INDICE

1. OBJETIVOS.Pg.2

2. FUNDAMENTO TEORICOPg.3-4

3. DATOS Y CALCULOS..Pg.5-7

4. DISCUSION DE RESULTADOS.Pg.7

5. CONCLUSIONES..Pg.8

6. APLICACIONES.Pg.8

7. BIBLIOGRAFIA..Pg.8
 ELECTROLISIS DE METALES

1. OBJETIVOS:
-Estudiar la electrodeposicin del cobre, zinc y nquel a partir de soluciones que contienen los cationes
de estos metales.

-Cuantificar la masa de cobre, zinc y nquel electro depositado.

2. FUNDAMENTO TEORICO:
2.1. PILA ELECTROQUIMICA

Una pila electroqumica que se halla compensada por un potencimetro es un caso de inters de
estudio de un sistema reversible.

Cuando la pila electroqumica es utilizada para suministrar efectivamente energa elctrica, no

funciona reversiblemente. Al existir degradacin de la energa elctrica entre cada operacin de carga
y descarga, esta se pierde en forma de calor.

Una de sus aplicaciones al anlisis qumico es la electrlisis de una solucin cida de sulfato de cobre
entre electrodos de platino. Una vez calculada la fuerza electromotriz, es preciso aplicar un potencial
superior a este valor si se desea depositar el cobre a una velocidad apreciable. Para ello existen tres
razones:

2.2. LA RESISTENCIA DE LA SOLUCIN

Para hacer circular una corriente elctrica por un conductor es necesario vencer la resistencia elctrica
de dicho conductor. La cada de potencial en el mismo es directamente proporcional a la intensidad
de corriente, de acuerdo con la ley de Ohm: E=IR.

Donde E es la fuerza electromotriz, o la cada de potencial a lo largo del conductor, I es la intensidad

de la corriente elctrica.

2.3. POLARIZACIN POR CONCENTRACIN EN EL ELECTRODO DE COBRE

En el electrodo negativo los iones cprico se depositan como cobre metlico haciendo que la solucin
que est en contacto con el electrodo pase a contener un nmero de iones cprico por unidad de
volumen menor que el resto de la solucin, a este efecto se le designa con el trmino de polarizacin
por concentracin debido a que la concentracin de iones cobre que rodea al electrodo es menor que
en la matriz de la solucin.

La polarizacin por concentracin es tanto mayor cuanto mayor es la intensidad de la corriente. Se

puede disminuir, pero no eliminar, mediante agitacin eficiente.

2.4. TRMINOS NODO Y CTODO

Los nombres electrodo, nodo y ctodo fueron introducidos en los inicios del siglo XIX por Michael
Faraday para describir los fenmenos de la electrlisis.

El ctodo es el electrodo por el cual los electrones del circuito exterior penetran en la clula. El ctodo
suministra electrones a la solucin; por lo tanto, en el ctodo tiene lugar una reaccin de reduccin.

El nodo es el electrodo por el cual salen de la clula los electrones. En la solucin contenida en la
clula, por lo tanto la oxidacin tiene lugar en el nodo.

2.5. LEYES DE LA ELECTRLISIS ESTABLECIDAS POR FARADAY

2.5.1. Cualitativamente la experiencia demuestra que:

-Una energa elctrica, por pequea que sea, basta para realizar la descomposicin electroltica, lo
que prueba que la ionizacin es anterior al paso de la corriente.

-Por otra parte, los productos de la descomposicin aparecen en seguida luego del paso de la corriente
y nicamente sobre los electrodos, prueba de que los iones preexistentes se transforman all en
tomos.
2.5.2. Cuantitativamente la igualdad de las cargas de todos los iones convertidos en tomos entraa
la proporcionalidad de la masa de metal depositada, a la cantidad de electricidad que ha pasado a
travs del electrolito.

De otra parte la masa del metal depositada es proporcional a la masa del tomo. Por ltimo un ion
metlico n-Valente recibe n electrones para proporcionar un solo tomo. Por tanto, para la misma
cantidad de electricidad la masa de metal depositada es n veces menor cuando la valencia de este es
n.

