.2 Grundlagen der Scanning Capacitance Microscopy . . . . 35
4.1.3 Grundlagen der Scanning Surface Potential Microscopy . 39
4.2 Untersuchungen an Silizium-Querschnitten bekannter Dotierstoff-
konzentration . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 40
Inhaltsverzeichnis 3
Anhang 96
A. Messstellenzuordnung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 97
B. Konstruktionsskizzen . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 99
1. EINLEITUNG
Der Halbleiter Zinkoxid hat auf Grund seiner potentiellen Eignung fr optoelek-
tronische Anwendungen im UV Bereich in den letzten Jahren erneut erhebliche
Forschungsaktivitten erfahren. Zinkoxid (ZnO) hat eine direkte Bandlcke von
E1 = 3,37 eV bei Zimmertemperatur [1]. Die hohe Exzitonenbindungsenergie von
60 meV sollte exzitonische Laserverstrkung bei Raumtemperatur und darber er-
mglichen. Zinkoxid kristallisiert in Wurtzit-, Zinkblende- und Kochsalzstruktur,
wobei im thermischen Gleichgewicht die hexagonale Wurtzitstruktur vorherrscht.
Das ideale Achsenverhltnis wurtzitischer Kristalle betrgt c/a = 8/3 = 1, 633.
Zinkoxid hingegen zeigt ein abweichendes Achsenverhltnis von c/a = 1, 602
[2], was auf die stark unterschiedlichen Elektronegativitten der Elemente Zink
und Sauerstoff zurckzufhren ist. Fr die Herstellung optoelektronischer Bau-
elemente besteht die Notwendigkeit, sowohl n - als auch p - leitendes Material
reproduzierbar und von gleich bleibender Qualitt herzustellen. Leider ist dies im
Falle von p - Typ ZnO bisher noch nicht vollstndig realisiert. Zwar gibt es zahl-
reiche Berichte ber p - leitende Proben, eine bersicht ist z.B. in [3] zu finden,
allerdings zeigen viele dieser Proben sehr hohe spezifische Widerstnde, oder
sind nur in bestimmten Temperaturbereichen, oder im Dunkeln p - leitend. Die
Schwierigkeiten bei der Herstellung von p - Typ Material sind vor allem dadurch
begrndet, dass nahezu alle nominell undotierten ZnO Proben n - leitend sind,
mit teilweise sehr hohen Ladunsgtrgerkonzentrationen. Dies wird verschiede-
nen Donatoren zugeschrieben. Zum Beispiel zeigt ZnO die Tendenz auch in sau-
erstoffreicher Umgebung nicht stchiometrisch mit leichtem Zinkberschuss zu
wachsen [4]. Dies fhrt zum Auftreten zweier donatorartiger Defekte, Zinkato-
men auf Zwischengitterplatz ZnI , und Sauerstoffvakanzen VO . Die Anwesenheit
dieser Defekte wurde lange Zeit als Begrndung fr die Tatsache angefhrt, das
ZnO von Natur aus als n - Typ Material auftritt. Theoretische Berechnungen haben
allerdings ergeben, das VO einen tiefen Donator bildet [5].Die hohen freien Elektro-
nenkonzentrationen von 1,0 1017 cm3 in nominell undotiertem ZnO bei Zim-
mertemperatur legen nahe, dass VO deshalb als dominierender Donator nicht in
Frage kommt. Zudem hat sich gezeigt [6], dass die Bildungsenergie fr VO relativ
hoch ist, und die Anzahl dieser Strstellen fr die beobachtete n - Leitung nicht
ausreichen sollte. Deswegen haben nach theoretischer Vorhersage [7] verschie-
dene Untersuchungen Wasserstoff als dominanten Donator in Betracht gezogen,
1. Einleitung 5
welcher eine Aktivierungsenergie von 3050 meV haben sollte [8][9]. Allerdings
haben Experimente ergeben, das Wasserstoff durch thermische Behandlung aus
den Proben entfernt werden kann, und das dazugehrige Donatorniveau ver-
schwindet [10][11][12]. In anderen Verffentlichungen wird dieses Niveau dem
ZnI zugeschrieben [13]. Auerdem haben verschiedene Untersuchungen [14] wei-
tere flache Donatoren ED 60 meV festgestellt, welche mit groer Sicherheit auf
die Effektiv-Masse Donatoren der Gruppe III Elemente, insbesondere Aluminium
zurckzufhren sind. Aluminium stellt eine hufige Verunreinigung im Zinkoxid
dar, und kann z. B. whrend der Abscheidung auf Saphirsubstraten aus diesen
eindiffundieren.
Zur Herstellung von p - Typ ZnO ist es unerlsslich, die Anzahl der Hinter-
grunddonatoren zu senken, um der Kompensation eventuell eingebauter Akzep-
toren entgegenzuwirken. Dies muss sowohl durch die Kontrolle der donatorar-
tigen Fremdverunreinigungen, als auch durch die Unterdrckung intrinsischer
Defekte erfolgen, was vor allem durch die Wahl geeigneter Zchtungsbedingun-
gen erzielt werden kann.
Im Rahmen dieser Arbeit wurden dafr mehrere Serien nominell undotier-
ter Proben vermessen, um die Ursachen donatorartiger Verunreinigungen weiter
aufzuklren, als auch Messungen an mit Gruppe V Elementen dotierten Proben
durchgefhrt, um den Einbau von Akzeptoren in das ZnO Kristallgitter zu un-
tersuchen.
2. LADUNGSTRANSPORT IM HALBLEITER
1
C (E) = (2me )3/2 (E EC )1/2 , (2.1)
2 ~
2 3
1
V (E) = (2mh )3/2 (EV E)1/2 , (2.2)
22 ~3
2. Ladungstransport im Halbleiter 7
wobei me die effektive Masse der Elektronen im Leitungsband, und mh die effektive
Masse der Lcher im Valenzband bezeichnet. Elektronen und Lcher gehorchen
der Fermiverteilung
1
f (E, T) = , (2.3)
1 + e(EEF )
wobei = kB T, die sich, fr den Fall, dass E EF hinreichend gro ist (> 3kB T),
zur Boltzmannverteilung
f (E, T) = e(EF E) (2.4)
vereinfacht. Fr die Zahl der Elektronen im Leitungsband gilt
Z
n= C (E) f (E, T)dE. (2.5)
EC
Generell ergibt sich daraus unter Verwendung von (2.1) und (2.3) und den Sub-
stitutionen x = (E EC ) und = (EF EC )
wobei !2/3
3 u
v= und u = 1/2 (). (2.11)
4
n = NC e(EF EC ) , (2.12)
ZnO. Es soll davon ausgegangen werden, dass die Strstelle nur in zwei Zu-
stnden, dem Besetzen und dem Unbesetzten vorkommt. Fr den Besetzten gilt
N1 = Nt 11 f (Et ), und fr den unbesetzten N0 = Nt 10 (1 f (Et )), wobei 11 und 10
den quantenmechanischen Entartungsgrad der jeweiligen Zustnde wiederge-
ben. Aus dem Verhltnis der Konzentrationen
N1 11 (EF Et )
= e (2.18)
N0 10
Die Anzahl der freien Elektronen kann fr den Fall eines Halbleiters, der aus-
schlielich Donatoren enthlt (n p), und deswegen die Konzentration der
unbesetzten Strstellen der Anzahl der Elektronen im Leitungsband entspricht,
als
ND
n = ND+ = 11 (E E )
(2.20)
1 + 10 e F D
geschrieben werden. Unter der Annahme eines nichtentarteten Halbleiters (EC
EF ) 1 gilt (2.12) und (2.20) kann weiter vereinfacht werden.
ND ND
n= = 11 n
(2.21)
1+ e(EF EC ) e(EC ED ) 1+
11
10 10 NC
eEI
Ersetzt man
10
n1 = NC eEI (2.22)
11
und lst nach n auf, erhlt man:
r
n1 1 + 4N D
1 (2.23)
n= .
2 n1
Im Falle kleiner Temperaturen wchst 4ND /n1 stark an, und (2.23) lsst sich zu
r
10
n= ND NC eEI /2 (2.24)
11
vereinfachen, wohingegen fr hohe Temperaturen 4ND /n1 klein wird, und n gegen
ND geht. Man spricht in diesem Bereich von Sttigung, alle verfgbaren Donatoren
haben ihr Elektron an das Leitungsband abgeben.
2. Ladungstransport im Halbleiter 10
wobei einfach die Beitrge aller ionisierten Donatoren zur Konzentration der
freien Ladungstrger aufsummiert wurden. In einem realen Halbleiterkristall sind
weiterhin auch noch Akzeptoren anwesend, welche die Donatoren zumindest
teilweise kompensieren. Geht man davon aus, dass die Temperatur klein genug
ist, und keine freien Minorittsladunsgtrger vorhanden sind p 0, und ND > NA
gilt:
n ND+ NA ND+ NA , (2.26)
da davon auszugehen ist, dass smtliche Akzeptoren ionisiert sind, wenn EF ber
der Mitte der Bandlcke liegt. Aus (2.25) und (2.26) ergibt sich
X NDi
n= NA (2.27)
1+ e(EF EDi )
11i
i 10i
Dies ist eine Gleichung vom (i + 1)ten Grad in n. Fr den Spezialfall eines einzi-
gen Donators vereinfacht sich diese zu einer quadratischen Gleichung, und eine
analytische Lsung ist mglich.
r
n1 NA 2 n1 NA
n= + n1 (ND NA ) (2.29)
2 2
Fr Systeme mit hheren Donatoranzahlen wird eine numerische Lsung von
(2.28) ntig. Eine detaillierte Lsung und mgliche Approximationen fr den Fall
zweier Donatoren ist in [18] zu finden.
2. Ladungstransport im Halbleiter 11
wobei gilt fT = fT (k~ ), und s = s(~k, k~ ) die differenzielle Streurate vom Zustand mit
dem Wellenvektor ~k in den mit dem Wellenvektor k~ bezeichnet. Weiterhin gilt
s = s(k~ , ~k). Durch Einsetzen von (2.30) in (2.31), Integration nach x und Trennung
der Variablen erhlt man:
Z
d3 k~ s f (1 f ) s f (1 f ) = 0 (2.32)
und
f eF f
Z Z
3 ~
d k X1 s (1 f ) + s f 1 d3 k~ s(1 f ) + s f , (2.33)
vz + =
z ~ k
wobei gilt F||z, und X den Cosinus des Winkels zwischen ~k und k~ bezeichnet.
Betrachten wir im Folgenden nur (2.33), und setzen voraus, dass weder Temperatur-
noch Konzentrationsgradienten in der Probe existieren, und der erste Term in
(2.33) verschwindet. Nun lassen sich die differenziellen Streuraten in zwei An-
teile, einen verursacht durch elastische und einen durch inelastische Streuung
zerlegen.
s(~k, k~ ) = sinel (~k, k~ ) + sel (~k, k~ ) (2.34)
Weiterhin gilt sel = sel . Bercksichtigt man nur elastische Streuprozesse vereinfacht
sich diese Gleichung wesentlich zu
eF f
1= (2.35)
~ k
mit
1
Z
el = = d3 k~ (1 X)sel . (2.36)
2. Ladungstransport im Halbleiter 12
zerlegen. Daraus lsst sich unter Verwendung von (2.33) der Strterm
f eF f
Si (1 ) vz z ~ k
1= (2.39)
So + el
bestimmen. Darauf wird in einem spteren Abschnitt genauer eingegangen. Be-
trachten wir zunchst rein elastische Streuprozesse. Die Driftmobilitt ergibt
sich als R
3
~ dk k (1/F)
= . (2.40)
3me
R
dk k2 f
Substituiert man k durch E ergibt sich
R
2 dE E 1(E, T)
= . (2.41)
3F me
R
dE E f (E, T)
Im Fall ausschlielich elastischer Streuprozesse vereinfacht sich (2.40) zu
e
= hi . (2.42)
me
Diese Vereinfachung nennt man gemeinhin Relaxationszeitnherung, wobei sich
die gemittelte Relaxationszeit aus
R f
3
d v (~v )vz vz
hi = R (2.43)
d 3v f
so lsst sich, unter Verwendung der Tatsache das f isotrop, und E = mv2 /2 ist,
(2.43) vereinfachen zu
1 ()
4 3
r+ 2
hi = r + !0 (2.45)
3 2 12 ()
beziehungsweise
4 3
hi = r + !0 (2.46)
3 2
fr einen nichtentarteten Halbleiter.
