Microscopios de sonda de barrido:

Los microscopios de sonda de barrido se utiliza una sonda que recorre la superficie de una
muestra, proporcionando una imagen tridimensional de la red de átomos o moléculas que la
componen. La sonda es una afilada punta de metal que puede tener un grosor de un solo átomo en
su extremo. A causa de la poca distancia entre el material y la sonda, algunos electrones se
escapan a través del hueco, generando una corriente. Cuyas magnitudes dependen de la distancia
entre la superficie y la sonda.

 Microscopio túnel de barrido hace uso del efecto túnel, para proporcionar imágenes detalladas
de sustancias conductoras de electricidad. La sonda se coloca a una distancia de pocos
angstroms de la superficie del material y se aplica un voltaje pequeño entre la superficie y la
sonda.

 Microscopio de fuerza atómica que no emplea la corriente de efecto túnel y que, por tanto, se
puede utilizar también en materiales no conductores. En ambos casos Un sensor registra el
movimiento ascendente y descendente de la sonda y entrega la información a
una computadora, que a su vez la utiliza para dibujar una imagen tridimensional de la
superficie del espécimen.

Metodos top down : “Top-down” se refiere a los métodos en los que se comienza con una
cantidad grande de material y se lo reduce para obtener objetos más pequeños. buscan crear
dispositivos más pequeños usando unos más grandes para controlar su ensamblaje y se basan
principalmente en métodos ópticos

A continuación se resumen estas técnicas y se explica cómo crean, moldean o forman

nanoestructuras y materiales.

Litografía por haz enfocado

Este tipo de litografía utiliza un haz concentrado de electrones, generado a partir de un microscopio
de barrido. El haz de electrones directamente traza un patrón sobre un material protector, dichas
capas protectoras pueden ser positivas y negativas. una vez que la capa protectora ha sido
expuesta al haz de electrones, ésta se debe lavar con un revelador químico, dejando atrás el
patrón protector. Luego, se realiza un paso de desgaste, para grabar la superficie descubierta.
Finalmente, la capa protectora remanente se remueve dejando la superficie grabada.

La velocidad y el costo de la litografía de haz de electrones limitan su uso en la industria. Los

sistemas comerciales cuestan millones de dólares y producir materiales demanda un largo tiempo

Otro método top-down es la litografía FIB, que utiliza iones para crear patrones en superficie. El ion
comúnmente elegido para trabajar es galio. Se lo prefiere porque permite minimizar los reemplazos
de la fuente de iones. Al utilizar iones galio, puede desgastar la superficie directamente, sin
necesidad de utilizar una capa de protección. Debido al tamaño de los iones, se puede lograr un
grabado de muy poca profundidad, removiendo unos pocos nanómetros de material. Un problema
que puede presentar el FIB es que los iones de galio pueden quedar incrustados en el material que
se está imprimiendo.

Existen sistemas de haz dual, el haz de electrones se puede utilizar por ejemplo para tomar
imágenes y analizar la muestra, mientas el haz de iones va eliminando las capas de átomos de la
superficie.