Revisin bibliogrfica

en la metodologa del proyecto primero se hizo la revisin bibliogrfica, esta fue

extraida de las bases de datos de la universidad undustrial de Santander.
Obtencin de las muestras tial4v modificadas
Para la obtencin de las muestras modificadas de Tialv, se realiz inicialmente la
preparacin superfical de 26 muestras de 14 mm de dimetro y 4 mm de espesor
como se muestra en la figura.luego se realizo el proceso de grabado a 24
muestras de las 26 muestras, dejando 2 como muestras blanco.
En la figura se observa las dimesiones de los diseos patronados , donde las
variables fueron el ancho de las ranuras y la distacia de separacion. Los anchos
de ranuras fuieron 100 y 50 um, las distancias de separacion de 1000 , 750 , 500 y
250 um para cada uno. El grabado se utlizo un equipo comercial laserpro y la
solucion cermark la cual era necesaria para el grabado de detalles ultrafinos.
Preparacin sbf
la preparacin del sbf se realizo siguiendo el procedimiento estndar estabelcido
por kokubo y colegas . este fue utilizado como elctrolito ya que posse
concentracines de iones similares a la del plasma sanguneo humano y es de
fcil preparacin.
Posteriormete se realizo la caracterizacin electroqumica de las muestras ,
mediante micrografa electrnica de barrido , espectroscopia de energa dispersiva
y medicin de angulo de contacto.
Por ultimo se realizo la caracterizacin electroquinmica por las tcnicas de
resistencia a la polarizacin lineal , espectroscopia de impedancia electroqumica y
curvas de polarizacin potenciodinamicas.
RPL
Los resultados de la caracterizacin electroqumica de la tcnica rpl, muestran que
los que la muestras patronadas tienen valores se resisetencia menores con
respecto al sustrato metalico blanco.esto se puede asociar a la reactividad de las
superficies texturuzadas, que al entrar en contacto con sbf , favorece el deterioro
del material,adems se observa que los dselos d1.d4 tienen valores de
resistencia a la polarizacin menores que los diseos d5 d8 cuyo ancho de ranura
es de 50 um.esto se puede relacionar a que estos poseen caractersticas
topogrficas mas cercanas a la reportada en estudion anteriores, en donde se
determino que el rango de ancho de las ranuras para aplicaciones biomedias esta
entre 20 -30 um.
eis
En la figura se muestra diagrama de bode del espectro de impedancia para los
diseos con acho de lnea de 100 y 50 um.
Se observa en el rango de bajas frecuencias , que las muestras patronadas
presentan menores valores de impedancias, es decir menores resistencia , con
respecto a la muestra blc,raticando lo mencionado anteriormente en las prueba
rpl.
En el la regin de medias frecuencias el cambio de pendiente se asocia a la
formacin de la capa de oxido de sobre la supercie de la aleacin y el regin de
altas frecuencias se exhibe una meseta que representa la resisecia de la solucion
electroltica.la varacion de la esta resistencia se debe al cambio en la composicin
del Sbf al interactuar con material redepositado en el borde y dentro de la ranuras.