H = H 0 + H . (2.47)
NI = 2 NA + n. (2.57)
~ r ~r ),
E = EAD ( (2.61)
Die Amplitude der Schwingung entspricht den Besetzungszahlen des Nten sowie
des N 1 bzw. N + 1ten Schwingungszustands. So gilt:
(N ~/2Ml )1/2
(
fr N N 1
Z
3
Al N1 xN d r = , (2.64)
((N + 1) ~/2Ml )1/2 fr N N + 1
wobei der erste Ausdruck der Absorption und der Zweite der Emission eines
Phonons entspricht. Die Besetzungszahl folgt der Boseverteilung
1
N= , (2.65)
e~l 1
wobei hier die Energie eines akustischen Phonons als viel kleiner als die thermi-
sche Energie angenommen wird ~l kB T. In dieser Nherung gilt auch N N+1
und der Unterschied zwischen den beiden Ausdrcken in (2.64) verschwindet.
Daraus erhlt man fr (2.62)
s s
1 1
M(~k, k~ ) = 2EAD ql 2
= EAD , (2.66)
2Vl Vcl
Piezoelektrische Streuung
Piezoelektrische Streuung tritt in Halbleitern auf, in denen mehrere Atomsorten
im Kristallgitter vorkommen, die auftretenden Bindungen also teilweise ionar
sind, und die Einheitszelle kein Inversionszentrum enthlt. Dies trifft fr alle
binren Halbleiter zu, und ist auch beim Zinkoxid der Fall. Verschiebt ein Phonon
die Atome gegeneinander, entsteht ein Dipolmoment, welches ein elektrisches
Feld, und damit ein Potential zur Folge hat. An diesem streuen nun bewegte
Ladungstrger. Es gilt
~r ~r ) = 0,
D = F + Pe = F + Epz ( (2.69)
2. Ladungstransport im Halbleiter 17
2
E2pz /cl
P = (2.72)
+ E2pz /cl
Daraus folgt fr die Relaxationszeit
1 m1/2 e2 P2 1
= 3/2e 2 (2.73)
2 ~ E1/2
und die nur von piezoelektrischer Streuung begrenzte Mobilitt
16 2 ~2 1/2
= (2.74)
3 m3/2
e eP
2
e2 po 1 1 1
(
(E E + ~po )(Npo + 1) fr Emission
s(k~ , ~k) =
82 |k~ ~k|2 (E E ~po )Npo fr Absorption.
(2.75)
2. Ladungstransport im Halbleiter 18
wobei die Indizes + und anzeigen, dass die entsprechende Funktion von E+kB
bzw. E kB auszuwerten ist. Die besetzungszahlunabhngigen Streuraten o
ergeben sich als
2
e k me 1 1 a + 1
B
o = ln (2.77)
4 2~2 E a 1
wobei r
~o
a = 1 . (2.78)
E
Analog berechnet sich die Einstreurate durch
wobei gilt
e2 kB me 1
1 2E + kB a + 1
i ln 1 (2.80)
= p
4 2~2 E 2 E(E + kB ) a 1
und
Si = Npo (i 1 + e~o +i 1+ ) = Npo (i 1 + e/T +i 1+ ), (2.82)
wobei die Debyetemperatur, also die Temperatur der optischen Phononen be-
zeichnet. Gilt nun T und E ~o , kann man die Einstreuraten vernach-
lssigen und auch fr polar - optische Phononenstreuung eine Relaxationszeit
definieren.
e2 me o 1 1 /T
1/ e (2.83)
(2~)3/2
Daraus ergibt sich fr die Mobilitt
e3 o
1 1 1 /T
= e (2.84)
me (2~)3/2
2. Ladungstransport im Halbleiter 19
Die Probe setzt sich abwechselnd aus Regionen hoher (Krner) und geringer
Leitfhigkeit (Korngrenzen) zusammen, die jeweils die Ausdehnung l1 und
l2 besitzen.
Ist die Anzahl der Defekte deutlich kleiner als die freie Ladungstrger-
konzentration im Korn, wird die Ladungstrgerverteilung in der gesamten
Probe als homogen angenommen, und die Reduktion der Leitfhigkeit einer
reduzierten Mobilitt zugeschrieben. Diese Annahme ist nicht immer erfllt,
und die getroffene Schlussfolgerung nur nherungsweise richtig. Es kann
deshalb durchaus eine thermische Aktivierung der Ladungstrgerkonzen-
tration in den Korngrenzen im Hall - Effekt gemessen werden, die dann
allerdings als Donator interpretiert wrde. Die Aktivierungsenergie dieses
Donators wird dabei allerdings mit der Barrierenhhe bereinstimmen.
und hngt damit nur von der Korngre l und der Barrierenhhe b ab. Unter der
Annahme das keine Energieabhngigkeit existiert, lsst sich die entsprechende
Streurate schreiben als s
1 1 8 b c b
= e = e (2.89)
l me l
Matthiesens Regel
In der Relaxationszeitnherung gilt fr m unabhngige, elastische Streuprozesse
mit Streuzeiten i
n
1 X1
el = = . (2.90)
i=1
i
Nun gilt fr elastische Streuprozesse (2.42), und die Mobilit berechnet sich aus
der gemittelten Streuzeit. Diese bestimmt sich nach (2.43) aus der Relaxations-
zeit, und ist dieser proportional. Allerdings ist dieser Proportionalittsfaktor fr
verschiedene Streuprozesse auf Grund der unterschiedlichen Energieabhngig-
keit verschieden. Um dennoch die Mobilitt aus den Mobilitten der einzelnen
Streuprozesse gewinnen zu knnen, nimmt man an, dass einzelne Streuprozesse
bestimmte Temperaturbereiche dominieren, und verwendet implizit die Energie-
abhnigkeit dieses dominanten Streuprozesses.
+1 n n
1 me 1
*
me 1 me X 1 X 1
= = Pn 1 = (2.91)
e hi e i=1
e i=1 hi i i=1
i
i
Diese Nherung ist formal nur gltig, wenn sich die Streuraten stark unterschei-
den, und eine Relaxationszeit definiert ist, also elastische Streuprozesse vorliegen.
Streuprozess. Dieser ist, wie bereits ausfhrlich erklrt wurde, nicht mehr als
elastisch zu betrachten, und die im vorangegangenen Abschnitt eingefhrte N-
herung verliert ihre Gltigkeit. In diesem Fall ist eine numerische Lsung der
Boltzmanntransportgleichung ntig. Im Rahmen dieser Arbeit wurde eine L-
sung anhand der von Rode [23] [24] vorgeschlagenen Methode erarbeitet. Dazu
wird der Strterm der Elektronenverteilung 1 nach (2.39) bestimmt. Hierfr wer-
den die Relaxationsraten der elastischen Streuprozesse wie im vorangegangenen
Abschnitt aufsummiert. Im ersten Iterationsschritt werden die Einstreuraten Si
vernachlssigt und es gilt:
f
eF~ k
1(1) = . (2.92)
So + el
In jedem weiteren Schritt ergibt sich 1 unter Bercksichtigung der Einstreuterme,
die mit Hilfe des Strterms 1 aus dem vorangegangen Schritt bestimmt werden.
f
f
Si (j 1) eF~ k Npo i 1 (j 1) + e/T +i 1+ (j 1) eF~ k
1(j) = = . (2.93)
So + el Npo (+o + e/T o ) + el
Die Folge der 1(j) ist monoton wachsend, da in jedem nachfolgenden Iterations-
schritt grere Beitrge durch den Einstreuterm hinzugefgt werden. Allerdings
ist der Unterschied der nderung dieser Beitrge exponentiell abnehmend, und
die Konvergenz erfolgt sehr schnell. Bereits nach sieben Schritten ist die nderung
kleiner als 1%. Das von Rode entwickelte Verfahren wurde von Nag verbessert, und
es erlaubt die Bestimmung des Hall - Faktors [25] [26]. Die bisherigen Untersu-
chungen erlauben es, die Driftmobilitt zu berechnen, und ermglichen damit eine
Anpassung der gemessenen Mobilittsdaten unter Variation geeigneter Parame-
ter. Dazu wurde bisher lediglich eine Strung der Elektronenverteilung durch ein
ueres elektrisches Feld F bercksichtigt. Um nun den Zusammenhang zwischen
Hall- und Driftmobilitt herzustellen ist es ntig weiterhin die Strung durch ein
ueres magnetisches Feld B in die Betrachtungen einzuschlieen. Demnach muss
die Boltzmanntransportgleichung wie folgt geschrieben werden:
df
~k y fT
! ! !
e ~kx fT
F+B B = . (2.94)
~ me kx me k y dt coll
e~F f eB
fT = f kx x + c k y y mit c = , (2.95)
me E me
welche durch
Lc x = 1 + 2c y (2.96)
2. Ladungstransport im Halbleiter 22
und
Lc y = x (2.97)
miteinander verknpft sind. Hierbei bezeichnet Lc den so genannten Kollisions-
operator
Lc (E) = So (E) + el (E) Si ((E)), (2.98)
unter Verwendung der bisherigen Symbolik. Diese Strterme werden wie bereits
fr den Fall eines Strtermes in einem Iterationsverfahren bestimmt. Aus diesen
lassen sich nun die Komponenten des Leitfhigkeitstensors xx und xy bestimmen
f
R
3/2
2 ne dE x E E
2
xx = (2.99)
3 me dE E f (E, T)
R
f
R
2 ne 2 dE y E3/2 E
xy = c R . (2.100)
3 me dE E f (E, T)
Durch Kenntnis dieser Komponenten ist eine Bestimmung der Driftmobilitt aus
der Hall - Mobilitt mglich. Dazu wird zuerst die Hall - Mobilitt nach dem in
dieser Arbeit beschriebenen Verfahren angepasst. Aus der Kenntnis des anteiligen
Beitrags der einzelnen Streukanle zur Mobilitt knnen dann die Komponenten
des Leitfhigkeitstensors berechnet werden. Aus diesen gewinnt man nach 3.5
die Hall - Konstante, und unter Verwendung von 3.8 den Hall - Faktor. Nun
kann man die freie Ladungstrgerkonzentration und die Mobilitt entsprechende
korrigieren. Im nchsten Schritt wird die Mobilitt an die modifizierten Messdaten
angepasst. Dieses Vorgehen kann entsprechend oft wiederholt werden, es zeigt
sich allerdings, dass es bereits nach zwei bis drei Wiederholungen nicht mehr zu
einer signifikanten Vernderung des Resultates kommt.
3. HALL - EFFEKT
jx = xx Fx + xy F y (3.1)
j y = yx Fx + yy F y (3.2)
Zur Messung der Hall - Spannung wird ein konstanter Strom jx durch die Probe
getrieben. Abhngig vom Typ der Ladungstrger zeigt das auftretende Hall -
Feld F y in negative oder positive y-Richtung. Dementsprechend lsst sich eine
Potentialdifferenz zwischen zwei an den Stirnflchen angebrachten Elektroden
nachweisen. Es gilt
UH = F y b = RH B jx b (3.3)
wobei b die Ausdehnung der Probe in y-Richtung bezeichnet, und RH ein Materi-
alfaktor ist, der als Hall - Konstante bezeichnet wird. Geht man davon aus, dass
zur Messung des Effektes ein Messgert mit einem Innenwiderstand verwendet
wird, der sehr viel grer ist als der der Probe, so gilt F y 0, und
xy yx + xx yy
!
jx = Fy (3.4)
2yx
3. Hall - Effekt 24
1 xy
!
