Máscara fotográfica

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Utilización
Véase también
Referencias
Enlaces externos

Utilización
Las fotomáscaras se utilizan comúnmente fotolitografía.1 En la
fabricación de circuitos integrados, un conjunto de fotomáscaras,
Una fotomáscara
definiendo cada una de ellas, una capa patrón, se introduce en un paso a
paso de fotolitografía (o escáner), y se selecciona individualmente para la
exposición.2 En las técnicas de modelado dobles, una fotomáscara
3
correspondería a un subconjunto del patrón de capa.

Véase también
Insoladora
Copiadora heliográfica
Copiadora térmica
Caja luminosa
Nanolitografía
Estereolitografía
Ozalid
Ilustración esquemática de una fotomáscara

Referencias (arriba) y un circuito integrado (abajo) creado

con esta máscara.
1. Benjamin Eynon; Banqiu Wu (21 de julio de 2005).
Photomask Fabrication Technology (http://books.google.com/b
ooks?id=QCdxo8aTglYC). McGraw Hill Professional.ISBN 978-0-07-158891-1.
2. Rizvi, Syed (2005). «1.3 The Technology History of Masks» (http://books.google.com/books?id=0Smk9-VI1fcC) .
Handbook of Photomask Manufacturing T echnology. CRC Press. p. 728. ISBN 9781420028782.
3. Lithography experts back higher magnification in photomasks to ease challenges (http://www.eetimes.com/documen
t.asp?doc_id=1184715)// EETimes 2000

Enlaces externos
Photomask Technology for the EUV Era
Print your Photomask

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