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Concentración de portadores
Ecuación de Continuidad
Modelo de Enlace
Nos centraremos en el estudio del Silicio (Si) que cristaliza en una estructura
de diamante = cada átomo tiene cuatro átomos vecinos
5x1022átomos/cm3 a T ambiente
Cada átomo tiene 14 electrones
10 e- están ligados al núcleo y 4 tienen
Si un enlace más débil (electrones de valencia)
Cada átomo comparte sus e- de valencia con
sus 4 vecinos (enlace covalente)
Modelo de Enlace
ENLACE COVALENTE:
Los electrones juegan un papel local
Los electrones se mueven en función de T
Cada átomo puede contribuir con pocos electrones
La densidad de electrones libres (Tamb) es del orden de 106-1012/cm3
Resistividad depende de diversos factores
SEMICONDUCTORES
No es fácil forzar el paso de corriente
hueco
(h+)
q=1.6x10-19 coulomb
Descripción alternativa:
e- y h+, con una masa “eficaz”
para cada uno!
Semiconductores Puros
En un Semiconductor Intrínseco (=puro):
La conducción a T ordinaria puede tener lugar a través de dos
modos cuánticos distintos, describibles por medio de dos partículas
“clásicas”:
e de carga -q y masa eficaz me
h de carga +q y masa eficaz mh
Semiconductores Extrínsecos
Dopar = añadir átomos de impurezas para aumentar los e- o h+
Semiconductor extrínseco = semiconductor dopado
Tipo n
Átomo donador
Energía de Ionización de la impureza
(P, As, Sb) 0,03 eV (Ge) --- 0,1 eV (Si) (don.)
0,02 eV (Ge) --- 0,06 eV (Si) (acep.)
Tipo p
Banda de Conducción
Energía
Banda de Conducción electrónica (vacía)
(parcialmente llena) Ec
Eg > 8 eV (aislante)
Ec Eg
Eg -- 1 eV (semiconductor)
Ev Ev
Banda de Valencia Banda de Valencia
Estados Internos
CONDUCTOR AISLANTE o SEMICONDUCTOR
Curso 2003-04 Departamento de Electrónica y Electromagnetismo- Universidad de Sevilla Tr. 8
TEMA 2: Fundamentos de Semiconductores Electrónica
Eg Eg
Ev Ev
Banda de Valencia Banda de Valencia h+
Ge Si
Ec Li 0,01 ---
Li Ed 0,01 eV Sb 0,01 0,04
Eg 0,68 eV P 0,012 0,044
Ea 0,01 eV
B Ev As 0,013 0,049
Cu 0,26 0,52
Cu 0,32 0,37
Cu 0,04 0,24
Ed Au varios varios
Ec B 0,01 0,045
0,26 eV
Cu Al 0,01 0,057
Eg 0,68 eV
Cu 0,32 eV Ti 0,01 ---
0,04 eV
Ev Ga 0,011 0,065
Ea
In 0,011 0,16
Estadística de Portadores
Energía de Fermi
f(E) 1
f ( E ) = --------------------------------
( E – Ef )
T1 = 0 K 1 Ef --------------------
kT
1+e
T2 > T1
T3 > T 2
0,5
E
Concentraciones de Equilibrio
Densidades volumétricas:
ni = densidad de portadores en el material puro
no = densidad de electrones en un semiconductor extrínseco en equilibrio
po = densidad de huecos en un semiconductor extrínseco en equilibrio
Nd = densidad de impurezas donadoras
Nd += densidad de impurezas donadoras ionizadas
Na = densidad de impurezas aceptoras
-
Na = densidad de impurezas aceptoras ionizadas
+ –
Ecuación de Neutralidad de Carga po – no + Nd –Na = 0
Concentraciones de Portadores
Concentración de electrones Concentración de huecos
n 0 = ∫∞ g C ( E )f ( E ) dE
E
p 0 = ∫ V g V ( E ) ( 1 – f ( E ) ) dE
E C –∞
g(E) = densidad de estados de energía
Resultado: E V + 3kT ≤ E f ≤ E C – 3kT Semiconductor no degenerado
–( Ec – Ef ) 3---
--------------------------
kT 2πm e kT 2
no = Nc e con N c ≡ 2 --------------------
h2
–( Ef – Ev ) 3---
--------------------------
kT 2πm h kT 2
po = Nv e con N v ≡ 2 --------------------
h2
–( Ec – Ev ) –E
---------------------------
g
----------
kT kT
Ley de acción de masas: pono = NvN e = NvN e
c c
Semiconductores Intrínsecos
1 kT N c 1--- 1
E i = --- ( E c + E v ) – ------ ln ------ ≈ ( E c + E v ) = E V + --- ( E c – E v )
2 2 N 2 2
v
Valores Típicos
Densidad atómica:
5 x 1022 at/cm3 (Ge, Si)
Densidades típicas de impurezas (Nd ó Na):
1013 at/cm3 ------1016 at/cm3
Densidad de estados en las bandas (Si, 300ºK):
Nc = 2,8 x 1019/cm3
Nv = 1,04 x 1019/cm3
Densidad intrínseca de portadores (ni):