RH = (3.5)
B 2xx + 2xy
e2 n
* +
xx = yy = (3.6)
me 1 + 2c 2
e2 n 2
* +
xy = yx = c (3.7)
me 1 + 2c 2
1 2
rH
RH = 2
= (3.8)
qn hi qn
Hierbei bezeichnet rH = 2 / hi2 den Hall - Faktor, der aus der Energieabhn-
gigkeit von folgt. Gilt (2.44) ergibt sich rH fr ein nichtentartetes Elektronengas
zu
5 5
2
! 2
+ 2r !
rH = 2 (3.9)
5
2
+r !
Folglich kann rH Werte zwischen 1 fr einen energieunabhngigen Streuprozess
und 1,93 fr Streuung an ionisierten Strstellen annehmen. Da im Allgemeinen je-
doch nicht nur ein Streuprozess zur Mobilitt beitrgt, erhlt man eine gemischte
Energieabhngigkeit, und rH liegt deutlich unter 1,93. Natrlich gilt auch in die-
sem Fall die Beschrnkung, dass rH nur dann sinnvoll zu bestimmen ist, solange
die Definition einer Streuzeit gerechtfertigt ist, also im Falle elastischer Streuung.
Fr die Mobilitt ergibt sich der Zusammenhang (2.42). Allerdings kann diese
Driftmobilitt im Hall - Experiment nie direkt bestimmt werden. Aus Messungen
des spezifischen Widerstandes lsst sich die Hall - Mobilitt H bestimmen.
1 1 RH RH
= = = H = (3.10)
en H
Es zeigt sich hierbei, dass nicht alle diese Bedingungen immer zu erfllen sind.
Zum einen erfordert die Messung bei kryogenischen Temperaturen bestimm-
te Kontaktflchen, um den Kontaktwiderstand gering gegen den der Probe zu
halten, was zu einer Verletzung der letzten Bedingung fhrt. Die dabei auftre-
tenden Fehler sind jedoch korrigierbar [29], auf eine Korrektur wird wegen des
fr die verwendete Geometrie geringen Einflusses jedoch verzichtet. Auerdem
ist es bei der Herstellung der Proben problematisch eine homogene Probendicke
zu erreichen. Dadurch entstehen Messunsicherheiten, die im Allgemeinen nicht
vernachlssigbar sind, und die Messmethode nicht mehr fehlerfrei anwendbar
machen.
Ist die Probendicke d bekannt kann die freie Ladungstrgerkonzentration n er-
mittelt werden, die Mobilitt ist sogar ohne diese bestimmbar. Hierzu werden
verschiedene Widerstandsmessungen durchgefhrt. Der Widerstand RAB,CD ist
definiert als
UCD
RAB,CD = , (3.12)
IAB
wobei IAB den durch die Kontakte A und B flieenden Strom und UCD die dabei
zwischen den Kontakten C und D abfallende Spannung bezeichnen. Nun lsst
sich nach [28] der spezifische Widerstand wie folgt bestimmen:
!
d RAB,CD + RBC,DA RAB,CD
= h . (3.13)
ln 2 2 RBC,DA
Dabei bezeichnet h die so genannte Van der Pauw Funktion, welche sich durch
ein Polynom vierten Grades approximieren lsst.
h = a0 + a1 x + a2 x2 + a3 x3 + a4 x4 (3.14)
3. Hall - Effekt 26
hierbei gilt: !
RAB,CD
x = ln (3.15)
.
RBC,DA
3.3 Versuchsaufbau
Die Messung der elektrischen Eigenschaften von Zinkoxid wurden allesamt mit
den folgenden Messapparaturen durchgefhrt. Zur Verfgung stehen ein clo-
sed cycle 4 He Kryostat, welcher Messungen im Temperaturbereich zwischen
15325 K erlaubt. Fr die Untersuchung von Proben jenseits dieser Begrenzung
wurde ein Hochtemperaturkryostat entwickelt, welcher mit flssigem Stickstoff
gekhlt wird, und Messungen im Bereich von 80800 K ermglichen soll. Auf
die technischen Anforderungen, die an eine solche Versuchsanordnung gestellt
werden wird in einem eigenen Abschnitt genauer eingegangen. Beide Versuchs-
anordnungen werden unter Verwendung derselben Messelektronik betrieben.
Die Messung und die Aufzeichnung der Messdaten erfolgt vollautomatisch mit
Hilfe eines PCs. Ein entsprechendes Steuerprogramm wurde eigens fr diesen
Zweck entwickelt, und ermglicht die Erfassung zahlreicher Messpunkte, deren
manuelle Aufzeichnung mehrere Tage bentigen wrde, in wenigen Stunden.
3.3.1 Messelektronik
Der fr die beschriebenen Experimente verwendete Messplatz ist mit folgen-
den Gerten ausgerstet. Eine Keithley 220 Stromquelle wird verwendet, um
einen konstanten Strom durch die Probe zu treiben. Dieses Gert erlaubt es, einen
Strom von 1 nA mit einer Genauigkeit von 0, 6% zu stabilisieren [30] [31].
Zur Durchfhrung der Messungen ist es, da die Proben im Allgemeinen nicht
als symmetrisch zu betrachten sind, ntig, die Van der Pauw-Messungen in al-
len vier denkbaren Konfigurationen durchzufhren. Eine genaue Auflistung der
Messpunkte befindet sich im Anhang (Tab. A.1). Dabei mssen die Strom- und
Spannungskontakte vertauscht werden. Hierfr wird in unserem Versuchsauf-
bau ein Keithley 7001 Scanner verwendet, in den eine Keithley 7065 Hall -
Messkarte eingebaut ist [32] [33]. Diese Karte untersttzt zwei Messmodi, einen
fr niederohmige und einen fr hochohmige Proben. Im hochohmigen Modus
wird ein Eingangsverstrker mit einem sehr hohen Eingangswiderstand vorge-
schalten. Dies empfiehlt sich ab einem Probenwiderstand von R = 1 M, da fr
kleinere Widerstnde das Rauschen durch den Verstrker vergrert wrde. Eine
detaillierte bersicht ber die erreichbare Genauigkeit ist im Handbuch der Hall
- Messkarte zu finden [33]. Proben mit einem Widerstand von R 10 G sind
nicht mehr vermessbar, da die maximale Eingangsspannung der Hall - Messkar-
3. Hall - Effekt 27
3.3.2 Tieftemperaturkryostat
Der Tieftemperaturkryostat ist kommerziell erhltlich, und besteht aus einem lan-
gen Khlfinger, der von einem 4 He Kreislauf gekhlt wird. Etwas unterhalb der
Spitze des Khlfingers befindet sich ein Widerstandsheizer, welcher dem System
kontrolliert Wrme zufhrt. Der Probenhalter wird mit Hilfe eines Steckverbin-
ders an diesem Khlfinger angebracht und fest verschraubt. Zur Verbesserung
des thermischen Kontaktes wird ein Ring aus Indium zwischen Khlfinger und
Probenhalter gebracht. Die Temperaturmessung erfolgt mit einer kommerziell ge-
eichten GaAlAs Diode, welche eine maximale Messungenauigkeit von 50 mK auf-
weist. Die Temperatur wird vom Messprogramm als stabil angesehen, wenn sie
lnger als 200 Sekunden nicht mehr als 100 mK von der Zieltemperatur abweicht.
Die untere Grenze der erreichbaren Temperaturen ist durch das verwendete Khl-
aggregat gegeben, und liegt bei 15 K. Die obere Grenze ergibt sich durch das im
Kryostaten verwendete Indium zu 325 K. An der Basis des Kryostaten befindet
sich ein Referenzthermometer. Im Kryostaten herrscht Hochvakuum (0,01 Pa),
welches durch eine zweistufige Pumpenanordnung aus einer Drehschieber- und
einer Turbomolekularpumpe erzeugt wird. Unterhalb von 77 K geht der Druck auf
einen Wert unterhalb von 0,0001 Pa zurueck, da verbleibende Restgase ausfrieren.
Der Kryostat ist durch einen Strahlungsschild aus Aluminium gegen Wrmeein-
strahlung geschtzt. Auerdem wird damit der Probenraum verdunkelt. Es hat
sich gezeigt, dass es fr zahlreiche Proben ntig ist, diese lngere Zeit im Dunkeln
aufzubewahren, um stabile, und reproduzierbare Messergebnisse zu erhalten.
3. Hall - Effekt 28
3.3.3 Hochtemperaturkryostat
Motivation
Einige der bisher gemessenen Zinkoxidproben zeigen bei Zimmertemperatur nur
eine geringe Leitfhigkeit. Dies ist insbesondere der Fall, wenn die Proben vorstz-
lich mit Akzeptoren dotiert wurden, da dann bestehende Donatoren kompensiert
werden. Unterscheidet sich ND nur schwach von NA mssen nahezu alle Donato-
ren ionisiert sein, um Elektronen im Leitungsband anbieten zu knnen. Generell
ist auch ein leichtes bergewicht von Akzeptoren nicht auszuschlieen, es gelten
dieselben Betrachtungen wie fr Donatoren. Nun existieren im Zinkoxid aller-
dings zahlreiche tiefe Donatorniveaus, die bei Zimmertemperatur nicht, oder nur
zu einem sehr geringen Teil ionisiert sind. Auch wenn ND leicht ber NA liegt,
sind also hchstwahrscheinlich nicht alle Donatoren bei Zimmertemperatur io-
nisiert. Demzufolge ist die Anzahl der freien Ladungstrger in den betrachteten
hochkompensierten Proben sehr gering und der Probenwiderstand entsprechend
hoch. Eine Bestimmung der Ladungstrgerkonzentration, oder gar der Lage des
dominierenden Donatorniveaus ist nur mglich, wenn die Proben bis weit ober-
halb der Raumtemperatur gemessen werden knnen. Prinzipiell ist dann auch
die Bestimmung von Akzeptorniveaus nicht auszuschlieen, dafr muss aber
natrlich NA > ND sein.