LEY DE FARADAY. LA MASA DE METAL DEPOSITADA ES PROPORCIONAL:

A la cantidad de electricidad Q que ha atravesado el bao,

A la razn = del metal depositado.

Ley que se traduce por la frmula:

= /
Donde:

W = peso del metal (g) electro depositado en una solucin acuosa en un tiempo t (segundos),

I = flujo de corriente (A),

M = masa atmica del metal (g/mol),

n = nmero de electrones/tomo producido o consumido en el proceso y

F es la constante de Faraday, 96485 C/mol o 96485 As/mol.

De manera experimental se ha determinado que 96485 coulomb liberan un equivalente qumico de

cada metal, as la frmula es:

=
96485

Donde i = densidad de corriente, A/cm2, y A = rea en cm2.

3. DATOS Y RESULTADOS:
3.1 DATOS:
Datos obtenidos de las masas de los electrodos luego de finalizado el proceso.

MASA INICIAL del electrodo (g)

20.00
Tiempo(min) MASA FINAL del electrodo (g)
5,00 20.09
10,00 20.22
15,00 20.42

3.2. CALCULOS:
-Explicacin de lo que ocurre en el nodo y en el ctodo.

Utilizamos una solucin electroltica compuesta por NiSO4, cido Brico y aditivos.

El sulfato de nquel es el principal proveedor de los iones Ni+2 que se depositan en el ctodo (electrodo
negativo). El cido brico acta como una solucin tampn para mantener el pH dentro del rango
establecido.

Por lo tanto, las reacciones a seguir serian:

-Disociacin del sulfato de nquel

NiSO4 Ni2+(ac) + SO4-(ac)

-La reaccin ocurrida en el ctodo (reduccin):

Ni2+(ac) + 2e- Ni(s)

-En el nodo (electrodo positivo) ocurre el proceso de oxidacin

:
Ni(s) Ni2+(ac) + 2e-

-Determinacin de los pesos tericos y experimentales para cada tiempo empleado en la

electrodeposicin.

Para determinar la masa experimental, restamos a la masa final, la masa inicial del electrodo. Adems,
tomamos dos veces el rea debido a que se deposita en ambas caras simultneamente.

La masa terica se obtiene de la ecuacin.

2
=
96500
Masa inicial del electrodo = 20g

Con:

W : masa (g)

i: 0.5 A/dm2
A= 0,315dm2

t: tiempo (s)

M=58,7g/mol

n=2

Entonces para el tiempo de 5min tendramos:

0.520.31530058.7
W=
296500

W terico = 0.03g

Completando el cuadro:

i Tiempo Tiempo Masa final Masa Masa terica (g)=

(min) (s) del electrodo experimental 2
9650
(g) (g)
1 5 300 20.09 0.09 0,03
2 10 600 20.22 0.13 0,06
3 15 900 20.42 0.20 0,09
Tabla 2. Masas experimentales y tericas electrodepositada

-Determinacin de los rendimientos.

El rendimiento en cada medicin de tiempo se halla:

| () ()|
= 100%
()

Rendimiento
Masa experimental (g) Masa terica (g)
(%)
0.09 0,03 200
0.13 0,06 117
0.20 0,09 122
Tabla 3. Rendimiento para cada periodo de tiempo

-Grfica de la masa electrodepositada vs. Tiempo (terico y experimental)

Con los datos hallados procedemos a realizar los grficos y ver la tendencia que presentan.
 0.25

Masa terica electrodepositada (g)

0.2 y = 0.011x + 0.03

0.15

0.1

0.05

0
0 2 4 6 8 10 12 14 16
Tiempo (min)

Grfico 1. Masa experimental electrodepositada en gramos vs. Tiempo de electrodeposicin en

minutos

0.1
Masa terica electrodepositada (g)

0.09
0.08 y = 0.006x + 9E-17
0.07
0.06
0.05
0.04
0.03
0.02
0.01
0
0 2 4 6 8 10 12 14 16
Tiempo (min)

Grfico 2. Masa terica electrodepositada en gramos vs. Tiempo de electrodeposicin en minutos

4. DISCUSION DE RESULTADOS:
-El rendimiento porcentual supera el 100% (2 tiempos) y 200%(1 tiempo) debido a que la masa
experimental obtenida supera excesivamente el valor a la terica. Esto se pudo dar debido a las
impurezas de la solucin electroltica, un excesivo valor del corriente aplicado o el mal manejo por
parte del estudiante.

