Thermochemische Oberflächenbehandlung

52
Thermochemische Oberflächenbehandlung

53
Thermochemische Oberflächenbehandlung

54
Thermochemische Oberflächenbehandlung

Gasnitrieren Plasmanitrieren 55
 Thermochemische Oberflächenbehandlung

Verfahren Einsatzstoffe Eingelagerte Temperatur-

Elemente bereich [°C]
Gasnitrieren NH3 N, H 500 – 520
NH3 + dissoz. NH3 N, H 500 – 520
NH3 + O2 N, O, H 500 – 580
Plasmanitrieren N 2, H 2 N, H 450 – 560
Gasnitrocarburieren
Nikotieren NH3 + Endogas N, C, O, H 550 – 630
Nitroc NH3 + Exogas (CO2) N, C, O, H 550 – 630
Deganit NH3 + Exo-/Endogas N, C, O, H 550 – 630
Plasmanitrocarburieren N2, H2, CH4 N, C, H 550 – 630

56
Thermochemische Oberflächenbehandlung
Zeitlicher Ablauf des Gasnitrierens

57
Thermochemische Oberflächenbehandlung
Wie kommt der Stickstoff in die Oberfläche? (Chemie)

58
Thermochemische Oberflächenbehandlung
Wie kommt der Stickstoff in die Oberfläche? (Geometrie)

59
Thermochemische Oberflächenbehandlung

60
 Thermochemische Oberflächenbehandlung
Möglichkeiten der Prozesssteuerung
hier: Nitrieren (andere Gase sinngemäß)

Verfahren Art der Atmosphärensteuerung Verbindungsschicht

Gasnitrieren Ungesteuert (Gasfluss konstant) dick (20 – 40 µm), g‘ + e
Dissoziationsgrad überwachen
Dissoziationsgradsteuerung dünner (5 – 15 µm), g‘
Nitrierkennzahlregelung dünn, z.B. 5 µm, g‘
Lehrer-Diagramm
Plasmanitrieren Ungesteuert (Gasfluss konstant) variabel durch
Plasma pulsmoduliert Modulation

61
Thermochemische Oberflächenbehandlung
Steuerung:
Dissoziationsgrad
Regelung:
Nitrierkennzahl
(Massenwirkungsgesetz)

62
Thermochemische Oberflächenbehandlung
Thermodynamik (Phasendiagramme, Wahl der Variablen)

63
Thermochemische Oberflächenbehandlung

64
Thermochemische Oberflächenbehandlung
g‘ – Fe4N

e – Fe3N
q – Fe3C
65
Thermochemische Oberflächenbehandlung
Kinetik (Diffusion, parabolisches Schichtwachstum, MWG)

66
Thermochemische Oberflächenbehandlung
Kinetik (Prozesssteuerung, Gefügeentwicklung)

67
Thermochemische Oberflächenbehandlung
Plasmanitrieren
 Aufbau
 Ablauf
 Gefüge

68
Thermochemische Oberflächenbehandlung

Reineisen

nitriert (kurz)

nitriert (lang)

69
Thermochemische Oberflächenbehandlung
Gefügeausbildung und Zusammensetzung

70
Thermochemische Oberflächenbehandlung

71
Thermochemische Oberflächenbehandlung

72
Thermochemische Oberflächenbehandlung
Unlegierter Stahl Legierter Stahl

73
Thermochemische Oberflächenbehandlung

74
Thermochemische Oberflächenbehandlung

75
Thermochemische Oberflächenbehandlung
Ionenimplantation
 Hohe kinetische Energie (ca. 100 keV)
 Eindringen in Werkstückoberfläche (≤ 500 nm)
 Hohe lokale Konzentrationen (bis 50 at.%)
 Zwangslösungen (übersättigter Zustand)
 Metastabile chemische Verbindungen (z.B. FeN, NaCl-Typ)
 Dünne Schichten (≤ 500 nm)
 Kaum Gefahr der Ablösung der Schicht
 Praktisch kein Verzug des Bauteils
 Anleihe aus Halbleitertechnik
 Lithographie: ortsaufgelöstes Target (selektive Behandlung)
 Anreichern, Legieren, Mischen

76
Thermochemische Oberflächenbehandlung

77
Thermochemische Oberflächenbehandlung

78
Thermochemische Oberflächenbehandlung

79
Vergleich Behandlung und Beschichtung

80
Vergleich Behandlung und Beschichtung
Behandlungen
 Mechanisch: Kaltverfestigung, Eigenspannung
 Thermisch: Umwandlungshärten (Martensit)
 Thermochemisch: Diffusion, Verbindungsbildung

Beschichtung
 Gasphase
 Aufdampfen
 Sputtern
 Chemische Dampfabscheidung
 Flüssige Phase
 Elektrolyt
 Feste Phase
81
Vergleich Behandlung und Beschichtung
Beschichtungen: Beispiele

82
Vergleich Behandlung und Beschichtung
Beschichtungen: Haftung auf Substrat

83
Physikalische Dampfabscheidung
Dampferzeugung

Thermisch
 Verdampfen
 Phasenumwandlung, Partialdruck, Maxwell-Boltzmann

Atomare Mechanik (Ballistik)

 Zerstäuben (Sputtern)
 Kinetische Energie (eU > kT), Impulsübertrag

84
Physikalische Dampfabscheidung
Maxwell-Boltzmann
 Geschwindigkeitsverteilung
 Partikeldichte
 Impulsübertrag
 Druck
 Stoßzeiten
 Freie Weglänge

85
Physikalische Dampfabscheidung
Was ist Vakuum?

86
Aufdampfen
Dampferzeugung
 Thermische
Dampfquellen
 Siedetemperatur
 Hochvakuum
 Freie Weglänge
 Agglomeration
vermeiden
 Kontamination
vermeiden
 Geometrie
beachten
(Ballistik)
87
Aufdampfen: Schichtbildung

88
Aufdampfen
Schichterzeugung
 Diffusion auf
Oberfläche
 Keimbildung
Kristall
 Diffusion in
Volumen
 Gefüge

 Flugbahnen
und getroffene
Orte (Ballistik)
 Streufähigkeit
89
Aufdampfen
Gleichmäßigkeit Schichtdicke und Gefüge

90
Aufdampfen

91
Aufdampfen
Dampferzeugung: Thermodynamik und Kinetik

92
Aufdampfen
Dampferzeugung: Technische Größen

93
Aufdampfen
Homogene Legierungsschichten
 Problematik der Partialdrücke und Verdampfungsraten
 Mehrere Tiegel & Bewegung (Mittelwert)
 Kleiner Schmelzvorrat (Fließgleichgewicht)

94
Aufdampfen
Homogene
Legierungsschichten
 Flash-Verdampfung
(sehr kleiner
Schmelzvorrat)

95
Aufdampfen: Folienbeschichtung

96
Aufdampfen
Folien
 Quellen
 Drücke
 Dichtungen
 Dreck

97
Physikalische Dampfabscheidung
Dampferzeugung

Thermisch
 Verdampfen
 Phasenumwandlung, Partialdruck, Maxwell-Boltzmann

Atomare Mechanik (Ballistik)

 Zerstäuben (Sputtern)
 Kinetische Energie (eU > kT), Impulsübertrag

98
Dampfabscheidung
Beschuss einer Oberfläche
 Target: Teilchen freisetzen
 Substrat: Schicht erzeugen

99
Dampfabscheidung
Mobilität im Plasma
 Gase (neutral)
 Ionen
 Elektronen

100
Dampfabscheidung
Plasma und Glimmentladung

101
Dampfabscheidung
Plasma und Glimmentladung

102