Umsetzung
Der Schmelzpunkt von ZnO liegt bei 2250 K. Eine Messung bis zu diesem Punkt
ist natrlich nicht sinnvoll, und metallische Kontakte sind unter diesen Bedingun-
gen nicht zu realisieren. In unserem Fall ist die praktische Obergrenze durch die
maximal erreichbare Mess- und Regeltemperatur gegeben. Diese betrgt fr den
verwendeten Temperature Controller 800 K. Entsprechend wurden, um diesen
Bereich voll ausnutzen zu knnen, die im Kryostaten verwendeten Materialien
derart ausgewhlt, dass sie dauerhaft den bei solchen Temperaturen entstehenden
Belastungen standhalten. Als Isolationsmaterial kommen hierfr in erster Linie
Glser und keramische Werkstoffe in Frage. Alle hier beschrieben Arbeiten wur-
den in der Werkstatt der Physikalischen Fakultt durchgefhrt. Eine Fotografie
des Kryostaten ist in (Fig 3.1) zu sehen. Der rot markierte Ausschnitt zeigt den
Probenhalter, welche in (Fig. 3.2) vergrssert dargestellt ist. Die gesamte Trger-
konstruktion wurde aus nicht magnetischem Edelstahl gefertigt, um sowohl eine
Abschirmung des Feldes als auch eine permanente Magnetisierung zu verhin-
dern. Dies war vor allem ntig, um komplizierte Bauteile durch Schweinhte
verbinden zu knnen. Der Probenhalter ist in (Fig 3.2) gezeigt. Der Probenhalter
wird mit flssigem Stickstoff gekhlt, der unter leichtem berdruck durch einen
Mander im Inneren des Probenhalters gefhrt wird. Dies ist ntig, um einen kon-
3. Hall - Effekt 29
Probe
Heizelement
Kontaktfedern
Die im letzten Kapitel vorgestellte Untersuchungsmethode, die sich den Hall - Ef-
fekt zu Nutze macht, um Informationen ber die elektrischen Eigenschaften von
Halbleitern zu bekommen, erlaubt es, diese fr eine Probe mit hoher Genauigkeit
zu bestimmen. Diese Methode setzt dabei eine weitgehende Homogenitt der Pro-
be voraus und erfasst auch stets das gesamte Probenvolumen. Es ist allerdings bei
der Zchtung der Proben nicht vllig auszuschlieen, dass sich mikroskopische
Bereiche ausbilden, welche deutlich unterschiedliche Eigenschaften besitzen. Ei-
ne Hall - Effektmessung kann dann meist nur Aufschluss ber die Eigenschaften
eines bestimmten Bereichs der Probe geben, im Allgemeinen den, der die h-
here Leitfhigkeit besitzt. Durch temperaturabhngige Messungen ist es sowohl
mglich Bereiche mit unterschiedlicher Leitfhigkeits - Temperatur - Charakteris-
tik rechnerisch zu trennen, als auch Informationen ber die Auswirkungen der
Krnigkeit der Proben auf die elektrischen Eigenschaften zu erhalten. Dies ist
allerdings nicht in allen Fllen mglich und setzt voraus, dass die Probe ber
einen weiten Temperaturbereich die fr die Hall - Effektmessungen erforderli-
chen Gegebenheiten besitzt. Meist verhindert eine zu hohe Resistivitt detaillierte
Hall - Untersuchungen. In den folgenden Abschnitten werde ich Verfahren be-
schreiben, welche zur mikroskopischen Untersuchung elektrischer Eigenschaften
angewandt wurden und Beispiele fr die Leistungsfhigkeit dieser Methoden ge-
ben. Zu den wesentlichen Vorteilen dieser Methoden gehrt die hohe Ortsaufl-
sung von wenigen Nanometern, die mit dem verwendeten Rasterkraftmikroskop
1
erreicht werden kann.
Stellschrauben
Laseranzeige (Laser)
Photodiode
(4 Quadranten) Laserdiode
Kollimator
Strahlteiler Linse
Laserstrahl
Stellschrauben
(Detektorspiegel)
Detektorspiegel 2 Linse
(fest)
Linse Piezokristall
Spiegel
Cantilever Cantileverhalter
Fig. 4.1: Prinzipskizze des Scanner Heads, gezeichnet von Gregor Zimmermann.
nigen Nanometern besitzt. Die Spitze befindet sich am Ende eines biegbaren und
schwingungsfhigen Silizium- oder Siliziumnitritbalkens, dem Cantilever. Dieser
ist auf dem Cantileverhalter eingespannt. Der Cantileverhalter ist am so genann-
ten Scanner Head befestigt. Der Scanner Head beinhaltet eine hochsensible
Laseroptik, deren Aufbau im Folgenden beschrieben ist (Fig. 4.1).
Das Licht einer Laserdiode = 670 nm wird auf das Ende des Cantilevers, welcher
mit einem hochreflektierendem Material beschichtet ist, gelenkt. Das reflektierte
Licht wird ber einen justierbaren Spiegel auf einen Vierquadrantendetektor ab-
gebildet. ndert sich nun der Winkel zwischen dem einfallenden Laserstrahl und
dem Cantilever durch dessen Verbiegung, so macht sich dies durch eine vern-
derte Position des auf den Detektor einfallenden Lichtflecks bemerkbar. Je nach
Operationsmodus sind einzelne Elemente des Detektorfeldes additiv oder sub-
traktiv geschaltet. Mit Hilfe einer Verstrkungs- und Auswerteelektronik kann
daraus die Position des Cantilevers und damit der Spitze bestimmt werden. Die
Elektronik steuert auerdem die Position des Cantileverhalters, welcher durch
Schrittmotoren und einen Piezokristall bewegt werden kann. Der Piezokristall
4. Mikroelektrische Untersuchungen 35
gestattet es den Cantilverhalter ber einen Bereich von 90 90 m ber die Probe
zu bewegen und dabei Hhenunterschiede von bis zu 6 m auszugleichen. Das
verwendete Rasterkraftmikroskop untersttzt Messungen sowohl im contact
mode als auch im tapping mode. Im contact mode berhrt die Messspitze
die Probenoberflche und die Hheninformation wird direkt aus der Verbiegung
des Cantilevers berechnet. Im tapping mode schwingt der Cantilever ber der
Probe. Dazu wird der Cantilever ber einen im Cantileverhalter befindlichen
Piezokristall zu Schwingungen angeregt. Die Resonanzfrequenz dieser Schwin-
gung ist davon anhngig, welche Kraft die Messspitze von der Probe erfhrt.
Aus der so gemessenen Resonanzfrequenz kann demzufolge auf den Abstand
zwischen Spitze und Probe geschlussfolgert und somit die Topographie der Pro-
be bestimmt werden. Dieses Verfahren hat gegenber dem contact mode den
Vorteil, dass die Spitze, da sie im Allgemeinen die Probe nicht berhrt, geringe-
ren mechanischen Belastungen ausgesetzt ist. Allerdings ndert sich der Abstand
zwischen Probe und Spitze whrend der Messung stndig, was im Hinblick auf
die Untersuchung abstandsabhngiger Krfte nachteilig ist. Um diese Proble-
me zu berwinden wurde ein weiterer Messmodus entwickelt, der interleave
mode. Dieser erlaubt es, den Abstand zwischen Probe und Spitze konstant zu
halten. Dazu wird das Hhenprofil der Probe im tapping mode aufgezeichnet,
und in einem zweiten Durchlauf derart abgefahren, dass sich die Spitze in einem
konstanten und vom Nutzer bestimmbaren Abstand von der Probe befindet. Nun
kann der Einfluss von langreichweitigen elektrischen oder magnetischen Krften
auf die Spitze studiert werden.
Cantilever
Mess-
spitze
+++
U
Isolator
- - -
Halbleiter
Probenteller
le. Hier soll zunchst auf den Fall eines n - Typ Halbleiters eingegangen werden,
wobei sich aus den getroffenen Aussagen leicht das Verhalten fr Lcher ablei-
ten lsst, wenn man das Vorzeichen der ueren Spannung umkehrt. Liegt eine
positive Spannung zwischen Metall und Halbleiter an, wie es in (Fig. 4.2) gezeigt
ist, so werden Valenz- und Leitungsband nach unten gebogen und Elektronen
sammeln sich an der Isolator-Halbleiter Grenzflche. Man spricht in diesem Fall
von Akkumulation. Durch eine negative Spannung werden die Bnder im Halb-
leiter an der Kontaktflche nach oben gebogen und Elektronen verlassen das
Gebiet, eine positive Raumladungszone bildet sich aus. Man spricht in diesem
Fall von Ladungstrgerverarmung. Erhht man die Spannung derart, dass durch
die Bandverbiegung das Ferminiveau in die Nhe der Valenzbandkante rutscht,
kommt es zur Ansammlung von Lchern im entsprechenden Gebiet. Man spricht
in diesem Fall von Inversion. Der Verlauf der Ladungs - Spannungs - und der
Kapazitts - Spannungs - Kennlinie ist in (Fig. 4.3) und (Fig. 4.4) zu sehen. Die
hierfr verwendeten Werte sind in (Tab.4.1) dargestellt. Die dargestellten Kennli-
nien geben das Verhalten der Struktur unter Gleichspannung wieder. Fr die auf
der Struktur aufgebrachte Ladung gilt:
2
!
npo
Qs = F s , , (4.1)
qLd ppo
mit
npo
!
npo
!
F , = e + 1 + e 1 (4.2)
ppo ppo
Daraus ergibt sich die Kapazitt der Raumladungszone im Halbleiter zu
4. Mikroelektrische Untersuchungen 37
p Typ
n Typ
Fig. 4.3: Ladungs - Spannungs - Charakteristik einer idealen MIS Struktur, Niederfre-
quenzfall.
Kapazitt (willk. Einheiten)
p Typ NF
n Typ NF
p Typ HF
n Typ HF
1 0.5 0 0.5 1
Spannung (V)
Fig. 4.4: Kapazitts - Spannungs - Charakteristik einer idealen MIS Struktur, Hoch (HF)-
und Niederfrequenzfall (NF).
4. Mikroelektrische Untersuchungen 38
0.8
0.6
0.4
dC/dV, normiert
0.2
0.2
0.4
0.6
p Typ NF
0.8 n Typ NF
p Typ HF
1 n Typ HF
1 0.5 0 0.5 1
Spannung (V)
Fig. 4.5: Gre des SCM Signals in Abhngigkeit von der Vorspannung, Hoch (HF)- und
Niederfrequenzfall (NF).
npo
1 e s
+ ppo e 1 s
Qs
Cs = = . (4.3)
s LD
npo
F s , ppo
Die Gesamtkapazitt der Anordnung ergibt sich als Reihenschaltung der Kapazi-
tten von Halbleiter und Isolator. Im Falle hoher Messfrequenzen verndert sich
die Kapazitts - Spannungs - Kennlinie. Die fr das verwendete SCM - Mess-
modul empfohlene AC Messfrequenz betrgt 90 kHz. Die Ableitung der Kapa-
zitts - Spannungs - Charakteristik fr diesen Fall ist in (Fig. 4.5) angedeutet,
wobei diese nur nherungsweise berechnet wurde, um einen qualitativen ber-
blick zu ermglichen. Im Gegensatz zum Niederfrequenzfall fllt oder steigt je
nach vorherrschendem Ladungstrgertyp die Kapazitt monoton mit steigender
Spannung. Demzufolge ist die Ableitung der Kapazitt nach der Spannung stets
positiv fr Elektronen oder stets negativ fr Lcher (Fig. 4.5), und der Typ der
Majorittsladungstrger kann aus dem bei 0 V gemessenen SCM Signal bestimmt
werden.
Generell kann aus der Gre des Anstiegs auf die Hhe der Dotierung geschluss-
folgert werden. Bei hohen Dotierungen (n 1020 cm3 ) ndert sich die Ausdeh-
nung der Raumladungszone nur geringfgig und die nderung der Kapazitt mit
4. Mikroelektrische Untersuchungen 39
steigender Spannung ist kleiner als im Falle geringer Dotierung (n 1017 cm3 ).
Allerdings nimmt die nderung der Kapazitt fr weiter sinkende Dotierung er-
neut ab und ist sowohl fr isolierende als auch fr metallische Proben Null. Aus
der Amplitude und der Phasenverschiebung des Messsignales zur angelegten
Spannung wird das SCM - Gesamtsignal berechnet.
p - Typ n - Typ
Fig. 4.6: Zweidimensionales SCM Profil der vom Gertehersteller mitgelieferten DRAM
Probe.
Zhlwert (willk. Einheiten)
tet wird, weil dieses isolierend ist. Zu erwhnen ist an dieser Stelle, dass bei allen
SCM Messungen stets ein Signaloffset beobachtet wird, welcher von den aktuellen
Messbedingungen abhngt. Dieser Offset ist allerdings weitgehend unvernder-
lich fr eine verwendete Messspitze, und wird, bei ansonsten nicht vernder-
ten Bedingungen, durch Messungen auf einer isolierenden Oberflche bestimmt.