5. CONCLUSIONES:
-Los nodos se encontraban en ambos lados de la celda, evitando as la polarizacin y colocando el
ctodo en el centro y as tener una mejor distribucin de los iones y por lo tanto un mejor rendimiento
de masa depositada.
-La electrodeposicin se forma cada vez ms heterognea conforme va transcurriendo el tiempo y se
van depositando de manera poco uniforme alrededor de los filos de la placa utilizada.

-En ambas graficas de masa terica y experimental depositada vs tiempo se observa que la tendencia
es lnea una recta con pendiente positiva que indica que a mayor tiempo mayor masa depositada, con
esto se cumple la ley de Faraday.

6. APLICACIONES:
LA GALVANOPLASTIA
La galvanoplastia se conoce como el proceso de traslado de iones metlicos, los cuales van de un
nodo a un ctodo en un estado lquido (formado por sales metlicas). Dicho proceso es el resultado
de la aplicacin de corriente elctrica por medio de un reactor o dispositivo que forma un circuito
elctrico.
Tambin se le conoce como la electrodeposicin de un metal en una superficie, que genera una mejora
en sus caractersticas obteniendo dureza y duracin.
Gracias a la galvanoplstica se pueden producir por medios electroqumicos objetos de finos detalles
o en diversos metales. Uno de los procesos que incluye la galvanoplastia es el proceso de plateado.
El proceso de plateado consiste en una capa de metal, la cual es depositada sobre una superficie, en
este proceso se incluye un mtodo electroqumico.
El mtodo electroqumico del proceso de plateado se refiere a usar la pieza de inters como la
superficie del ctodo, la cual se sumerge en una disolucin de plata. Dicha disolucin logra que pase
la corriente a travs del sistema. El nodo, que es el otro electrodo para el sistema, por lo general es
de platino, por ser inerte y este se adquiere a la pieza de inters, logrando el proceso de plateado.

7. BIBLIOGRAFIA
-Fouill, A. (1979). Compendio de electrotecnia. (Marcombo, Ed.) Barcelona: Boxareu editores.

-Walton, H. F., & Reyes, J. (2005). Anlisis qumico e instrumental moderno (Segunda ed.). Barcelona,
Espaa: Revert S.A.
 NIQUEL BRILLANTE

BAOS DE NIQUEL BRILLANTE

La combinacin adecuada de aditivos permite obtener depsitos brillantes para un amplio margen
de densidad de corriente. Los depsitos as generados, suelen estar perfectamente nivelados, con
ductilidad adecuada y bajo estrs en la red cristalina. Adems estos aditivos permiten trabajar a
temperaturas en las que el bao es menos sensible a la contaminacin metlica que otras
disoluciones comercializadas previamente.

Es de sobra conocido que los aditivos aadidos en pequeas cantidades, en ocasiones incluso a
nivel de traza, son capaces de modificar la estructura, morfologa y propiedades de los depsitos
metlicos. Para los baos tipo Watts, se pueden distinguir dos tipos de aditivos, qumicamente
hablando. Por una parte, tenemos sulfonas y sulfonatos aromticos, mientras que por otra parte,
aparecen compuestos que presentan grupos insaturados, como C=O, N-C=S, -C=N, etc. A pesar de
que no se conoce muy bien su modo de actuacin, se observa empricamente que modifican la
forma en la que el nquel se deposita, modificndose tambin el aspecto final que adquiere el
depsito.

Considerando el papel que pueden desempear el en bao de niquelado, los aditivos pueden
dividirse en tres categoras: transportadores, abrillantadores y abrillantadores auxiliares.

cido bencenosulfnico p-toluenesufonamida Sacarina sdica Alilsulfonato sdico

Estos transportadores son la principal fuente de azufre en el nquel depositado. Su principal funcin
es refinar el tamao del grano y producir depsitos con mayor lustre comparado con los obtenidos
en su ausencia. Cuando se emplean ellos solos no generan baos con brillo de espejo. Sus
concentraciones suelen estar comprendidas entre 1 y 25 g/L. No se eliminan rpidamente por
electrolisis y su consumo se debe principalmente a prdidas por arrastre y por filtracin a travs
de carbn activo.

