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Johannes Zarfl
johannes.zarfl@psi.ch
Tel.: 056 310 4195
Elektrolyse / Galvanotechnik
Aufgabe 1
a) 2 Cl- Cl2(g) + 2 e-
R T 1 0.059 1
E Cl / Cl E 0 2.303 lg 1.37 lg 1.33 V
zF cCl 1 5
-
Na+ + e Na (Hg)
c Na gew %
1000 100013.546 0.002
c Na( Hg ) 100 1.178 mol /l
M Na 23
RT c 0.059 5
E Cl /Cl E 0 2.303 lg Na 1.87 log 1.83 V
z F c Na 1 1.178
Zellspannung : Ez=1.33- (- 1.83) = 3.16 V
b) 2 Cl- Cl2(g) + 2 e-
c g / l 200
c NaCl
Cl
3.42 mol / l
M NaCl 58.5
R T 1 0.059 1
ECl / Cl E 0 2.303 lg 1.37 lg 1.34 V
zF cCl 1 3.42
- -
2 H2O + 2 e H2 (g) + 2 OH
R T 1 0.059 1
EOH / H E 0 2.303 lg 0.83 lg 0.86 V
2
zF cOH 1 3.2
1
Alternative Möglichkeit :
Berechnung der H3O+ Konzentration über die Dissoziation des Wassers und
anschließende Berechnung der Elektrolyse des H3O+
-
2 H2O <=> H3O+ + 2 OH
-
2 H3O++ 2e H2
a H O a HO K w
3
Kw 1 10 14
aH O 3.125 10 15
3
a HO 3,2
R T cH O 0.059
E H O / H E 0 2.303 lg 3 0 lg(3.125 10 15 ) 0.86 V
3 2
zF 1 1
Aufgabe 2
c) Wie gross ist das Volumen des entstehenden Gases (CO 2) unter
Standardbedingungen (T = 0 °C, p = 1013.25 hPa)
V = ¾ × 3.704×106 mol × 22.4 l/mol = 62 200 m3
(Falls Bildung von CO angenommen: V = 6/4 × 3.704×10 6 mol × 22.4 l/mol = 124 000 m3)
d) Die theoretische Spannung zwischen den Elektroden beträgt 1.18 V. Weshalb wird im
industriellen Prozess eine Zellspannung von 4.3 V verwendet ?
Antwort: Bei Berücksichtigung von elektrochemischer Überspannung und des Ohmschen
Spannungsabfalls (Elektrolyt, Elektroden) ist eine höhere Zellspannung notwendig.
2
e) Zu Beginn des 20. Jahrhunderts wurde der Hall-Heroult-Prozess mit bis zu 7 V
durchgeführt. Wie konnte die Überspannung reduziert werden?
Antwort: Vorwiegend durch Verbesserung von Elektrolyten und Elektrodenmaterialien,
aber auch durch optimierte Prozessbedingungen. Durch verkürzte Elektrodenabstände
konnte auch der Ohmsche Spannungsabfall verringert werden.
Aufgabe 3
Eine Mikrostruktur soll durch Galvanisieren mit Kupfer beschichtet werden. Eine flache
Platte bildet die Anode. Der Elektrolyt sei ein guter, aber kein perfekter Leiter.
Beschreiben Sie die Schichtdickeverteilung innerhalb einer Vertiefung der Mikrostruktur
für den Fall dass
b) mit einem gepulsten Strom beschichtet wird. Warum führt ein gepulster Strom zu
einer anderen Schichtdickeverteilung?
→ Durch einen gepulsten Strom lässt sich eine gleichmässigere Beschichtung
realisieren, da sich die Ionenkonzentration in den Vertiefungen wieder der Umgebung
angleichen kann, wenn kein Strom fliesst.
3
Statt einer Mikrostruktur soll ein Würfel beschichtet werden. Berechnen Sie welche
Stromstärke bei Verwendung eines optimalen Elektrolyten notwendig ist, um eine
gleichmäßige Kupferbeschichtung von 0.2 mm Dicke innerhalb einer Stunde zu erreichen.
Die Gesamtfläche beträgt 2 m². (ρ(Cu) = 8.92 g/cm³)
Berechnete Stromstärke: