Plasmaverfahren zur Herstellung von dünnen

Schichten zur Oberflächenfunktionalisierung

Schwerpunkt: Vakuum- und Dünnschichttechnologie - PVD Technologien

Dr. Georg Strauss

MCT – Material Center Tirol
Universität Innsbruck, Institut für Konstruktion und Materialtechnologie
Technikerstr. 13, 5.Stock
E: georg.strauss@uibk.ac.at, m: 0664 255 4847

Inhaltsübersicht

1. Einführung in die Vakuumtechnik

1.1. Vakuum und vakuumtechnische Größen
1.2. Physikalische Größen und Einheiten
1.3. Pumpen und Pumpsysteme
1.4. Vakuumdruckmessung
1.5. Moderne Anwendungen der Vakuumtechnik

2. Grundlagen der Dünnschichttechnologie

2.1. Einführung und Definitionen
2.2. Typische Anwendungsgebiete
2.3. Überblick - Technologien
2.4. Plasma und Plasmatechnologien
2.5. Überblick – Funktionalisierung von Oberflächen

3. PVD – Physical Vapour Deposition

3.1. Aufdampfen (Evaporation)
3.2. Sputtertechnologien
3.3. Arc-Source Beschichtung
3.4. Industrielle Ausführungen von PVD Systemen

4. Reinigung und Vorbehandlung von Oberflächen

5. Materialien für die Dünnschichttechnologie

5.1. Vakuummaterialien
5.2. Beschichtungsmaterialien: Aufdampfen, Targets
5.3. Substratmaterialien

6. Eigenschaften dünner Schichten

6.1. Optische Eigenschaften
6.2. Mechanische Eigenschaften
6.3. Elektrische und magnetische Eigenschaften
6.4. Spezielle Oberflächeneigenschaften

7. Anwendungen der Dünnschichttechnologie

7.1. Optische Schichtsysteme und deren Anwendung
7.2. Tribologische Anwendungen
7.3. Dekorative Anwendungen
7.4. Hartstoffschichten für Werkzeuge