Beruflich Dokumente
Kultur Dokumente
Guido Soliveri,a,b Valentina Pifferi,a,b Rita Annunziata,a Luca Rimoldi,a Valentina Aina,c
a
Dipartimento di Chimica, Università degli Studi di Milano, Via Golgi 19, 20133 Milano, Italy
b
Consorzio Interuniversitario Nazionale per la Scienza e la Tecnologia dei Materiali (INSTM), Via
S1
Table S1. Structures of the studied triethoxyalkylsilanes.
triethoxy(octyl)silane Octyl(H)
1H,1H,2H,2H-
Octyl(F)
perfluorooctyltriethoxysilane
S2
free OHs
silica overtones
d
Absorbance / a.u.
HOH
4000 3800 3600 3400 3200 3000 2800 2000 1800 1600 1400
-1
Wavenumbers / cm
S3
T2 Q3
2
T1 Q Q4
T3
-30 -40 -50 -60 -70 -80 -80 -90 -100 -110 -120 -130
δ / ppm δ / ppm
Figure S2. Fitting analysis of the T and Q signals of the H_150 sample.
S4