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Motivation Methoden
Hochabsorbierende Schichten werden in vielen technologischen
Bereichen, z.B. der Streulichtreduktion, der Thermophotovoltaik, ▪ Beschichtung mittels Atomlagenabscheidung (ALD)
als optische Filter oder in optoelektronischen Bauteilen, benötigt. ▪ Charakterisierung der Einzelmaterialien zur Ermittlung
Sie können mit strukturierten Oberflächen oder Metall-Isolator der optischen Konstanten n, k und der Wachstumsraten
Schichtsystemen realisiert werden. Strukturierte Oberflächen sind ➢ Spektralellipsometrie
mit einer aufwendigen und teuren Fertigung verbunden und ➢ Spektralphotometrie
sollen deshalb vermieden werden. ➢ Weißlichtinterferometrie (WLI) Abbildung 1: ALD-Zyklus zur Herstellung von Iridiumschichten
Designerstellung
Ergebnisse
▪ Nukleation des Iridiums auf Al2O3 nur schwer kontrollierbar
Wellenlänge [nm]
S-TA041_132_Q1 1800-2200 nm 99,5 %
Abbildung 4: Untersuchung des Einflusses des Einfallswinkels auf die Absorption
der Probe mit 220 Zyklen Iridium, welche die höchste Absorption aufweist.
Abbildung 5: Verschiebung des Absorptionsbandes in andere Wellenlängenbereiche durch Variation der Schichtdicken des Al2O3 und TiO2.
Die Tabelle gibt die mittlere Absorption je einer Probe für die verschiedenen Spektralbereiche mit einer Ungenauigkeit von 0,3 % an.