Auch nach mehrstndigen Messungen hat sich dieser nur wenig verndert. Um
ein genaues Bild von den Ladungstrgerverhltnissen in den untersuchten Pro-
ben zu bekommen, muss dieser Offset nachtrglich numerisch korrigiert werden.
Um weitere Erkenntnisse ber die Ladungstrgerkonzentration in den unter-
schiedlichen Bereichen der Streifenstruktur zu gewinnen, wurden vorspannungs-
abhngige Untersuchungen durchgefhrt. Dazu wurden eindimensionale Scans
senkrecht zur Streifenstruktur ber die Probenoberflche gemessen. Dabei wurde
schrittweise die Spannung an der Spitze verndert. Nach jeder Spannungsnde-
rung wurden einige Scandurchlufe abgewartet, um ein zeitlich stabiles Messsi-
gnal zu erhalten. Eine Zusammenfassung der Resultate dieser Messungen ist in
(Fig. 4.9) zu sehen. Die einzelnen Messkurven wurden hierzu zu einem zweidi-
mensionalen Bild zusammengefgt, dessen x - Achse die Position auf der Probe,
und die y - Achse die angelegte Vorspannung darstellt. Dabei liegt die Spannung
stets an der Spitze an, whrend die Probe auf Masse liegt. Der Messwert an der
entsprechenden Orts - Spannungs - Koordinate ist, wie aus den vorangegangenen
Abbildungen bekannt, farbig kodiert. Der Vollstndigkeit halber ist zu erwhnen,
dass diese Messung nicht am selben Messtag wie die in (Fig. 4.8) Gezeigte durch-
gefhrt wurde. Der Offset der Messung ist also ein anderer.
Im linken Bereich der Abbildung ist das Kunstharz zu erkennen, es zeigt keine
Abhngigkeit des SCM Signals von der Vorspannung, was entweder auf metalli-
sches oder isolierendes Verhalten schlieen lsst. Im rechts daran anschlieenden
Bereich ist folgendes Verhalten zu erkennen: Ohne Vorspannung entspricht das
Signal dem eines n - Halbleiters. Dieses Signal wird durch eine positive Vorspan-
nung zuerst vergrert, da Elektronen an der Halbleiter - Isolator - Grenzflche
akkumulieren. Bei weiterer Erhhung der Vorspannung sinkt der Signalpegel
erneut ab, da die Grenzflche maximal aufgeladen ist und keine nderung der
Kapazitt mit der Spannung mehr erfolgt. Zu negativen Vorspannungen hingegen
sinkt das Messsignal zuerst, und schlgt dann in das fr einen p - Typ Halbleiter
charakteristische um. Dies ist darauf zurckzufhren, dass sich das Ferminiveau
bei starker Bandverbiegung im oder in der Nhe des Valenzbandes befindet und
sich Lcher an der Grenzflche sammeln. Die unterschiedlichen Vorspannungen,
bei denen dieses Verhalten fr die verschiedenen Bereiche eintritt, indizieren un-
terschiedliche Elektronenkonzentrationen, was sich bereits durch die Streifen im
bersichtsscan abgezeichnet hat. Am rechten Rand der Abbildung ist das p - Sub-
strat zu erkennen, in welchem ein analoges Verhalten, allerdings bei umgekehrter
Vorspannung, auftritt. Weiterhin fllt auf, dass bei sehr groen Vorspannungen im
4. Mikroelektrische Untersuchungen 43
r z
h a
s t
u n e
a) K o b
Pr
p - Typ n - Typ
r z
h a
s t
n n
Ku gi
o
Re
r te
t ie
an
pl
m
-i p t
P y
- T stra
p b
Su
-4
300
-3
200
100
-1
0 0
1
-100
2
-200
3
-300
4
0 5 10 15 20
Position (m)
Fig. 4.9: Vorspannungsabhngige SCM Linescans: Querschnitt einer P implantierten p -
Siliziumprobe, welche in Kunstharz eingebettet ist a) Schema der untersuchten
Struktur.
4. Mikroelektrische Untersuchungen 45
p - und n - Bereich das gleiche, relativ niedrige, aber von Null verschiedene Signal
auftritt. Dies ist von seinem Vorzeichen her dem der Vorspannung gleichgerich-
tet. Eine mgliche Ursache fr diese Nichtidealitt knnte der durch die dnne
natrliche Oxidschicht, welche in diesem Fall als Isolator dient, auftretende Tun-
nelstrom sein. Genaue Untersuchungen dieses Phnomens sind in Bearbeitung.
Weiterhin fllt auf, dass das Phnomen der Inversion nur zu beobachten ist,
wenn man davon ausgeht, dass es sich bei der zugrunde liegenden Kapazitts
- Spannungabhngigkeit um das in (Fig. 4.5) dargestellte Niederfrequenzverhal-
ten, und nicht um das vom Gertehersteller angenommene, und in (Fig. 4.5)
dargestellte Hochfrequenzverhalten handelt. Bei diesem tritt ber den gesamten
Messbereich kein Wechsel des Vorzeichens des SCM Signals auf. Auf einer wei-
teren Siliziumprobe wurden an feststehenden Positionen Vorspannungs - SCM -
Signal - Kennlinien aufgezeichnet. Die entsprechenden Charakteristiken fr p -
und n - Si sind in (Fig. 4.10) zu sehen. Es besttigt sich die hnlichkeit mit dem
in (Fig. 4.5) dargestellten Niederfrequenzverhalten. Inwieweit dieses Verhalten
damit begrndet ist, dass ein Stromfluss ber die Halbleiter-Isolator-Grenzflche
auftritt, ist nicht gesichert. Eine detaillierte Untersuchung dieses Phnomens wird
vorgeschlagen. Auch deutet sich an, dass dieses Verhalten sich fr Lcher und
Elektronen unterscheiden kann. Eine physikalische Begrndung fr ein solches
Verhalten ist durch die unterschiedlichen Lebensdauern und Generations - Re-
kombinationsraten der jeweiligen Minorittsladunsgtrger gegeben. Dies kann
sich auch fr verschiedene Materialien und fr verschiedene Defektkonzentra-
tionen unterscheiden. Auch hier sind weitergehende Untersuchungen ntig, um
die beobachteten Effekte klassifizieren zu knnen.
4. Mikroelektrische Untersuchungen 46
600
p-Si
400 n-Si
SCM-Signal (mV)
200
-200
-400
-600
-4 -2 0 2 4
Vorspannung (V)
Fig. 4.10: Vorspannungsabhngigkeit des SCM-Signals an festen Orten auf p - und n - Si.
5. ERGEBNISSE DER MESSUNGEN UND AUSWERTUNG
160 61016
H (cm/Vs)
n H (cm -3)
140 51016
41016
H (cm/Vs)
120
nH (cm-3)
31016
100
21016
80
11016
60
01016
0.01 0.02 0.03 0.04 0.05
pO2 (mbar)
Fig. 5.1: Erste Serie: Abhnigkeit der freien Ladungstrgerkonzentration n und der Mo-
bilitt vom Sauerstoffpartialdruck.
160 61016
2
H (cm /Vs)
n H (cm -3)
140 51016
41016
H (cm/Vs)
120
nH (cm-3)
31016
100
21016
80
11016
60
01016
0.001 0.010 0.100
pO2 (mbar)
Fig. 5.2: Zweite Serie: Abhnigkeit der freien Ladungstrgerkonzentration n und der Mo-
bilitt vom Sauerstoffpartialdruck.
bilitt der Probe, bei der man aus den Ergebnissen der ersten Serie ein Maximum
erwartet htte deutlich unter dem Durchschnitt der gesamten Serie. Auch sind
die Zimmertemperaturmobilitten der anderen Proben hher, als es nur aus den
Messungen an der ersten Serie zu erwarten gewesen wre. Es zeichnet sich ab,
dass eine Reproduzierbarkeit der Ergebnisse nicht im vollen Umfange zu errei-
chen ist. Dies ist unter anderem dadurch begrndet, dass fr die Herstellung der
beiden Probenserien verschiedene PLD-Targets verwendet wurden. Diese knnen
sich, trotz nominell gleicher Herstellung in ihrer Zusammensetzung, insbesonde-
re im mikroskopischen Bereich, unterscheiden. Demzufolge ist hier eine mgliche
Ursache fr Unterschiede zwischen ansonsten unter gleichen Bedingungen her-
gestellten Proben zu sehen. Um weitere Anhaltspunkte fr diese Verhalten zu
gewinnen wurde eine dritte Serie hergestellt.
Die Messergebnisse dieser Serie sind in (Fig. 5.3) zu sehen. Die Messungen best-
tigen in wesentlichen Zgen die der beiden vorherigen Serien. Mit steigendem
Sauerstoffpartialdruck whrend der Zchtung sinkt die freie Ladungstrgerkon-
zentration. Auerdem lsst sich im Bereich von 0,01 mbar erneut ein Maximum in
der Mobilitt erkennen. Um alle Messungen vergleichen zu knnen wurden die
Ergebnisse aller drei Serien in (Fig. 5.4) zusammengefasst. Es zeigt sich, wie schon
aus den einzelnen Serien erkennbar war, ein systematisches Verhalten fr die freie
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 50
160 61016
2
H (cm /Vs)
n H (cm -3)
140 51016
41016
H (cm/Vs)
120
nH (cm-3)
31016
100
21016
80
11016
60
01016
0.001 0.010 0.100
pO2 (mbar)
Fig. 5.3: Dritte Serie: Abhnigkeit der freien Ladungstrgerkonzentration n und der Mo-
bilitt vom Sauerstoffpartialdruck.
160 61016
H (cm 2/Vs)
n H (cm -3)
140 51016
41016
H (cm/Vs)
120
nH (cm-3)
31016
100
21016
80
11016
60
01016
0.001 0.010 0.100
pO2 (mbar)
Fig. 5.4: Vergleich der Ergebnisse aller drei Messserien (Fig. 5.1 - 5.3).
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 52
In der folgenden Abbildung (Fig. 5.5) sind Resistivitt und freie Ladungstrger-
konzentration fr Zinkoxidproben mit einem Anteil von 1% Zn3 (PO4 )2 in Ab-
hngigkeit vom Sauerstoffpartialdruck bei der Zchtung zu sehen. Wie schon
bei den undotierten Proben ist ein Abfall der freien Ladungstrgerkonzentration
mit steigendem Sauerstoffpartialdruck zu erkennen. Allerdings ist die Konzen-
tration freier Elektronen erheblich hher, als fr undotierde Proben. Dies ist auf
dem ersten Blick verwunderlich, da Phosphor ja in der Absicht Akzeptoren zu
erzeugen beigemischt wurde, welche die Elektronenkozentration zumindest re-
duzieren msste, wenn kein Umschlag zu Lochleitung erfolgt. Allerdings ist aus
der Literatur [39] bekannt, dass Phosphor in Zinkoxid dazu neigt Donatorkom-
plexe zu bilden. Weiterhin knnte die Verwendung von Zn3 PO4 die Bildung von
ZnI frdern, was ebenfalls zu einer Erhhung der Donatorkonzentration fhrt. Ein
Einbau von Phosphor auf Sauerstoffplatz PO , welcher den gesuchten Akzeptor er-
zeugen wrde, findet nicht, oder nur in geringem Mae, statt. Weiterhin lsst sich
erkennen, dass die Resistivitt in hnlichem Mae steigt, wie die frei Ladungstr-
gerkonzentration sinkt. Dies muss mit einer nahezu unvernderlichen Mobilitt
einhergehen. Diese ist aus Grnden der bersichtlichkeit nicht einzeln dargestellt,
und liegt im Bereich zwischen 1 cm2 /Vs und 10 cm2 /Vs. Weiterhin ist zu erkennen,
dass die Daten von drei Proben, die unter selben Bedingungen gezchtet wurden
um bis zu eine Grenordnung abweichen. Dies muss nicht zwangslufig fr eine
andere Zusammensetzung der Probe sprechen, sodern kann zumindest teilweise
durch die nicht vllig reproduzierbare Probendickeverteilung verursacht sein.