Aproximación: Nd + = Nd Na = 0
Concentración de Portadores Nivel de Fermi –( Ec – Ef )
--------------------------
no po = ni2 kT
no = Nc e
""
po – no + Nd = 0 no
E f = E c + kT ln ------
2 Nc
Nc
Nd 1 2 ni no ≅ N E f ≅ E c – kT ln -------
2
n o = ------- + --- N d + 4n i , p o = ------- d Nd
2 2 Nd
Nd
E f ≅ E i + kT ln -------
para Nd >> ni ni
no ≅ N Ec
d
2 Ef
ni n0 >> p0 Ei
p o = -------
Nd
tipo n Ev
Aproximación: Na -= Na Nd = 0
Concentración de Portadores Nivel de Fermi ( Ev – Ef )
----------------------
no po = ni2 kT
po = NV e
""
po – no – Na = 0 Na
E f ≅ E i – kT ln -------
2 ni
Na 1 2 ni
2
p o = ------- + --- N a + 4n i , n o = ------- Nv
2 2 Na
E f ≅ E v + kT ln -------
Na
para Na >> ni
po ≅ N Ec
a
2
ni p0 >> n0 Ei
n o = ------- Ef
Na
tipo p Ev
Dependencia con T
Semiconductor extrínseco
T1 T2
n0
-------
Nd
Región Intrínseca
150ºK 450ºK T
T moderadas T altas
T bajas impurezas
impurezas completamente comportamiento
no ionizadas ionizadas intrínsecos (no=po=ni)
concentraciones ctes
Procesos de Recombinación-Generación
Definición general: generación = proceso por el cual se crean portadores (e- y h+)
recombinación = proceso por el cual se destruyen portadores
Ambos procesos se caracterizan por unas cantidades que se denominan velocidades
G: velocidad de generación R: velocidad de recombinación
(número de portadores generados (número de portadores eliminados
por unidad de tiempo y unidad de volumen) por unidad de tiempo y unidad de volumen)
En equilibrio: R=G
n = no g(T) = r(T)nopo
p = po
En no equilibrio: R=G
n = no + n’ U = r(T) [n.p - nopo] = r(T) [n’p’+ n’po+ p’no]
p = po+ p’
Caso particular de interés: Bajo nivel de inyección n’ y p’ mucho menor que no + po
ARRASTRE DIFUSIÓN
Movimiento de portadores Movimiento de portadores
en respuesta a un campo eléctrico debido a un gradiente de concentración
ξ ξ
huecos electrones
a Movimiento de portadores tendiendo a ir
Movimiento aleatorio con componente neta desde regiones de alta concentración hacia
de velocidad a en dirección del campo ξ regiones de baja concentración
El ξ acelera a los portadores y sus colisiones Movimiento aleatorio con componente neta
con impurezas o con la estructura cristalina de velocidad a en dirección del campo ξ
– q ξ t col = m e v an qt col
para electrones Movilidades: µ n = -------------
me
para huecos q ξ t col = m h v ap
qt col
µ p = -------------
Velocidades de arrastre: v mh
an = – µ n ξ
v ap = µ p ξ La µ es una medida de la facilidad
de movimiento de los portadores
en el semiconductor
Valores de movilidad:
Un incremento de colisiones retarda
Silicio ;T=300K; dopado<1016cm-3 el movimiento y reduce la movilidad
µn=1417cm2/vXs µp=471cm2/vxs
Corrientes de Arrastre
ξ
Densidad de corriente = carga por unidad de tiempo
y de superficie que atraviesa un plano arbitrario
I A perpendicular a la dirección de flujo de portadores
Conductividad: σ = q ( pµ p + nµ n ) 1
Resistividad: ρ = ---
σ
Como: ξ = – ∇V 1 d 1 d 1 d
ξ = --- (E c) = --- (E v) = --- (E i)
ξ = – d (V) q dx q dx q dx
dx
campo relacionado con la pendiente de Ec, Ev o Ei
Curso 2003-04 Departamento de Electrónica y Electromagnetismo- Universidad de Sevilla Tr. 28
TEMA 2: Fundamentos de Semiconductores Electrónica
Corrientes de Difusión
El movimiento de portadores de carga debido a la difusión da lugar a corrientes eléctricas
h e
jpdif jndif
Corrientes de Difusión:
j pdif = – qD p ∇p
Dp y Dn son las constantes de difusión ( cm2/s)
j ndif = qD n ∇n
Ecuación de Continuidad
Dinámica de los portadores: efecto combinado de todos los procesos que originan
cambio de portadores con el tiempo
Arrastre
Generación/Recombinación de pares e-h
Difusión
∂n ∂n ∂n ∂n ∂n
= + + + para los e-
∂t ∂t ∂t ∂t ∂t
arrastre difusion R–G otros
∂ 1 ∂j p
Ec. de continuidad para huecos: p = – --- + GL – U
∂t q∂x