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Dispositivos de 3 terminais
uso de tenso ou corrente entre 2 dos terminais para controlar a corrente no terceiro terminal. Ii vi Controlador de corrente Operao como chave vO
JFET
JFET Canal N
JFET Canal N
Drain N
Gate
P P Source +
iD
vGS = 0 vGS = -V vGS = -2V vGS = -3V vDS Tenso se pinch off
N +
ro rd (1 VGS
VP
Estrutura do MOSFET
Dimenses: Comprimento do canal (L) = 32nm a 3m (tecnologia atual) W = 20nm a 100m Espessura da camada de SiO2 = 2 a 5nm
R = 1012
Parametros Comprimento do canal Channel Length - (L) Largura do canal Channel Width - (W) Espessura do xido - (tOX) Oxide permittivity (OX) Electron Mobility (n)
lacunas
Lacunas livres repelidas da regio do substrato sob a porta, deixando a regio depleta de portadores. Regio de depleao repleta de ligaes covalentes de cargas negativas associadas aos tomos aceitadores (descoberta por causa das lacunas que foram empurradas para dentro do substrato) Tenso positiva atrai eletrons da regio n+ da fonte e do dreno.
Quando for acumulado um nmero suficiente de eletrons prximos superfcie do substrato sob a porta, uma regio N criada conectando as regies da fonte e do dreno (canal)
Aplicando uma tenso entre dreno e fonte haver circulao de corrente pelo canal devido aos eletrons livres.
Um MOSFET canal N formado em um substrato tipo P. O canal criado pela inverso da superfcie do substrato do tipo P para o tipo N. O canal muitas vezes chamado de canal de inverso e o MOSFET chamado de MOSFET de inverso.
O valor mnimo de tenso VGS na porta para formar o canal chamada tenso de limiar(threshold - VT) e da ordem de 0,5V a alguns volts.
Porta e canal formam um capacitor de placas paralelas campo eltrico atua na direo vertical controlando a quantidade de cargas no canal determina a condutividade (que circula pelo canal).
Condutncia do canal proporcional ao excesso de tenso (VGS VT), tambm conhecida como tenso efetiva ou sobretenso de conduo - VOV).
RON
Atenuador
Filtro ativo
CAG
A tenso ao longo do canal aumenta a partir da fonte (S), 0V, at o dreno (D), VDS, portanto o canal no mantem uma profundidade uniforme ao longo do seu comprimento, estreitando-se medida que se paroxima do Dreno (resistividade vai aumentando medida que se aproxima do Dreno).
No final do canal, prximo ao Dreno, a profundidade diminui para prximo de zero (diz-se que o canal est estrangulado pinched off) Aumentando VDS alm desse valor, o efeito pequeno sobre a forma do canal e a corrente do canal se mantm constante a partir de Vds = VGS - VT
Vgs < VT - Regio de corte MOSFET no conduz VT < VDS < Vgs - VT Regio de triodo Para baixos valores de VGS o MOSFET opera como um resistor VDS > Vgs VT Regio de saturao iD permanece constante independente do valor de VDS
Provinha Considere um transistor NMOS tipo enriquecimento com VT = 2,5 V. Preencha a tabela abaixo indicando em que regio o transistor est operando (triodo, saturao, transio (ou limiar), corte).
VGS (V) VDS (V) Regio de operao 4,5 0,8 3,0 0,5 -7,0 -9,5 2,8 2,0 1,7 14 6,0 2 7,5 5,0 3,0 5,0 -1,0 -2,0