Abrillantadores: En combinacin con los transportadores y los abrillantadores auxiliares, generan

depsitos brillantes, dctiles y nivelados, en un amplio rango de densidades de corriente.
 Tiourea o-sulfobenzaldehyde Coumarina Alilsulfonato sdico

El compuesto ms empleado ha sido la coumarina, debido a las caractersticas que aporta al bao
de niquelar. Consigue depsitos con mayor estrs interno y promueve fragilidad en los depsitos.
Sus concentraciones estn comprendidas entre 0.005 y 0.2 g/L. Su utilizacin est siendo
desplazada en los ltimos aos26 debido a que se ha identificado como un agente potencialmente
cancergeno.

Abrillantadores auxiliares. Su misin es aumentar el lustre de los depsitos, colaborando

activamente con los transportadores y los abrillantadores. Su concentracin se encuentra
comprendida entre 0.1 y 4 g/L. Algunos ejemplos son el alilsulfonato sdico, Zn, Co, Cd, etc. aunque
el empleo de cationes metlicos est en desuso. Por ejemplo el Cd2+ no afecta en la eficiencia de la
corriente, pero s que parece que afecta tanto a la morfologa de la superficie del depsito como a
su calidad.27

Los baos de nquel brillantes, presentan una mayor tendencia a la corrosin que los similares
semibrillantes, lo que puede explicarse considerando que la presencia de grupos sulfuro en la
estructura, favorece la degradacin del recubrimiento. Esta menor proteccin ante la corrosin
puede explicarse en base a la incorporacin de un anin sulfuro en la red del nquel, provocando
una mayor tensin dado que su tamao es mayor que el del metal base. La utilizacin de depsitos
semibrillantes con ausencia de sulfuro en su estructura solucionara el problema. Sin embargo, el
acabado mate de estos depsitos no es el deseado en numerosas aplicaciones industriales y se
requerira un posterior pulido de la superficie, provocando un aumento en el coste de produccin
en los casos es que este pulido pudiera llevarse a cabo o no obtener un acabado de espejo en los
casos en los que no pudiera pulirse su superficie. Por ello, se han desarrollado mtodos que
permiten obtener depsitos muy resistentes a la corrosin y con un acabado brillante, conocidos
como depsitos de nquel en multicapa y depsitos microdiscontinuos de cromo.
BAOS DE NIQUEL SEMIBRILLANTE
La mayora de los depsitos de nquel requieren un largo periodo de deposicin para obtener un
resultado brillante y en ocasiones la deposicin de cromo es necesaria para conseguirla. Los depsitos
brillantes de nquel, contienen suficiente azufre para hacerlos ms activos, electroqumicamente
hablando, que el nquel sin azufre, causando un incremento en la tendencia a la corrosin. En
ambientes agresivos, esto puede conducir a un deterioro ms rpido del recubrimiento y posterior
corrosin del metal base.
En un intento por resolver este problema, DuRose desarrollo en 1945 la idea de que la deposicin
en multicapas permitira una mejora en las propiedades de resistencia a la corrosin, aumentando
significativamente el tiempo de vida del recubrimiento y por tanto de la pieza recubierta, mediante
la deposicin de una capa de nquel sin azufre anterior al depsito de una con brillo.

Estos baos de nquel semibrillantes contienen sulfato de nquel, cloruro de nquel, cido brico y
agente nivelador.

Coumarina cido meliltico

Los baos de nquel semibrillantes generan depsitos lisos, libres de azufre con estructura en
columnas, similares a los depsitos con baos watts, en contraste con los depsitos de nquel
brillantes que presentan estructuras en lminas, como consecuencia del depsito peridico de
azufre. La superficie altamente nivelada es fcilmente pulida para conseguir un acabado de espejo.
La buena ductilidad que presentan estos depsitos es importante para utilizarlos en aplicaciones
donde los recubrimientos en multicapas sufren procesos de elevado estrs.
P g i n a 12 | 12