Um die donatorartigen Phosphorkomplexe thermisch zu zersetzen wurden die
Proben bei 700 C drei Minuten in Stickstoff ausgeheizt. In (Fig. 5.6) sind die
elektrischen Daten der Proben vor und nach dem Ausheizvorgang gegenber-
gestellt. Dabei bedeuten helle Marker stets Proben im Originalzustand, dunkle
stehen fr thermisch behandelte Proben. Bis auf eine Probe zeigen alle hierbei eine
Erniedrigung der freien Elektronenkonzentration, teilweise um mehrere Gren-
ordnungen. Dies spricht fr eine erhhte Akzeptor- oder eine geringere Dona-
torkonzentration. Beide Effekte sollten mit einem Zerfall der Phosphorkomplexe
einhergehen. Ein bergang zu Lochleitung ist allerdings auch hier nicht zu be-
obachten. Auch ist kein Zusammenhang zwischen der ursprnglichen, und der
nach dem Ausheizen gemessenen Ladungstrgerkonzentration zu erkennen. Fr
nahezu alle Proben korreliert die Erniedrigung derselben allerdings mit einer
hnlichen Erhhung der Resistivit. Die Mobilitt ist fr einige Proben leicht ge-
stiegen, was auf eine geringere Defektkonzentration hindeutet.
Die folgende Abbildung (Fig. 5.7) zeigt das Verhalten des spezifischen Wider-
standes fr Zinkoxidproben die mit P2 O5 dotiert wurden. Dabei wurden PLD -
Targets mit verschiedenem Diphosphorpentoxidgehalt verwendet. Im Gegensatz
zu den bisherigen Ergebnissen sinkt der spezifische Widerstand mit steigendem
Sauerstoffpartialdruck. Eine mgliche Erklrung wre die geringere Formations-
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 54
rho (Ohm*cm)
nH (cm-3)
10.00 1020
rho (Ohm cm)
nH (cm-3)
1.00 1019
0.10 1018
0.01 1017
rho (Ohm*cm)
nH (cm-3)
100.00 rho (Ohm*cm) annealed
1020
nH (cm-3) annealed
10.00 1019
rho (Ohm cm)
n H (cm -3)
1.00 1018
0.10 1017
0.01 1016
0,25% P2O5
0,1% P2O5
1,000.0
100.0
rho (Ohm cm)
10.0
1.0
0.1
107
unverndert
Zn3PO4
spez. Widerstand annealed
105 undotiert
P2O5
103
101
10-1
10-3
10-3 10-1 101 103 105 107
spez. Widerstand unbehandelt
300
pO2:
0,05 mbar
250
0,03 mbar
0,02 mbar
200 0,01 mbar
H (cm2/Vs)
150
100
50
0
50 100 150 200 250 300
T (K)
1017
pO2:
0,05 mbar
0,03 mbar
0,02 mbar
0,01 mbar
nH (cm-3)
1016
2 4 6 8 10 12 14 16
1000/T (1/K)
0
10
-1
10 Messwerte
(m2/Vs)
-3
10
20 30 40 50 60 70 80 90100 200 300
T (K)
Fig. 5.11: Beispiel zur Anpassung der Mobilitt.
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 61
1017
Fit
Messwerte
nH (cm-3)
1016
3 4 5 6 7 8 9 10
1000/T(1/K)
pO2 ( mbar) NA ( cm3 ) ND1 ( cm3 ) ED1 ( meV) ND2 ( cm3 ) ED2 ( meV)
0,01 1,8 1015 3,5 1016 12 4,3 1016 65
15 16
0,02 1,2 10 2,1 10 12 3,0 1016 62
15 16 16
0,03 1,2 10 4,6 10 13 2,6 10 64
15 16
0,05 1,0 10 3,3 10 126
Tab. 5.4: Donatorkonzentrationen und -aktivierungsenergien der ersten Probenserie, un-
ter Verwendung eines Zweidonatorfits, berechnet aus den Akzeptorkonzentra-
tionen in (Tab. 5.3).
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 63
1017
Fit
Messwerte
nH (cm-3)
1016
3 4 5 6 7 8 9 10
1000/T(1/K)
Fig. 5.13: Beispiel fr die Anpassung der Ladungstrgerkonzentration mit einem Zwei-
donatorfit.
der Messpunkte allerdings nicht weiter verwunderlich. Setzt man, wie bereits
besprochen einen Eindonatorfit an, behlt aber die fr den Zweidonatorfit ge-
whlte Akzeptorkonzentration NA = 1,0 1015 cm3 bei, bleiben die Werte fr ND
und ED unverndert. Auffallend ist hier die relativ starke Abhngigkeit von ED
vom fr NA angenommenen Wert. Auch wenn dadurch die erzielbare Genau-
igkeit bei der Donatoraktivierungsenergie ED etwas zurckgeht, zeigt sich doch
eine deutliche bereinstimmung mit dem in der Literatur wiederholt berichteten
Energieniveau E1 , dieses kann damit erstmalig mit temperaturabhngigen Hall -
Effektmesungen an unseren Dnnfilmen beobachtet werden [40]. Es ist davon aus-
zugehen, dass dieser Defekt auch bei den anderen untersuchten Proben auftritt.
Bei diesen ist allerdings im untersuchten Temperaturbereich der flachere Alumi-
niumdonator dominierend, wodurch die tiefe Strstelle nicht beobachtet werden
kann. Auch ist auf Grund der gleichen Zchtungsbedingungen davon auszuge-
hen, dass auch in der bei 0,05 mbar abgeschiedenen Probe Aluminium zu finden
ist. Das hier aber dieser Donator nicht zu beobachten ist, lsst allein den Schluss
zu, dass NA grer ist als das zugehrige NDAl , und alle durch Donatorionisation
freigewordenen Elektronen an Akzeptoren gebunden wurden. Fr eine relative
hohe Akzeptorkonzentration spricht auch die hohe Temperatur unterhalb derer
die Probe isolierend wird. Demzufolge ist also eine Akzeptorkonzentration von
NA 1,0 1016 cm3 oder mehr sehr wahrscheinlich. Eine exakte Bestimmung ist
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 64
unter den gegebenen Umstnden allerdings nicht mglich. Auerdem ist zu be-
achten, dass es sich bei der bestimmten Aktivierungsenergie ED1 keineswegs um
eine Donatoraktivierungsenergie handeln muss. Nach den berlegungen von
J.W. Orton und M.J. Powell [22] beeinflussen die Korngrenzen nicht nur die
Mobilitt, sondern auch die im Hall - Effekt gemessene freie Ladungstrgerkon-
zentration. Genau wie die fr die Mobilitt wird hierbei von einer thermischen
Aktivierung ausgegangen. Die Aktivierungsenergie entspricht dabei der fr Be-
stimmung der Mobilitt eingefhrten Barrierenhhe. Dies zeigt sich hervorragend
aus dem Vergleich von b und ED1 . Um detaillierte Informationen ber eine mg-
liche Abhngigkeit zwischen den Donator- und Akzeptorkonzentrationen NA ,
ND und dem Sauerstoffpartialdruck whrend der Zchtung zu erhalten, wurden
temperaturabhngige Messungen an der zweiten Probenserie durchgefhrt. Die
Abhngigkeiten der Mobilitten sowie der freien Ladungstrgerkonzentrationen
sind in (Fig. 5.14 und Fig. 5.15) dargestellt. Zu erwhnen ist hierbei, dass eine
Messung der elektrischen Eigenschaften an der bei 0,06 mbar abgeschiedenen
Probe nicht mglich war, was wahrscheinlich auf geringe Kristallqualitt zurck-
zufhren ist. Im Allgemeinen sind die vermessenen Zinkoxidproben transparent,
und erscheinen, mit dem bloen Auge betrachtet, homogen. Fr einige Proben,
die ohne Verwendung des rotierenden Substrathalters hergestellt wurden, sind
verschiedenfarbige Interferenzen, die durch die unterschiedliche Schichtdicke
verursacht werden, zu erkennen. Bei der bei 0,06 mbar abgeschiedenen Probe
hingegen ist bereits mit dem Auge eine milchig graue Frbung zu sehen. Die
gemessene Mobilitt wurde auf die bereits beschriebene Weise angepasst. Hier-
zu wurden drei verschiedene Vorgehensweisen gewhlt. In allen Fllen wurden
die Parameter fr die Korngrenzenstreuung, sowie die Akzeptorkonzentration
variiert. In einem Fall wurde zustzlich die Debyetemperatur frei verndert, in
einem anderen Fall alle intrinsischen Streukonstanten. Die folgende Tabelle (Tab.
5.5) fasst alle entsprechenden Ergebnisse zusammen. Die Debyetemperatur wurde
auf einen Ausgangswert von 837 K gesetzt, die Deformationspotentialkonstante
auf 18,9 eV und die piezoelektrische Konstante auf 0,21. Zu erkennen ist hierbei,
dass die Werte fr die intrinsischen Streuparameter zum Teil betrchtlich vom
Bulkwert abweichen. Dies deutet auf eine dementsprechend hohe Gitterverspan-
nung hin. Um zu prfen, inwieweit die Gitterkonstanten von den Werten fr
Bulkzinkoxid abweichen, wurden von A. Rahm Rntgenbeugungsexperimente
durchgefhrt. Aus den - 2 Scans sind deutliche Unterschiede sowohl in der
Lage des Beugungsmaximums, als auch in dessen Halbwertsbreite zu erkennen.
Hierbei steht eine unterschiedliche Lage fr verschiedene Gitterkonstanten der
Proben untereinander, eine grere Halbwertsbreite deutet auerdem eine Ver-
spannung mit unterschiedlichen Gitterkonstanten in der Probe an. Auffallend ist,
dass die Probe, die den elektrischen Messungen nicht zugnglich war, hier die
grte Abweichung von den anderen Proben zeigt. Aus den Beugungswinkeln
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 65
225 pO2:
0,025 mbar
200
0,01 mbar
0,004 mbar
175
0,0015 mbar
150 0,0006 mbar
H (cm2/Vs)
125
100
75
50
25
0
50 100 150 200 250 300 350
T (K)
1017 pO2:
0,025 mbar
0,01 mbar
0,004 mbar
0,0015 mbar
0,0006 mbar
nH (cm-3)
1016
2 4 6 8 10 12 14 16 18 20
1000/T(1/K)
wurden die c - Achsen Gitterkonstanten berechnet und mit der in der Literatur
gefundenen c - Achsen Gitterkonstante fr Bulkzinkoxid verglichen. In der folgen-
den Grafik (Fig. 5.17) sind die prozentualen Abweichungen der Gitterkonstanten,
sowohl die prozentualen Abweichungen der Streukonstanten intrinsischer Streu-
prozesse vom Bulkwert gegen den Sauerstoffpartialdruck dargestellt.
Dabei ist zu erkennen, dass die c - Achsenverspannung fr alle Proben in ei-
nem Bereich von 0,25% bis 0,4 % liegt. Eine Abhngigkeit vom Sauerstoffparti-
aldruck ist nicht festzustellen. Die Abweichung der Streukonstanten hingegen
liegt in einem Bereich zwischen 0% und 80%. Es ist weder eine Abhngigkeit
vom Sauerstoffpartialdruck, noch von der c - Achsenverspannung zu erkennen.
Eine Ausnahme bildet hier vielleicht die Debyetemperatur, die mit steigendem
Sauerstoffpartialdruck sinkt. Fr alle Konstanten sind die absoluten Betrge der
nderungen gegenber dem Bulkwert aufgetragen, dabei zeigen allerdings die
nderungen fr ein und dieselbe Konstante stets ein und dasselbe Vorzeichen.
