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1. Définition
La jonction PN est créée par la mise en contact d'un semiconducteur de type P et d'un
semiconducteur de type N. C'est la surface de séparation entre ces deux régions.
P N
Fig. 1 Jonction PN
2. Fonctionnement
trou
- - - - + + + +
électron libre électron
minoritaire libre
- - - - + + + +
trou
minoritaire
- - - - + + + +
ion ion de
- - - - + + + +
d'accepteur donneur
Fig. 2 Coupe transversale d'une jonction PN
- - - - + + + +
- - - - + + + +
E
- - - - + + + +
- - - - + + + +
Ces deux charges égales et opposées engendrent un champ électrique E dirigé de N vers P, qui
s'oppose au phénomène de diffusion qui l'a créé.
Ce champ entraîne l'existence d'une différence de potentiel U0 dite tension de diffusion ou tension
seuil ou barrière de potentiel entre les frontières de la ZT (U0 ≈ 0,7V).
Les électrons libres de la région N qui pénètrent dans la ZCE sont soumis à une force électrostatique
répulsive dirigée de P vers N :
ils sont presque tous repoussés dans la région N,
quelques uns ayant acquis une énergie plus grande passent dans la région P malgré la force
répulsive.
Les trous de la région P ont un comportement semblable si bien que la jonction est traversée par un
double déplacement d'ensemble de porteurs majoritaires. Le courant qui en résulte est dit de
diffusion, noté ID et dirigé de P vers N.
Les porteurs minoritaires qui abordent la ZT sont précipités par le champ E dans l'autre région. Il en
résulte un courant IS dit de saturation dirigé de N vers P.
P IS N
Remarque :
• Comme le courant est nul à l'extérieur du cristal, il en est de même du courant à travers la
jonction : ID = IS.
On dit que la jonction est en équilibre ou en circuit ouvert.
• À l'équilibre, on a les expressions suivantes :
kT NA ND 2ε0 εr U0 1 1 U0
U0 = ln d0 = ( + ) E=
q n2i q NA ND d0
Avec k = 1,3810-23
J/K, la constante de Boltzmann
q = 1,6 10-19 C, la charge élémentaire
T(K), la température du semiconducteur en Kelvin
NA(m-3), la concentration en atomes accepteurs
ND(m-3), la concentration en atomes donneurs
ni, la concentration intrinsèque
ε0 = 8,85 10-14 F/m, la permittivité du vide
εr = 12, la permittivité relative du silicium
3. Polarisation
3-1 Polarisation directe
Dans cette polarisation, une tension UPN positive est appliquée à la structure.
Il y a alors diminution du champ dans la ZT et les porteurs majoritaires capables de franchir la jonction
sont plus nombreux. Le courant de diffusion ID devient alors très grand devant le courant de saturation
IS si bien que le courant dans le circuit dit direct et noté Id est tel que :
4. Claquage
En polarisation inverse, une tension appliquée trop importante une augmentation du champ électrique
dans la jonction. Ceci conduit à l'accélération des électrons - trous de la thermo-génération et à
l'augmentation de leur énergie cinétique.
Il y alors création d'autres électrons - trous par chocs et augmentation de leur énergie cinétique à leur
tour. Ce phénomène devient incontrôlable comme un phénomène d'avalanche lorsque la tension
inverse atteint une valeur critique appelée tension de claquage notée UBR.
Dans le cas d'une jonction fortement dopée P et fortement dopée N, la ZCE est très étroite (500 Å) et
le champ électrique très intense (106 V/cm). En polarisation inverse, le champ électrique de la ZCE
est suffisamment intense pour arracher un électron de liaison pour le transformer en électron de
conduction. De plus, il se produit l'effet tunnel, passage d'un électron de valence du côté P vers le
côté N sans franchir la barrière de potentiel. Le courant inverse devient donc important et il est
incontrôlable lorsque la tension inverse atteint un seuil appelé tension Zener (VZ).
EXERCICE I
EXERCICE II
EXERCICE III
Soit une jonction PN à l'équilibre thermodynamique et caractérisée par les données suivantes :
KT
la tension thermique uT = =25,9 mV à T=300K ; NA = 1024m-3 ; U0 = 0,7V; ni = 1016m-3.
q
1. Calculer la concentration en atomes donneurs ND.
2. Déduire la largeur de la ZCE.
3. Calculer le champ à l'intérieur de celle-ci.