Beruflich Dokumente
Kultur Dokumente
FUNDAMENTOS DA ELETRODEPOSIÇÃO
INTRODUÇÃO
TQ - 417
Curitiba
FUNDAMENTOS DA ELETRODEPOSIÇÃO 2
__________________________________________________________________
SUMÁRIO
1- INTRODUÇÃO GERAL 03
3- LEI DE FARADAY 05
4- EFICIÊNCIA DA CORRENTE 07
5- POTENCIAL DO ELETRODO 09
7- POTENCIAL DE ELETRODEPOSIÇÃO 13
8- POLARIZAÇÃO E SOBREPOTENCIAL 15
9.2.4 Formação de Pó 27
FUNDAMENTOS DA ELETRODEPOSIÇÃO 3
__________________________________________________________________
1- INTRODUÇÃO GERAL
A transferência de carga
pode ser um processo catódico
no qual uma espécie é reduzida
pela transferência de elétrons
do eletrodo. Exemplos de tais
reações na tecnologia
eletroquímica incluem:
→ H2 + 2OH −
(1) 2 H2 O + 2e
(2) Cu 2 + + 2e
→ Cu
(3) PbO2 + 4 H + + SO42 − + 2e
→ PbSO4 + 2 H2 O
→ O2 + 4 H +
(4) 2 H2 O − 4e
(5) 2 Cl − − 2 e
→ Cl2
(6) Ce 3+ − e
→ Ce 4 +
(7) Pb + SO42 − − 2e
→ PbSO4
Q a = Qc
FUNDAMENTOS DA ELETRODEPOSIÇÃO 4
__________________________________________________________________
(7) Pb + SO42 − − 2 e
→ PbSO4
e para a eletrólise da água, pela adição das reações (1) e (4), isto é:
→ H2 + 2OH − )x2
(1) (2 H2 O + 2e
→ O2 + 4 H +
(4) 2 H2 O − 4e
Reação Global : 2 H2 O
→ 2 H2 + O2
l
R=ρ ou
a
a
C=k
l
3- LEI DE FARADAY
Q = ∫ Idt = mnF
P
m=
A
EXEMPLOS
It A
P= .
96.500 n
P
L=
ad
FUNDAMENTOS DA ELETRODEPOSIÇÃO 7
__________________________________________________________________
It A
(iii) aplicação da Lei de Faraday, P = . = 0,9877t
96.500 n
4- EFICIÊNCIA DA CORRENTE
q proceso mdep
%= x100 = x100
qteórico mteórico
FUNDAMENTOS DA ELETRODEPOSIÇÃO 8
__________________________________________________________________
- imprecisão no amperímetro;
- CuSO4 150g/l
- H2SO4 50 g/l
5- POTENCIAL DO ELETRODO
Cu 2 + + 2e
→ Cu (reação catódica)
→ Cu 2 + + 2 e (reação anódica)
Cu
2,3RT
E = E o' + log C
nF
FUNDAMENTOS DA ELETRODEPOSIÇÃO 11
__________________________________________________________________
0,059
E = E o' + log C
n
INFORMAÇÕES
a) Troca iônica
→ Zn 2 +
Zn − 2e
Cu 2 + + 2e
→ Cu
b) Descarga de Hidrogênio
c) Banhos Strike
7- POTENCIAL DE DEPOSIÇÃO
8- POLARIZAÇÃO E SOBREPOTENCIAL
a) sobrepotencial de concentração
c) sobrepotencial de ativação
8-2.POLARIZAÇÃO ÔHMICA ηΩ
Quando o eletrodo é recoberto com um filme pouco condutor, tal como
uma camada de óxido, sulfato, sal insolúvel, graxa, gás ou outro material
isolante, ou camada de líquido pouco condutora, a resistência dessas
camadas é diferente da do eletrólito. Isto torna necessário um aumento no
potencial aplicado para o processo de deposição.
8-3.SOBREPOTENCIAL DE ATIVAÇÃO ηa
Existem vários passos envolvidos no processo de eletrodeposição,
começando com o íons hidratado no seio da solução e terminando com o
átomo do metal incorporado á estrutura metálica no catodo. o passo mais
lento irá decidir a taxa global de reação e é chamado de passo determinante.
A lentidão de um passo é equivalente a uma "resistência" oferecida ao
processo de deposição e é observado através de um sobrepotencial. Quando
o passo mais lento é a incorporação do íon à estrutura metálica, tem-se um
sobrepotencial de ativação.
FUNDAMENTOS DA ELETRODEPOSIÇÃO 18
__________________________________________________________________
Desta forma, a taxa da reação estará controlada pela etapa que for mais
lenta e a reação estará controlada ou por Transporte (transporte de massa)
ou por Ativação (transferência de elétrons).
Esta cela contém dois eletrodos, um de trabalho, ET, com menor área e
de material inerte (Platina) e um outro de referência do tipo EHN. A solução
no compartimento do ET é desoxigenada e contém baixas concentrações Co
e CR de espécies eletroativas O e R. Desta forma as características da cela
são determinadas apenas pelas variações das propriedades na superfície do
ET.
RT Co
Eeq = E o ' + ln
nF CR
→ αnF
k = k o exp − E
RT
→ → αnF
i = nF k o Co exp − E
RT
← ← ( 1 − α ) nF
i = nF k o CR exp E
RT
FUNDAMENTOS DA ELETRODEPOSIÇÃO 21
__________________________________________________________________
de forma que a densidade de corrente resultante "i" será dada pela diferença
entre a densidade de corrente de redução e da de oxidação
→ αnF ← (1 − α ) nF
i = nF k o Co exp − E − k o CR exp E
RT RT
→ ←
Como no equilíbrio a corrente resultante é zero tem-se I = I = I 0 , isto é
ic (-) = ia (+) = io , e portanto pode-se obter que a densidade de corrente de
troca que é dada por
→ αnF ← (1 − α ) nF
i0 = nF k o Co exp − E eq = nF k o CR exp E eq
RT RT
αnF (1 − α ) nF
i = i o exp − η − exp η
RT RT
FUNDAMENTOS DA ELETRODEPOSIÇÃO 22
__________________________________________________________________
η = a + b log i
2 , 3 RT 2, 3RT
onde a = log io e b =
αnF αnF
i ∂C
= − Do 0
nF ∂x x = 0
FUNDAMENTOS DA ELETRODEPOSIÇÃO 24
__________________________________________________________________
nFDo Co∞
ilim =
δ
(a) (b)
(c)
nFDo Co∞
ilim =
δ−h
9-2-4 FORMAÇÃO DE PÓ
GALVANOTÉCNICA PRÁTICA,