Fr eine vollstndige Analyse wren Kenntnisse ber die a - Achsen Gitterkon-
stante ntig. Weiterhin wre eine genaue Kenntnis der Abhngigkeit der Streu-
parameter von der Gitterverspannung erforderlich. Auf Grundlage dessen knn-
ten dann die intrisischen Streukonstanten als Funktionen der Gitterverspannung
ausgedrckt werden und zur Variation allein die Gitterverspannung herange-
zogen werden. Dies wrde sowohl die Anzahl der freien Parameter reduzieren
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 67
pO2:
Relative c - Achsenverspannung
1.0 relative nderung des Deformationspotentials 0.0050
relative nderung der piezoelektrischen Konstante
relative nderung der c - Achse
0.8 0.0045
0.6 0.0040
0.4 0.0035
0.2 0.0030
0.0 0.0025
0.001 0.010
p O2 (mbar)
Fig. 5.17: Relative nderung der c - Achse sowie der intrinsischen Streuparameter in
Abhngigkeit vom Sauerstoffpartialdruck.
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 68
pO2 ( mbar) NA ( cm3 ) ND1 ( cm3 ) ED1 ( meV) ND2 ( cm3 ) ED2 ( meV)
0,025 4,6 1014 1,1 1016 20 2,8 1016 75
0,01 1,4 1015 2,5 1016 17 2,8 1016 65
15 16 16
0,004 1,6 10 1,3 10 11 3,3 10 62
0,0015 1,6 1015 1,9 1016 12 3,7 1016 67
15 15 16
0,0006 1,0 10 5,6 10 18 2,6 10 52
Tab. 5.6: Donatorkonzentrationen und -aktivierungsenergien der zweiten Probenserie,
unter Verwendung eines Zweidonatorfits, berechnet aus den Akzeptorkonzen-
trationen in (Tab. 5.5).
0
10
(m2/Vs)
Messwerte
-1 Fit der Mobilitt
10
ionisierte Strstellen
Deformationspotential
Piezoelektrisch
Polar - Optisch
Korngrenzen
-2
10
1.2
1.18
1.16
1.14
1.12
1.1
rH
1.08
1.06
1.04
1.02
1
50 100 150 200 250 300 350
T(K)
0
10
M1704
-1
10
Messwerte
(m2/Vs)
-3
10
200 300
T (K)
Fig. 5.20: Fit der Mobilitt einer P2 O5 dotierten Zinkoxidprobe(M1704) nach Matthiesens
Regel.
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 74
Fit
Messwerte
1017
nH (cm-3)
1016
3 4 5 6 7 8 9
1000/T(1/K)
daher nur spekuliert werden. Zink auf Zwischengitterplatz ZnI wre genauso wie
unbeabsichtigte Verunreinigungen des Pulvers eine mgliche Ursache. Auch der
Einfluss der Phosphorkomplexe kann hier nicht ausgeschlossen werden.
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 75
ZnO
ZnO:N
1016
n (cm-3)
1015
1014
1013
5 10 15 20 25
1000/T(1/K)
1,600
ZnO
ZnO:N
1,400 ZnO ausgeheizt
ZnO:N ausgeheizt
1,200
1,000
(cm2/Vs)
800
600
400
200
0
0 50 100 150 200 250
T (K)
Fig. 5.23: Mobilitaet: Vergleich der implantierten und nichtimplantierten Probe, vor und
nach dem Ausheizen.
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 78
Lsung angepasst und durch Berechnung des Hall - Faktors (Fig. 5.25) die Drift-
mobilit bestimmt (Fig. 5.26). Diese wurde erneut angepasst, und das beschriebe-
ne Vorgehen mehrfach wiederholt, bis keine Vernderung der Driftmobilit mehr
zu beobachten war. Weiterhin wurde mit den nun bestimmten Streuparametern
die Mobilit nach Matthiesens Regel berechnet. Sie ist zum Vergleich in dieselbe
Grafik eingetragen. Es ist leicht zu erkennen, dass diese deutlich strker von der
exakten Lsung abweicht, als fr die bereits untersuchte PLD Probe. Die Streupa-
rameter sind in (Tab. 5.8) tabelliert. Zum Vergleich sind sowohl diejenigen Para-
meter dargestellt, welche sich fr eine Anpassung der Mobilitt nach Matthiesens
Regel ergeben, als auch die, die in der Literatur fr Bulkzinkoxid zu finden sind.
Eine deutlich bessere bereinstimmung mit den Literaturwerten wird durch die
exakte Lsung erreicht. Die Abweichung von den Literaturwerten liegt fr keinen
der Streuparameter ber 10%, wohingegen sie fr die Nherungslsung bis zu
ber 50% erreicht. Unter Verwendung der im Mobilitsfit bestimmten Akzeptor-
konzentration wurden die Parameter der dominierenden Donatoren bestimmt.
Ein Eindonatorfit erbrachte hierbei nur eine schlechte bereinstimmung mit den
gemessenen Daten, weswegen ein Zweidonatormodell verwandt wurde. Hierzu
wurde nur die aus der mittels exakter Lsung angepassten Mobilit gewonnene
Akzeptorkonzentration verwendet, da davon auszugehen ist, dass diese deutlich
exakter bestimmt worden ist als mit der Nhrung. Die Ergebnisse sind in (Tab.
5.9) wiedergegeben. Auffllig ist zuerst der erhebliche Konzentrationsunterschied
der beiden Donatoren. Das flachere Niveau lsst sich hierbei hchstwahrschein-
lich dem Wasserstoff zuordnen, das tiefere knnte auf ZnI oder Verunreinigungen
durch Gruppe III Elemente hindeuten.
Der Hall - Faktor, welcher sich nach Abschluss der Anpassung ergab, ist in (Fig.
5.25) in Abhnigkeit von der Temperatur dargestellt. Dieser erreicht bei tiefen
Temperaturen erheblich hhere Werte als fr die bereits betrachtete PLD Probe.
Dies ist auf den fehlenden Einfluss von Korngrenzenstreuung zurckzufhren.
Der steilen Anstieg in Richtung tiefer Temperaturen deutet auf einer erheblich
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 79
0
10
-1
10
(m2/Vs)
Messwerte
Fit an die Mobilitt
Ionisierte Strstellen
-2
Deformationspotential
10 Piezoelektisch
Polar - Optisch
Elastische Nherung
-3
10
40 50 60 70 80 90 100 200 300
T (K)
Fig. 5.24: Vergleich der Mobilittsanpassung mittels Nherung und exakter Lsung fr
einen PMG ZnO Einkristall.
grsseren Einfluss der Streuung an ionisierten Strstellen hin. In (Fig. 5.26) ist
die Korrektur der Hall - Mobilitt dargestellt, welche durch den Hall - Faktor
dividiert wird, um die Driftmobilitt zu erhalten. Blassere Farben stehen hier-
bei fr zeitlich weiter zurckliegende Iterationsschritte. Zur besseren bersicht
wurde die Hall - Mobilitt, so wie sie durch die Messung bestimmt wurde in
blauer Farbe dargestellt. Bereits nach dem zweiten Iterationsschritt weichen die
Daten nicht mehr deutlich von denen des folgenden Schrittes ab. Die Korrek-
tur ist bei tiefen Temperaturen am grten, und erreicht Werte von bis zu 30%.
Zusammenfassend lsst sich sagen, dass durch die Anwendung der im Rahmen
dieser Arbeit vorgestellten exakten Lsung der Boltzmann - Transportgleichung
eine nicht unerhebliche Reduktion der systematischen Fehler bei der Auswertung
von Mobilittsdaten erreichen lie. Diese haben fr Zinkoxideinkristalle bereits
unterhalb von Zimmertemperatur sprbare Auswirkungen.
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 80
1.5
1.4
1.3
rH
1.2
1.1
1
50 100 150 200 250 300 350
T(K)
Fig. 5.25: Hall - Faktor in Abhngigkeit von der Temperatur fr einen PMG ZnO Einkris-
tall.
1,000
( cm2/Vs)
100
40 50 60 70 80 90100 200 300
T(K)
Fig. 5.26: Systematische Korrektur der Hall - Mobilit, um die Driftmobilit zu bestimmen.
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 81
Crystec
1013 Mateck
Mateck
Mateck
nH (cm-3)
1012
1011
1010
1015
Fit
Messwerte
nH (cm-3)
1014
1013
0 40 0 50 0 40
0 1m 0 1m 0 1m
0 20 0 200 0 80
0 1m 0 1m 0 1m
0 40 0 500 0 40
0 40 -300 0 300
0 12,8m 0 12,8m
Fig. 5.32: SCM Messungen an einer phosphordotierten homoepitaktisch gezchteten ZnO
Probe nach dem Ausheizen; Hhe und SCM Signal.
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 86
p - Typ nn -Typ
Typ
ZnO:N ZnO
Zhlwert (willk. EInheiten)
a) b)
50
0
-50 ZnO:N
SCM-Signal (mV)
ZnO
-100
-150
-200
-250
-300
-350
-10 -5 0 5 10
Vorspannung (V)
Fig. 5.34: Vorspannungsabhngigkeit des SCM Signals fr die in Kap. 5.2.3 diskutierten
Einkristalle, gemessen mit einer Spitze vom Typ NSG20.
Spannung (V)
b) -1,0 -0,5 0,0 0,5 1,0
0,003
10-3
a) |I| (A) front - to - back 0,002 c)
implantiert
Zhlwerte (will. Einheiten)
O2, 500C
O2, 700C
O2, 900C
Fig. 5.36: Vergleich der SCM Histogramme fr P implantierte Proben die unter verschie-
denen Bedingungen ausgeheizt worden sind.
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 91
Signals bei relativ kleinen positiven und negativen Werten liegt. Es ist dabei im
Rahmen der Messgenauigkeit nicht mglich zwischen hoch p - und hoch n - leiten-
den Proben zu unterscheiden, wie dies bereits in der Diskussion der Messungen
an der Referenzprobe des Herstellers diskutiert wurde (siehe 4.2). Auerdem ist
eine Aussage ber die Hhe der Ladungstrgerkonzentration unter diesen Be-
dingungen nicht mglich. Die Proben knnten sowohl hochleitendes als auch
isolierendes Verhalten zeigen. Im Folgenden wird also auf diejenigen Proben ein-
gegangen werden, welche ein hinreichend groes SCM Signal zeigen. In den
folgenden Abbildungen (Fig. 5.37, Fig. 5.38 und Fig. 5.39) sind diese Ergebnisse
zusammengefasst. bereinstimmend lsst sich in allen Grafiken erkennen, dass
das SCM Signal fr eine im Hellen vermessene Probe deutlich grere negative
Werte annimmt. Dies knnte durch persistente Photoleitung [44] verursacht sein,
die dazu fhrt, dass in beleuchteten Proben stets hhere Elektronenkonzentra-
tionen gemessen werden, als wenn diese Proben einige Zeit abgedunkelt waren
und in diesem Zustand gemessen werden. Dies kann weiterhin dazu fhren, dass
schwach p - leitende Proben als n - leitend erscheinen. Demzufolge sollte also im
Hellen eine geringere Lochkonzentration vermessen werden. Wenn dies gleich-
zeitig mit einem greren SCM Signal verknpft ist, kann dies nur bedeuten,
dass die Lochkonzentration im Dunkeln sehr hoch ist. Im Falle einer im Dunkeln
geringen Lochdichte wre bei Beleuchtung nur mit einer noch geringeren Loch-
dichte zu rechnen, die keinesfalls ein betragsmig greres SCM Signal erzeugt.
