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These studies are based on the combination of ion implantation and nuclear analysis techniques. They are performed
on metals, semiconductors and ceramic materials in collaboration with laboratories involved in the elaboration of
these materials. The different studies are the following: 1) surface treatment of aluminium using ion beam
techniques; 2) hydrogen release in new plasma facing materials in Tokamak devices; 3) development of ion beam
analysis methods to determine elementary depth profiles in thin films used in micro electronics; 4) Mssbauer
studies of oxides prepared by laser ablation and ion implantation.
de l'hydrogne dans les revtements a-C: H facilitant Par ailleurs, des dpts de systmes ternaires Me-
ainsi le contrle du recyclage sur les parois des rac- Si-N (Me = Re, W, Ti, Ta) obtenus par CVD basse
teurs fusion. Ce rsultat, obtenu partir de simula- pression ont t raliss dans le but d'obtenir une bar-
tions par implantation ionique, a t confirm par l'ex- rire de diffusion pour le mtal d'interconnexion (cuivre)
position d'chantillons au plasma du tokamak et peut dans les circuits intgrs. La dtermination de la stoe-
s'expliquer par la formation de liaisons LiH et par un chiomtrie des systmes Me-Si-N a permis de situer ces
changement de structure du carbone. composs ternaires selon leur stabilit dans leurs dia-
- les dpts de SiC ont d'excellentes proprits de grammes de phases respectifs. L'volution de la teneur
rtention de l'hydrogne mais la prsence du silicium en azote des composs W-Si-N a permis l'tude de leur
(par autopulvrisation) dans les plasmas de bord des stabilit en fonction des conditions de recuit.
tokamaks pourrait tre nfaste; l'implantation de li-
thium a peu d'effet sur les proprits de rtention de ce 4- Etudes Mossbauer de cramiques
matriau.
supraconductrices et de provskites
- la dsorption thermique dans les revtements a-C:
H et a-SiC: H, a mis en vidence une dsorption de magntorsistance colossale
l'hydrogne selon deux cintiques qui dpendent de la Des films minces epitaxies de YBa2Cu37_^ ont t d-
concentration de ce dernier. poss par ablation laser sur un substrat monocristallin
Ces travaux ont fait l'objet de publications et sont de LaAlC>3 puis trs faiblement dops en 57Fe par im-
dtaills dans les mmoires des thses de G. Barbier et plantation ionique. Un traitement thermique adquat a
F. Schiettekatte qui se sont droules dans le cadre de permis de gurir les dfauts et de placer 70% des atomes
cette coopration (1994-1997). de fer dans les chanes de cuivre. Dans le cas d'un codo-
page avec Fe et Zn, il a t montr que la temprature
3- Caractrisation de dpts semi-con- critique disparat beaucoup plus rapidement qu'avec un
ducteurs base de silicium dopage monolment. Nous avons conclu que la princi-
pale cause de la suppression de Te est une diminution
Les dpts de films minces obtenus principalement de la densit des trous mobiles dans les plans Cu2 par
partir d'une phase gazeuse sont utiliss dans de nom- les atomes de fer.
breux domaines : semi-conducteurs, cramiques, rev- Le rle important des complexes Mn4+-O-Mn3+
tements divers. Dans le secteur de la micro-lectronique pour expliquer la magntorsistance colossale de cer-
o le silicium demeure le matriau de base, il importe taines provskites est maintenant bien tabli. Cepen-
de raliser des dispositifs constitus d'htrostructures dant, le double change lectronique ne suffit pas pour
sous forme de films minces et d'amliorer les intercon- interprter de faon satisfaisante cette proprit. Puis-
nexions des circuits intgrs par le biais de dpts de qu'il semble que la mobilit des porteurs de charge soit
couches minces protectrices. lie des effets de polarisation locale du rseau ma-
Ce travail a ncessit le dveloppement de mthodes gntique, nous avons pens qu'il serait intressant d'in-
d'analyse par faisceaux d'ions (Spectroscopie par diffu- troduire des perturbations dans les sites Mn du rseau
sion lastique non coulombienne, Spectroscopie par ra- magntique. Effectivement, les rsultats que nous avons
ction nuclaire) permettant de caractriser ces dpts et obtenus concernant les proprits lectriques et les inte-
d'optimiser leur laboration. Nous nous sommes intres- ractions hyperflnes dans Lao.75 CA0.25 Mni_ x Fe^ O3
ss la dtermination des sections efficaces 12C(a, a), dop en 57Fe avec 0 < x < 0.05 plaident pour faire
14
N(a,a), 16 O(a,a) et 28 Si(a,a) et ainsi qu' celle de jouer un rle aux polarons magntiques et suggrent
la raction 14N(a,p) dans une gamme d'nergie de 2 une transition de type localisation - dlocalisation pour
MeV 7 MeV. L'exploitation de la raction 14N(a,p) a une concentration critique du dopant.
permis le dosage slectif de l'azote grce la mise au Nous avons mis en vidence une corrlation trs
point, d'un systme d'identification entre les particules nette entre l'volution en fonction de la temprature
alpha diffuses et les protons mis. de la magntorsistance gante de composs dops en
Grce a ces rsultats, nous avons pu caractriser fer avec x = 0.0425 et x = 0.045 et les paramtres hy-
les dpts de /? SiC obtenus par CVD ractive, en vue perfins reflets de deux environnements diffrents pour
d'une croissance pitaxiale de ,3-SiC et tudier l'inter- les noyaux de fer ainsi qu'avec l'apparition d'un magn-
face entre le carbure de silicium et le substrat de sili- tisme au-dessous d'une certaine temprature. Ces rsul-
cium (100). La confrontation des donnes obtenues par tats indiquent l'existence de clusters de petites tailles
analyse l'aide de faisceaux d'ions, spectroscopie infra- riches soit en Mn4+ soit en Mn 3+ .
rouge et microscopie lectronique a permis une modli-
sation de la croissance de cette couche tampon.