Resultados

3.1Mecanismo de introducción de grupos polares por irradiación de plasma.

 La película LCP se trató con plasma de O2, N2 o Ar y la superficie de la

película LCP tratada se analizó mediante XPS para investigar los
enlaces químicos de la capa superficial superior.
 Para investigar en detalle los grupos funcionales introducidos, también se
realizó el ajuste de la curva de los espectros C1s.
 La Tabla 1 muestra las condiciones de irradiación de plasma, relaciones de
componentes de átomos de oxígeno o átomos de nitrógeno y átomos de
carbono (O / C y N / C), relación de los componentes de C1s y la
resistencia al desprendimiento entre la película LCP tratada y la capa
metálica.
 La Fig. 5 es el espectro de C1s de la superficie de la película LCP.


Después de la
irradiación con plasma de O2 o N2 de la superficie de la película LCP,
aumentaron las relaciones atómicas respectivas (O / C y N / C),lo que
indica que las condiciones químicas de la superficie cambiaron.
 Por otro lado, en la superficie de una película de LCP irradiada con plasma
Ar, no se encontró un gran aumento o disminución en las relaciones de
componentes atómicos. El resultado del ajuste de la curva de los
componentes de C1s,
 la Fig. 6, reveló una disminución del pico de O-C=O (289 eV) y un aumento
de los picos de C=O (287 eV) y C-O (286 eV) en la superficie del LCP
película tratada con plasma de O2 o N2.
 El mecanismo aceptado de la escisión de las cadenas moleculares por el
plasma de O2 sugiere que estos cambios de estructura química fueron
causados por la generación de grupos -OH por la escisión de los enlaces
éster en las moléculas de LCP. Se esperaría que la introducción de
estos grupos funcionales mejore la adhesión a la capa metálica.
 Además, aunque los tratamientos de plasma con los tres gases mejoraron
la adhesión, el tratamiento con plasma de O2 y N2 en particular exhibió una
gran mejora en la adhesión.

 Se presume que el tratamiento con plasma de O2 y N2 produjo tal

mejora mediante la introducción de nuevos grupos -OH y el grabado de
la capa superficial misma, mientras que el tratamiento con plasma Ar no
causó cambios en los enlaces químicos y solo ofreció un efecto de
limpieza de la superficie.
Optimización de las condiciones para el tratamiento con plasma.
Para el tratamiento con plasma de O2, que exhibió la mejoría más alta
de la adhesión, se investigó de forma aleatoria tanto la adhesión como la
naturaleza de los enlaces químicos al cambiar las condiciones plasmáticas
de 1.2 kJ a 8.8 kJ para optimizarlas
Fig. 6. Componentes químicos de C1s de superficies de película de LCP no
tratadas y tratadas
Discusión de la estructura y adhesion de la capa LCP
Se muestro los resultados de la observación AES de las superficies fracturadas
de la película LCP y la capa de metal realizada después de una medición de la
resistencia al desprendimiento en dos casos presentados
a) una película no tratada:
 la falla cohesiva para la medición inicial cambió a falla interfaz después de
una prueba de resistencia al calor.
 la película de LCP obtenida mediante el procesamiento en estado fundido
tiende a deslaminarse porque las moléculas de LCP tienden a formar capas
orientadas y por lo tanto, la resistencia del propio material de LCP tiende a
ser débil
b) una película tratada con plasma de O2:
 C permaneció en un cable de Cu de un espesor similar tanto para la
medición inicial como después de la prueba de resistencia al calor y se
descubrió que su estado de falla era falla cohesive.
 la película LCP obtenida mediante el procesamiento en estado fundido
tiende a formar una capa de piel, en la que las moléculas LCP se orientan,
en su superficie.
 a pesar de que la adhesión con la capa metálica aumenta al introducir
grupos funcionales en la capa superficial, la resistencia del material LCP
mismo es débil y la adhesión es muy pobre.
 Ilustración b) una película tratada con plasma de O2
Ilustración Ilustración
1 a) una película no tratada

Se requieren otras medidas como la eliminación de la estructura en capas en

el material y la mejora de la resistencia al desprendimiento entre capas para
mejorar sustancialmente la adhesión de la película LCP
 Para un LCC-metal FCCL en el que se formó la capa metálica después del
tratamiento con plasma de N2 / O2 / Ar a 5.0 kJ, se recoció para examinar
la relación entre la reducción de la cristalinidad líquida causada por el
movimiento térmico de las cadenas principales de LCP y la adhesion. Como
resultado se mejoró la adhesión al recocido a 240 ° C o más, bajo todas las
condiciones de tratamiento con plasma, se encontró que el recocido
durante 10
minutos es
suficiente
para mejorar la
adhesión
en todas las
condiciones
de tratamiento
con plasma,
como se muestra
en la Fig 14