Weiterhin fllt auf, dass ausschlielich die bei 700 C ausgeheizten Proben diesen
Effekt zeigen, mit Ausnahme der As implantierten Proben, wo dieser Effekt auch
bei der bei 900 C ausgeheizten Probe auftritt. Weiterhin ist zu beachten, dass auch
die Ar implantierte Probe dieses Verhalten zeigt. Das kann nicht durch eine Ak-
tivierung eines extrinsischen Akzeptors entstanden sein. Dies gibt Anlass zu der
Vermutung, dass der beobachtete Effekt mit den durch die Bestrahlung erzeugten
Defekten, und der anschlieenden thermischen Behandlung zusammenhngt.
Auch ist nicht auszuschlieen, das es sich hierbei um einen Oberflcheneffekt
handelt. Eine genaue Untersuchung der Proben mit anderen Methoden ist n-
tig, um diese Effekte weiter einordnen zu knnen. Zum Beispiel knnten SSPM
Messungen Auskunft ber, die Lage des Ferminiveaus geben. Damit knnten
hochleitende und isolierende Proben unterschieden werden.
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 92
P implantiert
Fig. 5.37: Vergleich der im Dunkeln und Hellen aufgezeichneten SCM Histogramme eines
P implantierten Einkristalles, welcher bei 700 C in Sauerstoff ausgeheizt wurde.
Nach Beleuchtung
Ar implantiert
Fig. 5.38: Vergleich der im Dunkeln und Hellen aufgezeichneten SCM Histogramme ei-
nes Ar implantierten Einkristalles, welcher bei 700 C in Sauerstoff ausgeheizt
wurde.
5. Ergebnisse der Messungen und Auswertung 93
As implantiert
Fig. 5.39: Vergleich der im Dunkeln und Hellen aufgezeichneten SCM Histogramme zwei-
er As implantierter Einkristalle, welche bei 700 C und 900 C in Sauerstoff
ausgeheizt wurden.
6. ZUSAMMENFASSUNG UND AUSBLICK
Im Rahmen dieser Arbeit wurden zahlreiche ZnO PLD Dnnfilm, und einige Ein-
kristalle mit integral elektrischen und mikroelektrischen Methoden untersucht.
Aus den Hall - Effektmessungen konnten die Parameter von dominierenden Do-
natoren sowie die wesentlichen Streumechanismen identifiziert werden. Fr PLD
Dnnfilme berwiegt hierbei fr alle Temperaturen die Streuung an Korngrenzen.
Ein numerisches Verfahren zur exakten Lsung der Boltzmanntransportgleichung
nach Rode und Nag wurde implementiert. Dieses wurde exemplarisch mit den Er-
gebnissen der bisher verwendeten Nherungsmethode nach Matthiesens Re-
gel verglichen. Dabei stellte sich heraus, dass die Nherungslsung fr PLD
Dnnfilme auf Grund des erheblichen Einflusses der Korngrenzenstreuung bis
zu Zimmertemperatur hinreichend ist. Hingegen zeigt sich fr ZnO Einkristal-
le bereits bei tiefen Temperaturen eine deutliche Reduktion der systematischen
Fehler durch die exakte Berechnung der Driftmobilitt, die nur an Hand der
exakten Lsung mglich ist. Die bereinstimmung mit Literaturwerten ist in
deutlich besserem Mae gegeben als unter Verwendung der Nherung. Dies
wurde exemplarisch fr einen Einkristall gezeigt, weitere Auswertungen bereits
vermessener Kristalle sind in Bearbeitung. Auch hier wird eine erhebliche Ver-
besserung der Genauigkeit erwartet. Weiterhin wurde im Rahmen dieser Arbeit
ein Hochtemperaturmesskopf konstruiert, welcher jetzt fr Hall - Effektmessun-
gen zur Verfgung steht. Mit diesem wurde das Hochtemperaturverhalten eines
hydrothermalen Einkristalls untersucht. Dabei konnte auf Grund des greren
Temperaturbereichs erstmal eine detaillierte Aussage ber die Donator- und Ak-
zeptorkonzentration getroffen werden. Weitere Messungen an PLD Dnnfilmen,
insbesondere an mit Gruppe V Elementen dotierten werden vorgeschlagen. Dabei
wird auf die Mglichkeit aufmerksam gemacht, eine mgliche elektrische Akti-
vierung von Akzeptoren durch die erhhten Temperaturen whrend des Mess-
vorgangs verfolgen zu knnen.
Mikroelektrische Untersuchungen an undotierten Zinkoxidproben ergaben Auf-
schluss ber die Kornstuktur der Proben. Die Annahme einer reduzierten La-
dungstrgerkonzentration in den Korngrenzen deckt sich mit den experimen-
tellen Ergebnissen. SCM Messungen an phosphordotierten, homoepitaktisch ge-
zchteten Proben konnten eine elektrische Aktivierung des Phosphorakzeptors
durch thermische Nachbehandlung nachweisen. Nach einem Ausheizschritt konn-
6. Zusammenfassung und Ausblick 95
ten p - leitende Gebiete auf einer Probe festgestellt werden, die auf dieser vorher
nicht vorhanden waren. Die sicherlich spektakulrsten Ergebnisse lieferten al-
lerdings die Messungen an mit Gruppe V Elementen implantierten PMG ZnO
Einkristallen. Auf einem stickstoffimlantierten Einkristall konnte eine p - leitende
Schicht nachgewiesen werden. Der Vergleich mit Strom - Spannungskennlinien
dieser Probe besttigt die erfolgreiche Herstellung einer p - n Diode im ZnO. Dies
sollte einen wesentlichen Schritt auf dem Weg zur Herstellung optoelektronischer
Bauelemente darstellen. Weitere implantierte Einkristalle zeigen bei der Untersu-
chung mit SCM ebenfalls ein Signal, das als p - leitende Deckschicht interpretiert
werden kann. Dabei tritt eine starke Abhngigkeit von der Ausheiztemperatur
auf. Fr diese Proben werden dringend weitere elektrische Untersuchungen vor-
geschlagen, um ein entsprechendes Verhalten zu verifizieren. Zum einen sollten
die bereits im Rahmen dieser Arbeit angedachten SSPM Messungen durchge-
fhrt, zum anderen mikroelektrische Messungen an Querschnitten dieser Proben
ausgefhrt werden. Weiterhin werden integral elektrische Messungen an diesen
Proben vorgeschlagen. Auerdem wird die Wiederholung der Stickstoffimplan-
tation empfohlen, um diese auf Reproduzierbarkeit zu testen und die Herstellung
weiterer p - n Dioden zu optimieren.
ANHANG
A. MESSSTELLENZUORDNUNG
In der folgenden Tabelle (Tab. A.1) sind die Messstellen den entsprechenden
Kontaktbelegungen zugeordnet. Dabei luft die Nummerierung der Kontakte im
Uhrzeigersinn.
A. Messstellenzuordnung 98
Fig. B.2: Skizze des Hochtemperaturkryostaten, wie dieser in den Magneten geklappt
wird.
B. Konstruktionsskizzen 102
Abschirmlnge . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 14
i besetzungszahlunabhngige Einstreurate . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 18
o besetzungszahlunabhngige Ausstreurate . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 18
M(~k, k~ ) bergangsmatrixelement . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 14
me Effektive Elektronenmasse . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 6
mh Effektive Lochmasse . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 6
Driftmobilitt . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 12
H Hall - Mobilitt . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 24
N Besetzungszahl . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .16
NA Konzentration der Akzeptoren . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 10
NA Konzentration der ionisierten Akzeptoren . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 10
NC effektive Zustandsdichte im Leitungsband . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 7
ND Konzentration der Donatoren . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .9
ND+ Konzentration der ionisierten Donatoren . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 9
NI Konzentration der ionisierten Stoerstellen . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 14
NV effektive Zustandsdichte im Valenzband . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 8
Nt Konzentration des Defektes . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 9
N0 Konzentration unbesetzer Defektzustnde . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 9
N1 Konzentration besetzter Defektzustnde . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 9
n Dichte freier Elektronen . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 7
ni Dichte intrinsischer freier Ladungstrger . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 8
~
Differentialoperator, partielle Ableitung nach den Koordinaten . . 11
~k Differentialoperator, partielle Ableitung nach den Komponenten des
Wellenvektors . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 11
el Streurate durch elastische Streuung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 11
Phononenfrequenz . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 15
c Zyklotronfrequenz . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 21
P elektromechanischer Kopplungskoeffizient . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 17
Pe elektrische Polarisation . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 16
p Dichte freier Loecher . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 8
s Spannungsabfall im Halbleiter . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 36
Q Ladung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 36
q Phononenwellenvektor . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 15
R Widerstand . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 25
RH Hall - Konstante . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 23
r Exponent der Energieabhngigkeit . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 12
rH Hall - Faktor . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 24
Resisitivitt . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 24
C Zustandsdichte im Leitungsband . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 6
V Zustandsdichte im Valenzband . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 6
Si Einstreurate . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 12
Liste der wichtigen Symbole 110
So Ausstreurate . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 12
s differentielle Streurate vom Zustand ~k in den Zustand k~ . . . . . . . . . 11
s differentielle Streurate vom Zustand k~ in den Zustand ~k . . . . . . . . . 11
skalare Leitfhigkeit . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 24
i j Komponenten des Leitfhigkeitstensors . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 22
T absolute Temperatur . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 7
t Zeit . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 11
Debyetemperatur . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 18
Streuzeit durch elastische Streuung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 11
0 Streuzeit, energieunabhngiger Anteil . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 12
hi gemittelte Streuzeit . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 12
U elektrisches Potential . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 14
UH Hall - Spannung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 23
u Schallgeschwindigkeit . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .15
V Kristallvolumen . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 14
~
v Geschwindigkeit . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 11
~
vz Geschwindigkeit in Feldrichtung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 11
LITERATURVERZEICHNIS
Selbstndigkeitserklrung
Die vorliegende Diplomarbeit habe ich selbstndig und nur unter Verwendung
der angegebenen Hilfsmittel verfasst.
Einverstndniserklrung
Hiermit erklre ich mich einverstanden, dass meine Diplomarbeit nach positiver
Begutachtung zur Nutzung in der Zweigstelle Physik der Universittsbibliothek
Leipzig zur Verfgung steht.
Danksagung
Ich danke meinen Betreuern Prof. M. Grundmann und H. v. Wenckstern fr die
Untersttzung whrend meiner gesamten Arbeit. Ich danke Dr. H. Schmidt fr
die Einfhrung am Rasterkraftmikroskop, die umfangreiche Messzeit und die
zahlreichen Diskussionen. Ich danke G. Biene fr das Aufbringen der Kontakte
zu jeder Tageszeit. Ich danke H. Hochmuth, J. Lenzner und R. Riedel fr die
Hilfe bei technischen Problemen. Ich danke allen Mitarbeitern der Werkstatt der
physikalischen Fakultt fr Konstruktion und Montage des Hochtemperatur-
messkopfes, insbesondere P. Lorenz fr die Umsetzung physikalischer Ideen in
Konstruktionszeichnungen. Ich danke A. Rahm fr die Rntgenmessungen und
H. v. Wenckstern fr die Messung der Strom - Spannungs - Kennlinien. Ich danke
G. Zimmermann fr die Hilfe mit dem LATEXund dem Rasterkraftmikroskop, so-
wie die in dieser Arbeit verwendete Abbildung. Ich danke allen Mitgliedern der
Gruppe Halbleiterphysik fr das angenehme Arbeitsklima. Insbesondere mch-
te ich noch einmal H. v. Wenckstern danken, fr das stets offene Ohr bezglich
aller Probleme, zahlreiche Ratschlge und motivierende Worte, vor allem aber
das freundschaftliche Arbeitsgefhl. Ich danke meinen Eltern fr all ihre Unter-
sttzung und ihre Geduld. Ich danke Franzi fr ihre Liebe und das aufgebrachte
Verstndnis.